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| 真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响 | |
| 引用本文： | 孔建军.真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响[J].国防制造技术,2011(5):51-54,62. |
| 作者姓名： | 孔建军 |
| 作者单位： | 山东北方光学电子有限公司; |
| 摘 要： | 薄膜镀制是固态的膜层材料在真空条件下蒸发或者溅射,经过气相传输,在基片表面沉积成薄膜。相同的薄膜设计,因操作人员、时间、设备、工艺参数等的不同,结果相差甚大。影响薄膜特性的工艺参数非常多,但对于这些工艺参数的测控却非常有限。举例来说, |
| 关 键 词： | 工艺参数 沉积速率 薄膜制备 真空度 折射率 薄膜性能 离子轰击 基片温度 基片材料 膜层材料 |
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