| 碳离子束注入辅助蒸发低温沉积DLC薄膜研究 |
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| 引用本文： | 白秀琴,李健.碳离子束注入辅助蒸发低温沉积DLC薄膜研究[J].润滑与密封,2007,32(6):6-8. |
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| 作者姓名： | 白秀琴 李健 |
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| 作者单位： | 1. 武汉理工大学可靠性工程研究所,湖北武汉,430063
2. 武汉材料保护研究所,湖北武汉,430030 |
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| 基金项目： | 国家重点实验室基金;武汉理工大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 采用碳离子束注入辅助蒸发技术低温沉积了DLC薄膜,对薄膜沉积的工艺参数进行了优化,并对该薄膜的摩擦学行为进行了探讨。研究发现:碳离子束注入辅助蒸发技术沉积的DLC薄膜在离子量为3.0×1017ions/cm2,沉积率为0.1nm/s时具有最小的摩擦因数(<0.1);电流为2.0mA比3.0mA条件下所沉积的DLC薄膜表面光滑;磨损试验后,DLC薄膜的表面只有轻微磨损的痕迹。
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| 关 键 词： | DLC薄膜 碳离子束注入 辅助蒸发沉积 |
| 文章编号： | 0254-0150（2007）6-006-3 |
| 修稿时间： | 2007-01-09 |
Study of DLC Films by Carbon Ion Beam Implantation Assisted Vapor Deposition |
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| Bai Xiuqin,Li Jian.Study of DLC Films by Carbon Ion Beam Implantation Assisted Vapor Deposition[J].Lubrication Engineering,2007,32(6):6-8. |
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| Authors: | Bai Xiuqin Li Jian |
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| Affiliation: | 1. Reliability Engineering Institute, Wuhan University of Technology, Wuhan Hubei 430063, China; 2. Wuhan Research Institute of Materials Protection, Wuhan Hubei 430030, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DLC film C ion beam implantation assisted vapor deposition |
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