| 低能离子束轰击对Ti和Ti—N膜组织与性能的影响 |
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| 引用本文： | 曾鹏 胡社军 等. 低能离子束轰击对Ti和Ti—N膜组织与性能的影响[J]. 稀有金属材料与工程, 2002, 31(3): 175-178 |
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| 作者姓名： | 曾鹏 胡社军 等 |
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| 作者单位： | 广东工业大学,广东,广州510643 |
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| 基金项目： | 广东省高教厅基金项目 (970 0 3 2 ) |
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| 摘 要： | 研究了用能量为3．0keV－4．0keV，束流为80mA－200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti－N膜层辅助沉积作用。结果表明：用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2N相，在（204）晶面出现一定的择优取向，并对Ti膜层有一定的强化作用；在低能氮离子束对真空电弧辅助沉积过程中，膜层表现为较高的显微硬度；随低能离子束能量的增大，真空电弧沉积膜层中Ti2N相增多，在（002）晶面出现择优取向，膜层晶粒有粗化的趋势，但显微硬度却增加，这与Hall-Petch公式不符。
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| 关 键 词： | 低能离子束轰击 IBAD 真空电弧沉积 组织结构 显微硬度 钛膜 氮化钛膜 |
| 文章编号： | 1002-185X(2002)03-0175-04 |
| 修稿时间： | 2000-11-24 |
The Influence of Low-Energy Ion Beams Bombardment on Microstructure and Properties of Ti and Ti-N Films |
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| Zeng Peng,Hu Shejun,Xie Guangrong,Huang Nacan,Wu Qibai. The Influence of Low-Energy Ion Beams Bombardment on Microstructure and Properties of Ti and Ti-N Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2002, 31(3): 175-178 |
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| Authors: | Zeng Peng Hu Shejun Xie Guangrong Huang Nacan Wu Qibai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | low energy ion beam IBAD vacuum arc deposition(VAD) microstructure microhardness |
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