基于高光谱成像技术无损检测苹果表面缺陷

基于高光谱成像技术结合模式识别,建立了苹果表面缺陷识别模型。首先,利用高光谱图像采集系统采集完好无损和表面有缺陷苹果的高光谱图像,提取感兴趣区域的平均光谱反射率;然后,比较标准正态变换(SNV)和多元散射校正(MSC) 2种光谱预处理方法对建模效果的影响,得出MSC为建模最优预处理方法。最后,采用主成分分析法选择累计贡献率超过99%的前5个主成分作为样本集特征光谱数据,分别建立了基于K最近邻(KNN)模式识别和偏最小二乘判别分析(PLS-DA)识别模型。结果表明:光谱经MSC预处理后,基于PLS-DA建立的识别模型对校正集和检验集识别率均达到100%,表明基于高光谱成像技术结合模式识别可实现苹果表面缺陷的无损检测。