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Cu含量对Ti-Al-Si-Cu-N纳米薄膜结构及高温抗氧化性能的影响
引用本文:冯长杰,陈恩,吴娜梅,李明升,江鸢飞,袁烁.Cu含量对Ti-Al-Si-Cu-N纳米薄膜结构及高温抗氧化性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2017,46(3):627-633.
作者姓名:冯长杰  陈恩  吴娜梅  李明升  江鸢飞  袁烁
作者单位:南昌航空大学材料科学与工程学院,南昌航空大学,南昌航空大学,江西科技师范大学,南昌航空大学,南昌航空大学
基金项目:国家自然科学基金项目(面上项目,重点项目,重大项目)
摘    要:本文通过磁控溅射技术,在AISI-304不锈钢表面制备了不同Cu含量的Ti-Al-Si-Cu-N纳米复合涂层。通过扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)、纳米压痕仪和自制压痕仪等设备研究了Ti-Al-Si-N 和 Ti-Al-Si-Cu-N 纳米复合涂层的结构和在800℃氧化的行为。研究结果表明:随着涂层中Cu含量的增加,涂层表面的微孔数量减少,涂层更加致密,涂层晶粒尺寸减小,择优取向由(111)向(110)逐渐转变。涂层的硬度由14.76 GPa 增加至19.42 GPa。Cu含量为1.72 at%的Ti-Al-Si-Cu-N 弹性模量最小,为104.5 GPa。 Cu元素对Ti-Al-Si-Cu-N纳米复合涂层抗氧化性能有两方面:一是促进Al元素的扩散,二是在氧化膜表面形成裂纹和微孔缺陷。Ti-Al-Si-N 涂层比Ti-Al-Si-Cu-N涂层具有更好的抗氧化性能。

关 键 词:磁控溅射技术  Ti-Al-Si-Cu-N薄膜  高温抗氧化性能  氧化性
收稿时间:2014/11/27 0:00:00
修稿时间:2016/3/17 0:00:00

Effects of Cu content on microstructure and high-temperature oxidation behavior of Ti-Al-Si-Cu-N nanocomposite films
fengchangjie,chenen,wunamei,limingsheng,jiangyuanfei and yuanshuo.Effects of Cu content on microstructure and high-temperature oxidation behavior of Ti-Al-Si-Cu-N nanocomposite films[J].Rare Metal Materials and Engineering,2017,46(3):627-633.
Authors:fengchangjie  chenen  wunamei  limingsheng  jiangyuanfei and yuanshuo
Affiliation:Materials Science and Engineering, Nanchang Hangkong University,Nanchang Hangkong University,Nanchang Hangkong University,Jiangxi Science and Technology Normal University,Nanchang Hangkong University,Nanchang Hangkong University
Abstract:
Keywords:reactive magnetron sputtering technology  Ti-Al-Si-Cu-N films  high temperature oxidation resistance  oxide
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