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绝对平面检测方法的研究进展
引用本文:黄元申,吕昊宇,曾媛,韩森,盛斌.绝对平面检测方法的研究进展[J].光学仪器,2018,40(1):72-77.
作者姓名:黄元申  吕昊宇  曾媛  韩森  盛斌
作者单位:上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093;上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室, 上海 200093;上海理工大学 教育部光学仪器与系统工程研究中心, 上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093;上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室, 上海 200093;上海理工大学 教育部光学仪器与系统工程研究中心, 上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093;上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室, 上海 200093;上海理工大学 教育部光学仪器与系统工程研究中心, 上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093;上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室, 上海 200093;上海理工大学 教育部光学仪器与系统工程研究中心, 上海 200093
基金项目:国家重点研发计划项目(2016YFF0101904)
摘    要:光学平面的干涉检测发展至今,检测精度已经大大提高,而高精度的平面检测很大程度上受限于参考平面的精度,针对参考平面面形对检测结果的影响,利用绝对平面检测方法,通过多次测量以达到消除参考平面偏差的目的。从测量方式和计算方法两个方面分析了不同绝对平面检测方法的原理,介绍了最新发表的相关成果以及研究动态,并对比了检测结果。这些检测方法已经精确到像素级,并通过多种计算方法使得峰谷(PV)值的计算精度大部分达到了λ/100。

关 键 词:光学干涉测量  绝对平面检测  面形精度
收稿时间:2017/9/4 0:00:00

Research progress of absolute flatness testing
HUANG Yuanshen,L&#; Haoyu,ZENG Yuan,HAN Sen and SHENG Bin.Research progress of absolute flatness testing[J].Optical Instruments,2018,40(1):72-77.
Authors:HUANG Yuanshen  L&#; Haoyu  ZENG Yuan  HAN Sen and SHENG Bin
Affiliation:School of Optical-Electrical and Computer Engineering, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Shanghai Key Laboratory of Modern Optical System, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Engineering Research Center of Optical Instruments and Systems(MOE), University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China,School of Optical-Electrical and Computer Engineering, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Shanghai Key Laboratory of Modern Optical System, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Engineering Research Center of Optical Instruments and Systems(MOE), University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China,School of Optical-Electrical and Computer Engineering, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Shanghai Key Laboratory of Modern Optical System, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Engineering Research Center of Optical Instruments and Systems(MOE), University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China,School of Optical-Electrical and Computer Engineering, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China and School of Optical-Electrical and Computer Engineering, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Shanghai Key Laboratory of Modern Optical System, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China;Engineering Research Center of Optical Instruments and Systems(MOE), University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China
Abstract:
Keywords:optical interferometry  absolute flatness testing  surface accuracy
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