| 碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析 |
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| 引用本文： | 闫国庆,陈洋,吴明,彭家庆,王力军.碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析[J].稀有金属材料与工程,2016,45(12):3302-3305. |
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| 作者姓名： | 闫国庆 陈洋 吴明 彭家庆 王力军 |
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| 作者单位： | 北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学资助(项目号51404034) |
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| 摘 要： | 采用碳酰胺高温分解产生含C、O、N源与氢化锆原位反应制备阻氢渗透层,借助俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)等手段对阻氢渗透层元素成分及深度、键态进行分析。AES结果表明:氢化锆表面原位反应层由C、N、O、Zr元素组成,随溅射时间增加,O、Zr元素含量增加,C、N元素含量降低。原位反应层厚度约3.4μm,其中含N、C层深度约150 nm。氢化锆表面阻氢渗透层XPS分析表明,表面层存在ZrO_2,同时有Zr-OH、Zr-N、C-H、N-H键。氢在扩散过程中被C、O、N捕获表明含C、O、N的氢化锆表面原位反应层对氢的渗透有一定的阻碍作用。
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| 关 键 词： | 氢化锆 阻氢渗透层 碳酰胺 XPS AES |
| 收稿时间： | 2016/1/25 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2016/5/17 0:00:00 |
Investigation of Coatings Formed by Reaction Urea and Zirconium Hydride at High Temperature by AES and XPS Technique |
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| Yan Guoqing,Chen Yang,Wu Ming,Peng Jiaqing and Wang Lijun.Investigation of Coatings Formed by Reaction Urea and Zirconium Hydride at High Temperature by AES and XPS Technique[J].Rare Metal Materials and Engineering,2016,45(12):3302-3305. |
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| Authors: | Yan Guoqing Chen Yang Wu Ming Peng Jiaqing and Wang Lijun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | zirconium hydride hydrogen resistant coating urea auger electron spectroscopy x-ray photoelectron spectroscopy ________________________ |
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