| 偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响 |
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| 引用本文： | 吕学超,汪小琳,鲜晓斌,郎定木,董平.偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响[J].原子能科学技术,2003,37(Z1):121-125. |
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| 作者姓名： | 吕学超 汪小琳 鲜晓斌 郎定木 董平 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900 |
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| 摘 要： | 分别用扫描电镜、X射线衍射仪和应力分析仪研究了5种不同偏压的施加对铀上磁控溅射铝镀层微结构和残余应力的影响.结果表明,偏压强烈影响镀层的组织.-300V下的组织致密性最差,低偏压下的优于未加偏压(0 V)的;偏压在-200 V及以下时的铝镀层择优取向于(111)低能晶面,高于-200 V时,择优取向由(111)转变为(200)晶面.不同偏压条件下制备的铝镀层的残余应力均较小,为数十MPa量级,但随着偏压的逐渐增加,残余应力由拉应力向压应力转变.
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| 关 键 词： | 偏压 镀层 微结构 残余应力 |
| 文章编号： | 1000-6931(2003)S0-0121-05 |
| 修稿时间： | 2003年1月22日 |
Influence of Bias Voltages on Microstructures and Residual Stress of Aluminum Coatings on Uranium Substrate |
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