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| 声表面波器件用的一种集成化吸声膜 | |
| 作者姓名： | 钱维锠 |
| 作者单位： | 上海市测试技术研究所 |
| 摘 要： | 声表面波(SAW)器件,已经被广泛用于通讯、数据处理和传感器中,声表面波在器件基片边缘的反射,将会反过来干扰主信号,并降低器件的性能。因此,在SAW器件基片的边缘,经常涂敷一些■或硅胶之类的吸声物质。现在,SAW器件都用图形光刻工艺来制作,然而,吸声材料仍沿用丝网印刷或手工涂布工艺。集成电路技术中新材料的发展给吸声材料的开发创造了条件。一种非常有用的材料就是聚酰亚胺。这是一种在高温处理后仍可保持其吸声特性的有机材料。聚酰亚胺可以用离心涂布和光刻的方法在基片上作图形。它的厚度可以控制在0.2μm直到20μm以上,这使得它… |
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