| 中频磁控溅射法制备厚类金刚石碳膜 |
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| 引用本文： | 于翔,刘阳,王成彪,于德洋.中频磁控溅射法制备厚类金刚石碳膜[J].润滑与密封,2006(10):25-28. |
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| 作者姓名： | 于翔 刘阳 王成彪 于德洋 |
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| 作者单位： | 1. 中国地质大学(北京)工程技术学院表面工程研究所,北京,100083
2. 北京实力源科技开发有限公司,北京,100072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;国家重点实验室基金;中国地质大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 采用中频对靶磁控法在M2高速钢基片上合成了厚达6μm的含铬类金刚石碳(DLC)薄膜,初步考察了中频磁控溅射工艺参数、DLC薄膜的多层梯度结构及薄膜力学和摩擦性能间的关系。结果表明,薄膜表面平滑,具有致密的多层梯度结构,在2.45 N载荷下维氏硬度为HV 2 560,结合力的临界载荷为52 N,且在较长滑动距离内平均摩擦因数为0.09。
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| 关 键 词： | 含铬类金刚石碳膜 梯度多层结构 中频对靶磁控溅射 |
| 文章编号： | 0254-0150(2006)10-025-4 |
| 收稿时间： | 2005-12-30 |
| 修稿时间： | 2005年12月30 |
Thick Diamond-like Carbon Film Deposited Using Mid-frequency Magnetron Sputtering |
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| Yu Xiang,Liu Yang,Wang Chengbiao,Yu Deyang.Thick Diamond-like Carbon Film Deposited Using Mid-frequency Magnetron Sputtering[J].Lubrication Engineering,2006(10):25-28. |
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| Authors: | Yu Xiang Liu Yang Wang Chengbiao Yu Deyang |
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| Affiliation: | 1. School of Engineering and Technology, China University of Geosciences, Beijing 100083, China; 2. Beijing Powertech Co. Ltd. , Beijing 100072, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Cr-doped DLC film graded and multilayered structure mid-frequency dual-magnetron sputtering |
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