| 增强光电图像传感器紫外探测薄膜的制备 |
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| 引用本文： | 刘猛,张大伟,谢品,倪争技,黄元申.增强光电图像传感器紫外探测薄膜的制备[J].仪表技术与传感器,2009(9). |
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| 作者姓名： | 刘猛 张大伟 谢品 倪争技 黄元申 |
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| 作者单位： | 上海理工大学光学与电子信息工程学院,上海,200093 |
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| 基金项目： | 国家科技部支撑计划项目，上海市科委项目 |
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| 摘 要： | 传统的CCD、COMS等光电成像器件并不响应紫外光,在CCD、CMOS传感器光敏面镀上"紫外-可见"变频薄膜是增强其紫外响应的一种非常有效的方法.Zn2SiO4: Mn由于粒子直径小,稳定性好,荧光量子效率高等优点,在增强光电器件紫外响应领域有着很广泛的应用前景.实验用"旋涂法"在石英基底上生成Zn2SiO4: Mn紫外增强薄膜,并对其透射光谱、吸收光谱、激发光谱与发射光谱等光学性质进行测量分析.实验测得薄膜在300 nm以下透过率极低,在300 nm以上透过率很高且平稳;对300 nm以下的光具有很强的吸收,对300 nm以上的光吸收很弱且很平稳;激发峰在265 nm,发射峰在525 nm,即能将紫外光转化为可见光.实验结果表明Zn2SiO4: Mn薄膜是一种适用于增强CCD等图像传感器紫外响应的紫外增强薄膜.
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| 关 键 词： | 图像传感器 紫外探测 薄膜 |
Investigation in UV-enhanced Coatings Based on Zn2SiO4:Mn for Image Sensors |
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| LIU Meng,ZHANG Da-Wei,XIE Pin,NI Zheng-Ji,HUANG Yuan-shen.Investigation in UV-enhanced Coatings Based on Zn2SiO4:Mn for Image Sensors[J].Instrument Technique and Sensor,2009(9). |
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| Authors: | LIU Meng ZHANG Da-Wei XIE Pin NI Zheng-Ji HUANG Yuan-shen |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Zn2SiO4:Mn |
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