| 辐射致冷用氮化硅薄膜的微观结构和光学性质 |
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| 引用本文： | 梁宗存,沈辉,李戬洪.辐射致冷用氮化硅薄膜的微观结构和光学性质[J].太阳能学报,2001,22(3):302-305. |
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| 作者姓名： | 梁宗存 沈辉 李戬洪 |
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| 作者单位： | 中国科学院广州能源研究所,广州,510070 |
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| 摘 要： | 采用射频等离子体化学气相沉积（PECVD）法制备了SiNx薄膜，用X－射线荧光光谱，红外吸收光谱，红外反射光谱以及扫描电镜对薄膜的成分，结构，表面形貌和光学性质进行了步研究，X－射线荧光分析表明SiNx薄膜的组成为SiN0.35，从红外透过光谱可见，氮参加了反应并生成Si-N键，薄膜中有少量的Si－H键和N－H键，红外反射光谱表明SiN0.35薄膜是非常好的窗口材料，在8－13um波段内具有很低的反射率，8－13um波段外反射率高，适合制备辐射制冷体，SEM观察结果对薄膜的表面形态和生长机量给予了初步解释。
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| 关 键 词： | 氮化硅薄膜 辐射致冷 微观结构 光学性质 |
| 文章编号： | 0254-0096(2001)03-0302-04 |
| 修稿时间： | 2000年4月3日 |
MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF SILICON NITRIDE THIN FILMS AS RADIATIVE COOLING MATERIALS |
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| Liang Zongcun,Shen Hui,Li Jianhong.MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF SILICON NITRIDE THIN FILMS AS RADIATIVE COOLING MATERIALS[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2001,22(3):302-305. |
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| Authors: | Liang Zongcun Shen Hui Li Jianhong |
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| Keywords: | silicon nitride films structure reflectance radiative cooling |
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