| 同步辐射光刻技术研究进展 |
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| 引用本文： | 陈大鹏,叶甜春,谢常青,李兵,董立军,胥兴才,赵玪莉,韩敬东,彭良强,伊福庭,韩勇,张菊芳.同步辐射光刻技术研究进展[J].核技术,2002,25(10):817-821. |
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| 作者姓名： | 陈大鹏 叶甜春 谢常青 李兵 董立军 胥兴才 赵玪莉 韩敬东 彭良强 伊福庭 韩勇 张菊芳 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院微电子中心,北京,100010
2. 中国科学院高能物理研究所,北京,100039 |
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| 摘 要： | 光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展。
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| 关 键 词： | 同步辐射 光刻技术 研究进展 X射线光刻 掩模 集成电路 制造 |
| 修稿时间： | 2002年8月10日 |
Investigation on synchrotron radiation lithography technology |
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| CHEN Dapeng YE Tianchun XIE Changqing LI Bing,DONG Lijun XU Xingcai ZHAO Lingli HAN Jingdong.Investigation on synchrotron radiation lithography technology[J].Nuclear Techniques,2002,25(10):817-821. |
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| Authors: | CHEN Dapeng YE Tianchun XIE Changqing LI Bing DONG Lijun XU Xingcai ZHAO Lingli HAN Jingdong |
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| Abstract: | Lithography technique has been the key point to push forward the USL fabricator. X-ray lithography (XRL) is one of the next generation lithography techniques (NGL), which has the probability of industrialization. The mask technique is the crux cell. This paper reports the latest development of XRL and mask fabricator technique in BSRF. |
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| Keywords: | Lithography X-ray lithography NGL Mask |
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