光栅铝膜纳米压痕尺寸效应分析

研究光栅铝膜尺寸效应对于指导衍射光栅机械刻划工艺十分重要,对现有光栅铝膜进行了纳米压痕实验,从实验中获得光栅铝膜材料的力学性能参数。通过实验数据可知,光栅铝膜材料在微米级范围内存在明显的尺寸效应。利用三种尺寸效应模型Meyer模型、PSR模型及MPSR模型对光栅铝膜材料尺寸效应进行描述并分析,说明了几种模型在不同压深情况下的有效性。     

脉冲多弧离子源所镀膜层均匀性的实验研究

为了解决脉冲多弧离子源镀制膜层的均匀性问题,文中首先分析了不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸、不同引弧方法以及不同基片距阴极的距离引起所镀膜层透过率曲线的改变,进而讨论了脉冲多弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响．采用在基片下加一个圆筒形负电位电极实现了脉冲多弧离子源镀膜的均匀性．实验结果表明,在直径７０ｍｍ范围内透过率相对误差为±６．７％,小于所要求的±１０％．     

码盘、圆光栅真空镀铬工艺的研究

通过对码盘、圆光栅真空镀铬原理及膜层形成机理的分析,给出膜层厚度和影响其均匀性和致密性的主要因素之间的关系式以及安全成膜时被镀件的临界转速,为真空条件下获得厚度均匀、致密性好的铬膜提供了理论依据.     

弯月面法涂覆SiO2溶胶凝胶增透膜厚度与均匀性研究

为在光学元件表面涂覆特定膜厚且均匀性好的SiO2溶胶凝胶增透膜,使用自研的弯月面涂胶机在200 mm×200 mm的熔石英平板上进行SiO2溶胶凝胶增透膜的涂覆.基于薄膜干涉的原理,搭建了一套膜厚测试系统,准确获得了基片上的膜厚分布;对薄膜厚度与涂覆速度的关系进行幂函数拟合,并分析了弯月面涂胶机的涂覆速率及倾斜角度对薄膜厚度与均匀性的影响.结果表明,当涂胶机水平放置时,薄膜厚度与涂覆速率的拟合关系符合弯月面涂覆理论公式,薄膜厚度随涂覆速率的增加而增大,而膜厚均匀性随涂覆速率的增加先增大后减小.当涂覆速率为1.69 mm/s左右时,膜厚均匀性达到最佳,相对标准偏差为0.017.当涂覆速率为1.69 mm/s固定不变,涂胶机的倾斜角度在0°～10°范围内变化时,倾角越大,薄膜厚度越小,倾角在10°比在0°时厚度减小了约38％,而膜厚均匀性随倾斜角度变化不大,小于5％,可以忽略.     

多头小离子源和离子束辅助蒸发新工艺

提出了多头离子源的方案和离子束合成技术,即选用几个小离子源组合应用,以满足大尺寸镀膜机的要求.该方案经在A700Q和BAK760镀膜机上试验,获得良好效果,已镀制出性能良好的铝、银金属高反膜、棱镜分光膜、308nm激光高反膜、透明导电膜、高级立体声磁头绝缘膜、长波通滤光膜、超宽带增透膜等.并且,简化了镀膜工艺,提高了生产效率.     

直流等离子体化学气相沉积氮化钛及其应用

本文报道中试规模的直流等离子体化学气相沉积氮化钛(PCVDTiN)工艺及设备。设备外形尺寸为φ700×700mm,有效镀膜区为φ450×500mm。在此区域内,温度不均匀性小于20℃,TiN膜厚不均匀性小于15％。对TiN膜的硬度、生长速率、显微组织、晶体结构以及TiN膜的成分进行了研究。经测试及实际应用证明,高速钢麻花钻头用本工艺涂镀TiN膜后,可提高寿命8.3倍。其它刃具、模具、轴承等涂镀TiN后寿命也明显提高。     

铝电解电容器阳极氧化膜特性研究

阐述了铝电解电容器阳极氧化膜的生长过程、耐压能力、单向导电性能、厚度上限以及“自愈”性机理，实验证明，铝氧化膜的增厚是一定电场作用下，Al离子和新生态[O]双向运动效应的结果。而且氧化膜的生长厚度有一定限度，最大约为0．8mm，因此铝氧化膜的实际工作电压不能大于500V。     

计量光栅盘真空镀铬机理与工艺研究

在计量光栅盘的制作过程中,真空镀铬是影响计量光栅盘精度和成品率的主要工序之一。为了提高计量光栅盘的精度及成品率,对计量光栅盘真空镀铬原理及膜层形成机理进行了分析,给出了影响铬层致密性及牢固度的主要因素与铬层均匀性和蒸发距离之间的关系式,并针对其原因对相关工艺进行了改进,实验证明改进后的工艺对改善铬膜的致密性和牢固度及均匀性起到了一定的作用,使计量光栅盘的成品率提高了10%,同时也为进一步改善后续工艺提供了理论依据。     

CJDW─1200真空磁控溅射镀膜设备

ＣＪＤＷ─１２００真空磁控溅射镀膜设备ＣＪＤＷ─１２００真空磁控溅射镀膜设备是昆明科发镀膜公司为满足客户镀制高档汽车后视镜面研制的。传统的汽车后视镜是采用真空蒸发镀膜技术，在玻璃基片上镀上铝膜，再经淋漆保护处理。由于漆膜不能长期有效地保护铝膜不受大气...     

大面积金刚石薄膜的均匀性

金刚石膜具有优异的电学、热学性质,均匀的大面积金刚石膜是其在电子领域工业化应用的前提。利用自行设计微波等离子体化学气相沉积装置在直径51 mm和76 mm硅片上制备金刚石薄膜。用扫描电子显微镜观察所得金刚石膜的表面形貌,用ZC36高阻仪测量金刚石薄膜的电阻率。通过电阻率和形貌的均匀性判断金刚石薄膜的均匀性。结果表明,基片位置的变化引起沉积温度和含碳基团的种类、浓度与原子氢浓度的改变,从而影响了金刚石薄膜的形核和生长过程,最终影响金刚石膜的均匀性。直径51 mm金刚石薄膜表面形貌比直径76 mm的薄膜更均匀,但两种尺寸金刚石膜中间和四周的电阻率数值都接近,达到108 Ω·cm,电阻率均匀性好。     

氨基酸改性壳聚糖膜的制备及性能表征

针对目前制备壳聚糖膜无法控制厚度的问题,以壳聚糖(CS)为基体,将L-精氨酸固载到CS大分子上,制备L-精氨酸接枝壳聚糖(CS-L-Arginine,CA),并分别在保鲜膜、涤纶膜上刮膜,考察其成膜性、膜厚度、拉伸强力及抗菌性能.结果表明:以2%的冰乙酸溶液为分散剂、以10 g/L山梨醇为增塑剂,CA的质量分数为5%时,以涤纶膜作为刮膜底物制备的CA膜厚度均匀为0.03 mm,拉伸强力为389 c N/cm,对Cu~(2+)和Ni~(2+)离子的去除率分别为74.53%和69.36%,优于以保鲜膜为底物的CA膜,且对大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的抑菌率高达90.23%和93.37%.这说明CA粉末在成膜后保持其对Cu~(2+)、Ni~(2+)优良的吸附性能和对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌高效的抗菌性.     

表面波等离子体制备碳膜的膜厚分布及工艺优化

表面波等离子体(surface-wave-sustained plasma,SWP)是近年发展起来的一种新型低压,高密度等离子体.应用这种技术,采用物理气相沉积(PVD)方法,很容易实现镀膜过程中的离子束辅助沉积(IBAD),从而制备出性能优异的无氢碳膜.采用一种新型的SWP源沉积出无氢碳膜,用郎缪尔探针测试了不同工艺条件下的等离子体密度分布.采用正交实验设计方法,研究了沉积薄膜的膜厚分布特性,分析了膜厚分布与等离子体密度分布的关系,并对制备的工艺参数进行了优化.结果表明,这种新型的SWP源,能够产生高达1011～1014cm-3的等离子体密度.薄膜在整个圆周方向都具有良好的均匀性,沿轴向约为75 mm(膜厚差值±5%).研究中同时获得了影响表面波等离子体膜厚均匀性的显著因素和制备薄膜均匀性最好的工艺条件.     

基片温度对金刚石厚膜生长的影响

采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备了ф60 mm的金刚石厚膜,通过对沉积过程和结果的观察发现,由于所用沉积气压较高,基片不同区域温度不均匀,导致不同区域沉积的金刚石厚膜晶型差距较大.通过对不同区域的结果进行比较,发现850℃为较好的沉积温度,并在对沉积工艺进行优化后,采用该温度在ф60mm的基片上制备了厚度为0.6 mm取向性很好的金刚石厚膜.     

基于反射光谱的单层抗反射膜的非在位膜厚精确控制

提出一种基于反射光谱分析的非在位膜厚控制技术,首先利用椭圆偏振光谱仪确定波长300～1 700 nm范围内的薄膜折射率,由此确定对应于特定波长(如1 550 nm)的最佳抗反射(AR)镀膜沉积条件。然后计算最佳AR镀膜厚度所对应的反射谱,得到相应的CIE标准色谱坐标。通过对比实测镀膜颜色和计算得到的最佳颜色,可以实现小尺寸器件端面上AR镀膜厚度的优化控制。利用这一方法,由等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的SiNx单层AR镀膜,获得了4.4×10-4的反射率。     

曝光量对计量光栅均匀性的影响

根据光栅的透射特性和曝光及显影机理,对曝光量以及计量光栅线条的黑白比和其均匀性之间的内在关系进行了分析,从理论上给出了曝光量对线条黑白比以及线条黑白比和曝光量对计量光栅均匀性的影响,为提高计量光栅的均匀性给出了理论指导.本文给出了保持曝光量均匀的措施,实验证明,改进后刻制出的计量光栅的均匀性误差较小.     

铝合金直流电阳极氧化膜的制备

以工业纯铝L2为试样,对其表面经预处理后进行直流电阳极氧化,考察了氧化时间、氧化电压对氧 化膜厚度、膜硬度的影响,并对经阳极氧化的试样横截面进行SEM 和EDS测试分析。研究结果表明,在电解液成分 H₂SO₄的质量浓度为200g/L、Al₂O₃的质量浓度为1g/L,直流氧化电压为10V,氧化时间为40min,温度为(20± 1)℃的条件下,可以获得均匀、与试样基体结合紧密、膜硬度相对较高的的氧化膜。而且随着氧化时间的增加,可以 得到相对较大的膜厚度,但膜硬度相对降低。     

基片温度对金刚石厚膜生长的影响

采用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法制备了Ф60mm的金刚石厚膜,通过对沉积过程和结果的观察发现,由于所用沉积气压较高,基片不同区域温度不均匀,导致不同区域沉积的金刚石厚膜晶型差距较大．通过对不同区域的结果进行比较,发现850℃为较好的沉积温度,并在对沉积工艺进行优化后,采用该温度在Ф60mm的基片上制备了厚度为0．6mm取向性很好的金刚石厚膜．     

彩色滤光镜的制备和性能研究

研究了彩色滤光镜的混合膜料选择、膜系设计、膜层均匀性和镀膜工艺.该套滤光镜的截止区透射率小于4%,通带区的平均透射率大于65%.它用于各种彩色技术中滤光,色彩还原好,具有成本低廉、均匀性好、镀制简便和适合于大批量生产的特点.     

彩色滤光镜的制备和性能研究

研究了彩色滤光镜的混合膜料选择、膜系设计、膜层均匀性和镀膜工艺。该套滤光镜的截止区透射率小于4％,通带区的平均透射率大于65％。它用于各彩色技术中滤光,色彩还原好,具有成本低廉、均匀性好、镀制简便和适合于大批量生产的特点。     

改善火炕炕面温度分布技术模拟

为了使火炕的表面温度分布均匀,提高室内环境的热舒适性,提出了倾斜布置炕板来改善炕面温度分布的不均匀性．通过对炕板倾斜程度不同的落地炕和吊炕进行数值模拟,结果表明:当落地炕的炕头粘土层厚度为80 mm、炕梢粘土厚度为20 mm时具有相对最佳的取暖效果;当吊炕的炕头粘土层厚度为80 mm、炕梢粘土厚度为20 mm时具有相对最佳的取暖效果．