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| 中科院光电所研制出3米长光栅复制光刻机 | |
| 摘 要： | 近日，一种新型“3米长光栅复制光刻机”在中科院光电技术所研制成功。这是该所继成功研发URE-2000系列大面积曝光机后创新研发的一项新型精密光刻设备。该机在母尺和工件间抽真空，采用蝇眼透镜的i线均匀照明系统，结合气浮工件台一维运动而实现大行程的扫描、真空接触、i线曝光。其照明均匀性为±2％，光刻分辨力优于5微米，照明面功率密度50mW／cm^2， |
| 关 键 词： | 光电技术 光刻机 长光栅 中科院 复制 照明均匀性 照明系统 光刻设备 |
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