光学元件形貌的双波长干涉测量 |
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引用本文: | 高亮,曾理江.光学元件形貌的双波长干涉测量[J].仪器仪表学报,2003,24(Z1):98-100. |
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作者姓名: | 高亮 曾理江 |
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作者单位: | 清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室,北京,100084 |
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基金项目: | 国家杰出青年科学基金项目(59925514). |
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摘 要: | 本文提出了一种利用双波长激光干涉产生交叉的干涉条纹测量光学元件三维面形的方法.该方法可以有效地提取干涉图像中更多的数据点,恢复被测元件的三维形貌.一定程度上解决了大口径光学元件三维形貌测量中数据点密度不足的问题.
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关 键 词: | 双波长干涉 交叉条纹 三维形貌测量 |
Optical Element Surface Profile Measurement Using Two-Wavelength Interferometer |
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Abstract: | |
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