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化学机械抛光中的纳米级薄膜流动
引用本文:张朝辉,雒建斌,雷红.化学机械抛光中的纳米级薄膜流动[J].中国机械工程,2005,16(14):1282-1285.
作者姓名:张朝辉  雒建斌  雷红
作者单位:1. 北京交通大学,北京,100044
2. 清华大学摩擦学国家重点实验室,北京,100084
3. 上海大学,上海,200436
基金项目:国家自然科学基金资助重大项目(50390060),北京交通大学“十五”项目(2004SM041)
摘    要:在简述化学机械抛光技术的基础上,提出化学机械抛光过程中,受载的粗糙峰和被抛光的晶片表面之间存在一纳米量级的薄流体膜,形成了纳米级薄膜流动系统。指出对纳米级流动规律进行研究将有助于了解化学机械抛光的作用机理,其中,在极薄的膜厚情况下的温度场分析是一项迫切任务。

关 键 词:化学机械抛光  平面度  纳米级流动  温度场
文章编号:1004-132X(2005)14-1282-04

Thin Film Flows at Nano Scale in CMP
Zhang Chaohui,Luo Jianbin,Lei Hong.Thin Film Flows at Nano Scale in CMP[J].China Mechanical Engineering,2005,16(14):1282-1285.
Authors:Zhang Chaohui  Luo Jianbin  Lei Hong
Affiliation:Zhang Chaohui1 Luo Jianbin2 Lei Hong3 1. Beijing Jiaotong University,Beijing,100044 2. State Key Laboratory of Tribology,Tsinghua University,Beijing,100084 3. Shanghai University,Shanghai,200436
Abstract:It is noted that there is a thin fluid film between the loaded asperities and the wafer being polished in CMP process, thereby a flow system with nano scale film is formed in. To explore the features in such cases will lay the foundation of mechanism of CMP. One key challenge provided by CMP is the analysis on temperature field with super thin film.
Keywords:CMP  planarity  flows at nanoscale  temperature field
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