| 电喷涂制备薄靶 |
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| 引用本文： | 许国基,罗兴华.电喷涂制备薄靶[J].原子能科学技术,1986(2). |
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| 作者姓名： | 许国基 罗兴华 |
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| 作者单位： | 中国原子能科学研究院 北京
(许国基)，中国原子能科学研究院 北京(罗兴华) |
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| 摘 要： | 用一简易的电喷装置制备了各种粉末材料靶,靶衬为薄的金、铝和碳膜,靶的厚度范围为0.03—2 mg/cm~2。靶的均匀性用α测厚仪测量,在多数情况下,它小于8%。制备粉末材料靶的关键是选择针头尺寸、针头电压和准直板电压。
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| 关 键 词： | 电喷涂 有衬底靶 |
PREPARATION OF THIN TARGETS WITH ELECTROSPRAYING |
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| XU GUOJI,LUO XINGHUA Institute of Atomic Energy,P. O. Box ,Beijing.PREPARATION OF THIN TARGETS WITH ELECTROSPRAYING[J].Atomic Energy Science and Technology,1986(2). |
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| Authors: | XU GUOJI LUO XINGHUA Institute of Atomic Energy P O Box Beijing |
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| Affiliation: | XU GUOJI,LUO XINGHUA Institute of Atomic Energy,P. O. Box 275,Beijing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Electrospraying Targets on backing foils |
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