高重复频率ArF准分子激光器能量控制算法研究

为了实现工业用高重复频率ArF准分子激光器脉冲能量稳定,从电源控制的角度进行了脉冲能量控制技术的基础研究。介绍了高重复频率ArF准分子激光器能量稳定闭环控制原理,使用近似方法建立了准分子激光器脉冲能量和放电电压的函数模型,提出一种基于实时检测脉冲能量的电压调节比例积分算法,并结合函数模型和控制算法进行了MATLAB仿真。结果表明,建立的脉冲能量模型是合理的,且提出的比例积分算法在提高激光器脉冲输出能量稳定性方面是有效的。     

输出0.42焦耳的紫外光预电离KrF准分子激光器

本文报导了高功率、高效率紫外光预电离KrF(λ=248毫微米)准分子激光器的实验研究.输出最大脉冲能量超过420毫焦耳.研究了KrF激光器的激光谱和荧光谱特性以及在混合气体中掺入Ne气的影响.     

准分子激光加工的应用

准分子激光加工的应用前言准分子激光器是一种大能量、高功率紫外激光器，作为超微细加工工具，在各种应用领域均受到重视，并且准分子激光器作为产业使用正逐步实用化。本文介绍准分子激光器的几种实用例子，重点介绍其优良的加工特性。首先，准分子激光加工的特征归纳为...     

激光等离子体诊断用微微秒紫外高功率激光脉冲的产生

氙灯泵浦的可调谐染料激光器锁模脉冲用XeCl准分子激光器泵浦的三级染料激光放大器放大后,经倍频再用XeCl准分子激光器放大,在308毫微米处获得了微微秒高功率激光脉冲输出,其峰值功率可达500兆瓦,功率净增益为200。     

合束方式提高准分子激光输出脉冲能量稳定性

为了获得稳定性更好、能量更大的准分子激光输出脉冲,对合束方式提高输出脉冲能量稳定性的可行性进行了理论推导、模拟实验以及合束实验研究。从理论推导得知,当激光输出脉冲能量符合正态分布时,多台激光器合束可以降低输出能量相对标准差。对三台输出脉冲能量分布特性符合正态分布的准分子激光器进行合束模拟实验研究,每台输出脉冲能量平均值约为153 mJ,脉冲能量相对标准差约为1%。两台准分子激光器合束时得到输出脉冲能量平均值为305 mJ、能量相对标准差为0.7%的准分子激光脉冲。三台准分子激光器合束时可以得到输出能量平均值为458 mJ、能量相对标准差为0.6%的准分子激光脉冲。使用两台准分子激光器进行三次实际合束实验,其中两台准分子激光器三次合束分别输出能量平均值约为355、350、330 mJ,相对标准差为1.3%、1.2%、1.4%的激光脉冲;三次合束后分别得到能量平均值为687、694、646 mJ,相对标准差为0.86%、0.79%、0.83%的激光脉冲。模拟实验以及合束实验都表明,合束后的能量相对标准差均小于单台能量相对标准差,即合束提高准分子输出脉冲的稳定性。因此,当单台准分子激光输出脉...     

我国准分子激光器研究的最新进展

准分子激光器的研究是目前世界上激光研究领域里最活跃的课题之一。准分子激光波长在紫外和真空紫外。准分子激光器具有高功率、高效率、高能量及在宽波段内波长的连续可调谐性。在国外已成功地应用于科学研究、工业化学合成、医学、微电路加工等领域。我国准分子激光器的研究及其应用取得了一定进展。高功率小型准分子激光器及实用型准分子激光器研制成功标志着这种新型激光器件向实用化迈进了一大步。一、近年来我国准分子激光器研究的概况最初几年里,准分子激光器的研究主要是     

850MHz高重复频率、窄线宽被动锁模皮秒脉冲光纤激光器

高功率超短脉冲光纤激光器,通常由低功率种子源和多级功率放大器组成。低功率种子源决定了激光的输出波长、脉冲宽度、重复频率等关键性能,而功率放大器决定了激光输出的平均功率、脉冲能量和峰值功率等。由于高功率超短脉冲光纤激光器     

哑铃形高功率全保偏大模场掺镱锁模光纤激光器

采用基于非线性光纤环形镜的哑铃形结构搭建了全光纤全保偏掺镱锁模激光器。通过使用全保偏大模场光纤、高功率光纤器件和优化的腔结构,实现了脉冲宽度在156 ps到8.1 ns范围内可调的高功率、大能量矩形耗散孤子共振脉冲输出,在最大泵浦功率22.7 W下激光器直接输出功率达到5.5 W,脉冲能量达到0.68μJ,峰值功率为84 W。得益于全保偏光纤结构,所设计的激光器具有出色的抗干扰性和稳定性。     

掺镱光纤-固体高功率超短脉冲放大研究进展

高功率超短脉冲激光器在工业、科研和国防等领域有着广泛应用。光纤-固体混合放大技术将光纤激光器的光束质量好、单程增益大、散热性好等优势和单晶光纤/棒状(块状)固体放大器的脉冲峰值功率高、非线性效应弱等优势结合,是实现结构紧凑、稳定性好、成本低的高峰值功率、大能量超短脉冲激光器的有效手段。总结了近年来1μm波段掺镱光纤激光器、光子晶体光纤放大器、单晶光纤放大器和棒状(块状)固体放大器的国内外研究进展,重点介绍了本课题组在高功率超短脉冲光纤激光器、光子晶体光纤与固体放大器等领域的工作,同时探讨并展望了光纤-固体混合放大技术未来的发展方向。     

电子束泵浦XeCl准分子激光器输出特性

为了确保窄脉宽XeCl准分子激光系统获得高峰值功率紫外激光脉冲,实验研究了紧凑型四向电子束泵浦XeCl准分子激光器的输出特性。通过调节激光腔室气体介质的总气压和气体摩尔比、激光器的充电电压、二极管阳极钛箔厚度等参数,发现了激光能量随以上条件的变化规律,分析得到了激光器运行的最佳条件。在最佳条件下XeCl准分子激光器的脉冲能量大于100 J、脉宽约200 ns,电光效率约为5.81。另外,通过改变激光器内部Marx发生器的开关气压,研究了紧凑型电子束泵浦XeCl准分子激光器输出激光脉冲的延迟抖动特性,发现激光脉冲的延迟抖动可优于20 ns。研究结果表明:紧凑型电子束泵浦XeCl准分子激光器可实现脉冲抖动小于20 ns、103 J的高能紫外激光输出,可满足窄脉宽XeCl准分子激光系统运行的需要。     

近期光刻用ArF准分子激光技术发展

193 nm ArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90 nm以下节点半导体量产。ArF浸没式也已进入45 nm节点量产阶段。双图形光刻（DPL）技术被业界认为是下一代光刻32 nm节点最具竞争力的技术。利用双图形技术达到32 nm及以下节点已经被诸多设备制造商写入自己的技术发展线路。Cymer公司和Gigaphoton公司为双图形光刻开发了高输出功率、高能量稳定性和具有稳定的窄谱线宽度ArF准分子光源。分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术：主振-功率再生放大(MOPRA)结构、主振-功率振荡(MOPO)结构,主动光谱带宽稳定技术,先进的气体管理技术。对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论。     

Advances in excimer laser technology for sub-0.25-/spl mu/m lithography

There are several lasers that can provide high-power radiation at deep-UV wavelengths. The only laser that has been successfully used in semiconductor manufacturing as a source for lithography is the excimer laser Excimer lasers provide direct deep-UV light, are scalable in energy and power, and are capable of operating with narrow spectral widths. Also, by providing three wavelengths at 248, 193, and 157 nm, excimer lasers span three generations. They have large beams and a low degree of coherence. Their physics and chemistry are well understood. Thanks to major technical developments, these lasers have kept up with the ever-tightening specifications of the lithography industry. We will discuss what these specifications are and the advances that have been made in laser technology to meet these. We will also identify any possible future limitation in this technology. The success behind the microelectronics explosion is attributed to many factors. The excimer laser is one of them.     

LPX305iF型准分子激光光束质量诊断

以准分子激光应用于微细加工为目的,采用了一套光束诊断技术对德国Lambda Physik LPX 305iF型KrF准分子激光器进行了全面鉴定。     

准分子激光器的发展和应用

本文介绍近年来高脉冲能量、高脉冲功率和高平均功率准分子激光器的发展以及在科学研究、工业和医学方面的应用。     

准分子激光器及其应用

本文评述了准分子激光在激光加工、激光医疗中的应用前景,非线性光学在准分子激光技术中的运用,以及近年来高重复频率与高亮度准分子的激光器件的新进展。     

高平均功率全固态激光器发展现状、趋势及应用

综述了目前获得高平均功率全固态激光(DPL)输出的圆棒、板条、薄片和光纤激光器,以及热容激光和相干合成等主要方式的特点、发展历史及国内外最新进展,分析评述了高平均功率全固态激光器的发展趋势,并展望了其在工业和国防领域的应用前景.     

Excimer laser with high repetition rate for DUV lithography

The 248nm wavelength of the KrF excimer laser is the accepted tool for the production of structures in the range of 0.25μm. When going to below 0.20μm, the even shorter excimer wavelength of 193nm will be used. The demands on the laser source have changed over the last years for both the reflective and the refractive Step&Scan tools. The cost-effective operation of such lithography tool requires excimer lasers with high power and repetition rates of ≥ 1kHz. Precise dose control of the exposure requires high repetition rate and stability of the laser output energy.     

正畸托槽底板残余粘结剂的激光清洗技术研究

使用托槽粘结技术在初次粘结正畸托槽时,常发生位置不当或脱落的情形,采用激光清洗的新型清洗技术对脱落正畸托槽进行再次利用能够有效减少资源浪费,减轻患者负担。分别使用光纤激光器和KrF准分子激光对脱落金属正畸托槽进行了不同工艺参数条件的辐照实验。实验发现,光纤激光由于其热效应较为明显,托槽清洗效果不太理想;而短脉冲紫外准分子激光,由于其对物质的作用更偏向于光分解反应,热效应较小,能在最大限度不损伤托槽底板的情况下获得高质量的去除效果。研究得出了准分子激光对光固化的丙烯酸类粘结剂的最低去除阈值和完全去除托槽底板残余粘结剂的优化工艺条件。     

激光相干合成的研究进展:2011—2020

本文回顾了过去10年激光相干合成领域取得的重要进展,总结了可合成激光模块性能提升的标志性成果,梳理了相干合成使能技术取得的重要突破,展示了不同类型激光相干合成取得的成果及其多样化应用,并对激光相干合成领域的发展进行了展望。