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工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响
引用本文:李瑞武,周艳文,李建伟,范巍,郭媛媛,吴法宇. 工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响[J]. 金属热处理, 2019, 44(1): 162-166. DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2019.01.035
作者姓名:李瑞武  周艳文  李建伟  范巍  郭媛媛  吴法宇
作者单位:1.辽宁科技大学 表面工程研究所;2. 辽宁荣信兴业电力技术有限公司
基金项目:国家自然科学基金;国家自然科学基金;实验室开放基金;辽宁省自然科学基金
摘    要:采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法(Pulse-PECVD)于316L不锈钢基体上制备类金刚石(DLC)薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构、纳米硬度、弹性模量以及结合强度的影响规律。结果表明:随沉积气压增大,薄膜的沉积速率随之增大,压强在3 Pa时沉积速率可高达1. 4μm/h;不同气压下沉积的DLC薄膜均体现出平整光滑的表面形貌和高于不锈钢基体3倍以上的纳米硬度;沉积气压为2 Pa时,DLC薄膜在拉曼光谱中具有最小的ID/IG值,对应最高的纳米硬度16. 1 GPa和弹性模量152. 7 GPa,以及最低的粗糙度和摩擦因数0. 206。 

关 键 词:脉冲等离子体增强化学气相沉积  DLC薄膜  工作压强  拉曼光谱  力学性能    

Effect of deposition pressure on microstructure and mechanical properties of pulse-PECVD prepared DLC films
Li Ruiwu,Zhou Yanwen,Li Jianwei,Fan Wei,Guo Yuanyuan,Wu Fayu. Effect of deposition pressure on microstructure and mechanical properties of pulse-PECVD prepared DLC films[J]. Heat Treatment of Metals, 2019, 44(1): 162-166. DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2019.01.035
Authors:Li Ruiwu  Zhou Yanwen  Li Jianwei  Fan Wei  Guo Yuanyuan  Wu Fayu
Abstract:
Keywords:pulsed plasma-enhanced chemical vapor deposition(pulse-PECVD)   DLC film   deposition pressure   Raman spectra   mechanical properties  
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