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| Mo靶材组织对溅射薄膜形貌及性能的影响 | |
| 引用本文： | 刘仁智,孙院军,王快社,安 耿,李 晶,王引婷.Mo靶材组织对溅射薄膜形貌及性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2012,41(9):1559-1563. |
| 作者姓名： | 刘仁智 孙院军 王快社 安 耿 李 晶 王引婷 |
| 作者单位： | 1. 西安建筑科技大学,陕西西安710055;金堆城钼业股份有限公司,陕西西安710075 2. 金堆城钼业股份有限公司,陕西西安,710075 3. 西安建筑科技大学,陕西西安,710055 |
| 摘 要： | 将4种组织差异较大的钼靶材在同一溅射设备,同一溅射工艺下进行磁控溅射试验,对溅射后的靶材表面及薄膜表面、截面形貌及方阻进行检测,讨论并分析靶材微观组织对溅射过程及薄膜形貌、晶向、导电性能的影响.结果表明,不同组织靶材溅射的薄膜表面及截面形貌差异较小；靶材80％的晶粒尺寸小于50 μm时,溅射薄膜沉积速率较快,方阻值的变化较小,薄膜厚度较均匀；钼靶材溅射薄膜的择优均为(110)取向,靶材组织对溅射薄膜的取向影响不大；靶材组织的晶粒均匀细小,晶界所占面积率越大,靶材减薄越均匀,靶材利用率越高. |
| 关 键 词： | 钼靶材 溅射薄膜 形貌 方阻 |
| 收稿时间： | 2011/9/13 0:00:00 |
Influence of Mo Target Microstructure on the Morphology and Properties of Sputtered Films |
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| Liu Renzhi,Sun Yuanjun,Wang Kuaishe,An Geng,Li Jing and Wang Yinting.Influence of Mo Target Microstructure on the Morphology and Properties of Sputtered Films[J].Rare Metal Materials and Engineering,2012,41(9):1559-1563. | |
| Authors: | Liu Renzhi Sun Yuanjun Wang Kuaishe An Geng Li Jing and Wang Yinting |
| Affiliation: | 1. Xi’an University of Technology and Architecture, Xi’an 710055, China)(2. Jinduicheng Moly Co., LTD, Xi’an 710075, China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | Mo target sputtered film morphology square resistance |
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