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Fe/Si3N4复合多层膜的制备及其电磁性能
引用本文:杨长胜,程海峰,李永清.Fe/Si3N4复合多层膜的制备及其电磁性能[J].新技术新工艺,2005(4):52-53.
作者姓名:杨长胜  程海峰  李永清
作者单位:国防科技大学新型陶瓷纤维及复合材料国防科技重点实验室,410073
基金项目:新型陶瓷纤维及复合材料国防科技重点实验室基金
摘    要:多层膜结构隐身材料因其特有的结构具有非常好的吸波性能,在隐身领域有很大的应用前景。用磁控溅射方法制备了Fe/Si3N4复合多层膜,利用SEM分析了其微观形貌,测试了其电磁参数,然后与传统吸波材料羰基铁粉比较了低频下的电磁参数。结果表明,Fe/Si3N4复合多层膜的低频吸波性能优越。

关 键 词:Si3N4  电磁性能  复合  Fe  制备  吸波性能  电磁参数  多层膜结构  SEM分析  隐身材料  磁控溅射  微观形貌  羰基铁粉  吸波材料  低频

Fabrication and Electromagnetic Performance of Fe/Si3N4 Multilayers
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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