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钨丝掺杂对碳化硅放电等离子烧结工艺曲线的影响研究
引用本文:孙红婵,胡冰,张桓,李晨辉,王鑫阁,张红松. 钨丝掺杂对碳化硅放电等离子烧结工艺曲线的影响研究[J]. 硅酸盐通报, 2014, 33(12): 3196-3199
作者姓名:孙红婵  胡冰  张桓  李晨辉  王鑫阁  张红松
作者单位:河北联合大学机械工程学院,唐山,063009;河南工程学院机械工程学院,郑州,451191
摘    要:采用放电等离子烧结技术分别制备了SiC和钨丝掺杂SiC材料,记录了两种材料烧结工艺曲线,利用XRD方法测定了制备材料的成分.分析工艺曲线结果表明:烧结过程可分为4个阶段,其中SiC-W烧结第二阶段温度明显低于SiC烧结温度,且位移量小于SiC.

关 键 词:碳化硅  钨丝  烧结工艺,

Influence Research on Sintering Process Curve of SiC Doped W by SPS
SUN Hong-chan,HU Bing,ZHANG Huan,LI Chen-hui,WANG Xin-ge,ZHANG Hong-song. Influence Research on Sintering Process Curve of SiC Doped W by SPS[J]. Bulletin of the Chinese Ceramic Society, 2014, 33(12): 3196-3199
Authors:SUN Hong-chan  HU Bing  ZHANG Huan  LI Chen-hui  WANG Xin-ge  ZHANG Hong-song
Abstract:
Keywords:SiC  W  sintering process,
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