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| 金刚石薄膜与W、WC-6%Co基体间的界面结构研究 | |
| 引用本文： | 黄树涛,于骏一,姚英学,袁哲俊.金刚石薄膜与W、WC-6%Co基体间的界面结构研究[J].中国机械工程,2000,11(12):1398-1400. |
| 作者姓名： | 黄树涛 于骏一 姚英学 袁哲俊 |
| 作者单位： | 1. 沈阳工业学院,沈阳市 110015 2. 吉林大学 长春市 130025 3. 哈尔滨工业大学,哈尔滨市 150001 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(59375215) |
| 摘 要： | 应用X射线衍射、X－光电子谱和扫描电镜研究了金刚石薄膜与W、WC－6％Co硬质合金基体间的界面结构。指出在W基体和金刚石薄膜之间存在W的碳化物界面，WC－6％Co硬质合金经表面腐蚀去Co处理后仍能形成不连续非金刚石碳界面。 |
| 关 键 词： | 化学气相沉积 金刚石薄膜 界面 附着强度 硬质合金 |
| 文章编号： | 1004-132(2000)12-1398-03 |
Study on the Interfaces Infrastructure between Diamond Film and the W and WC-6% Co Substrate |
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