| 锗基石墨烯能带加工:锰合金化插层 |
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| 引用本文： | 崔奋为,胡旭东,朱海龙,黄本锐,马妮,李昂.锗基石墨烯能带加工:锰合金化插层[J].核技术,2019,42(8). |
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| 作者姓名： | 崔奋为 胡旭东 朱海龙 黄本锐 马妮 李昂 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海 200050;中国科学院大学 北京 100049;中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海 200050;上海科技大学物质科学与技术学院量子电子学联合实验室 上海 201210 |
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| 摘 要： | 在石墨烯或其异质结中引入带隙是石墨烯能带工程研究的重要课题。借助合金化的方法在石墨烯和锗Ge(110)]衬底之间成功插入二维Mn-Ge合金岛,并对此异质结构开展微观原子结构及低能电子激发的扫描隧道显微学研究。在不同石墨烯覆盖度的样品中,发现了一维纳米线和二维平板合金岛插层,在缺乏石墨烯保护的合金表面,二维合金岛可以恢复三维生长。Mn-Ge合金纳米线和二维岛插层使石墨烯分别打开了400 meV和200 meV的能隙,为改变石墨烯的能带结构提供了可行的方法。
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| 关 键 词： | 石墨烯 扫描隧道显微镜 插层 能带工程 |
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