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往复式磁流变抛光装置的设计与仿真研究
引用本文:宋万里,马晋涛,胡志超,修世超.往复式磁流变抛光装置的设计与仿真研究[J].机械设计与制造,2019(2).
作者姓名:宋万里  马晋涛  胡志超  修世超
作者单位:农业部南京农业机械化研究所,江苏 南京 210014;东北大学 机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳 110819;东北大学 机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳,110819;农业部南京农业机械化研究所,江苏 南京,210014
基金项目:中央高校基本科研业务费专项;辽宁省博士科研启动基金;国家自然科学基金;教育部留学回国人员科研启动基金
摘    要:磁流变抛光是一种新型抛光方式,近年来我国研究人员已经相继研究出了几种抛光装置。介绍了磁流变抛光的原理之后,介绍了一种新的磁流变抛光装置;并对该装置中结构进行了分析,详细地阐述了抛光装置所处的机床结构和内部的零部件名称。为了确定在抛光过程中磁场对抛光的影响情况,用ANSYS有限元软件对磁场发生装置中的磁场和温度场进行了仿真研究;将分析结果与实际的磁场和温度场的测量结果进行对比,可以观察到两者的结果十分接近;从而证明ANSYS软件分析的结果真实有效,这也为以后的磁场优化打下了良好的基础。

关 键 词:磁流变  抛光  有限元  磁场  温度场

Design and Simulation of Reciprocating Magnetorheological Polishing Device
Abstract:
Keywords:
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