铜/钼/铜电子封装材料的轧制复合工艺 |
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引用本文: | 程挺宇,熊宁,吴诚,秦思贵,凌贤野.铜/钼/铜电子封装材料的轧制复合工艺[J].机械工程材料,2010(3). |
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作者姓名: | 程挺宇 熊宁 吴诚 秦思贵 凌贤野 |
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摘 要: | 采用不同轧制复合工艺制备了铜/钼/铜复合板;利用超声检测仪、万能材料试验机等研究了首道次压下率和退火温度对复合板结合强度及热导率的影响,在此基础上确定了其轧制复合工艺。结果表明:采用首道次压下率为60%、退火温度为700℃、保温时间为60 min的是较理想的工艺,其界面结合强度可达到80 N.mm-1,其厚度方向的热导率为210 W.m-1.K-1。
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