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晶圆热氮烘干系统的设计与研究
引用本文:段成龙.晶圆热氮烘干系统的设计与研究[J].机械制造,2009,47(10):43-45.
作者姓名:段成龙
作者单位:中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601
摘    要:设计并研制了一套用于晶圆表面干燥的烘干工艺系统,详细介绍了系统的工作原理及其结构组成。经过实验和用户使用证明,该系统能够满足半导体企业对晶圆表面的一般烘干要求。系统具有操作简便、价格低廉、占用空间少等特点

关 键 词:晶圆干燥  热氮烘干  干燥系统

Design and Research on Hot N2 Drying System for Wafer
Duan Chenglong.Design and Research on Hot N2 Drying System for Wafer[J].Machinery,2009,47(10):43-45.
Authors:Duan Chenglong
Abstract:
Keywords:
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