超导射频腔用铌材的表面化学抛光技术 |
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引用本文: | 陈向林,唐县娥,法涛,邹东利,白彬,蒙大桥.超导射频腔用铌材的表面化学抛光技术[J].稀有金属材料与工程,2018,47(8):2472-2476. |
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作者姓名: | 陈向林 唐县娥 法涛 邹东利 白彬 蒙大桥 |
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作者单位: | 中国工程物理研究院 |
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基金项目: | 中国科学院先导专项基金资助(项目号XDA03020702) |
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摘 要: | 通过分析化学抛光过程中铌材的抛光速率、表面形貌和氧化状态等参数,确定了超导腔用铌材的表面化学抛光工艺:混合酸(HNO_3:HF:H_3PO_4=1:1:2,体积比)为适合的抛光试剂,抛光速率方程为h=29.359t 0.9247,抛光6~15 min可移除厚度154~360μm,表面粗糙度Ra小于0.65μm,表面Nb_2O_5层厚度小于10 nm。同时,利用电子背散射衍射技术(EBSD)结合表面形貌讨论了化学抛光机制,发现机加纹路消除后继续延长抛光时间,晶粒内高指数晶面(原子疏排面)会被优先抛光,从而在晶界处形成较深的沟槽,在晶粒内出现尖锐突起。
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关 键 词: | 超导铌腔 化学抛光 表面状态 |
收稿时间: | 2016/8/31 0:00:00 |
修稿时间: | 2016/10/26 0:00:00 |
Chemical Polishing of Niobium for Superconducting Radio Frequency Cavity |
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Affiliation: | China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics |
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Abstract: | |
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Keywords: | SRF cavity chemical polishing surface state |
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