等离子化学气相沉积硬膜技术研究

用等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）技术制备了ＴＩＮ、ＴｉＣ、Ｔｉ（ＣＮ）和（ＴｉＳｉ）Ｎ膜及其组合的多层膜。ＰＣＶＤ具有很好的覆盖性，ＰＣＶＤ－ＴｉＮ具有很好的耐磨、蚀性，膜与基体结合良好，因而用ＰＣＶＤ法在高速钢刀具、模具及轴承上沉积ＴｉＮ可大大提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－ＴｉＮ和Ｔｉ（ＣＮ）膜无明显柱状晶，其显微硬度高于ＴｉＮ亦可用于高速钢刀具、模具上提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－（ＴｉＳｉ）Ｎ，晶粒细化，氯含量和显微硬度随Ｓｉ含量而变化，（ＴｉＳｉ）Ｎ具有很好的抗高温氧化性。多层膜可调节膜层结构，减少残余应力，提高膜的机械性能。     

直流PCVD镀膜时轰击加热过程对高速钢刃具性能的影响

讨论了在直流等离子体化学气相沉积硬质膜时轰击加热阶段对高速钢刃具性能的影响。试验证明,轰击加热阶段的加热速度和选用的工作气体都会直接影响到刃具的使用寿命,是一个不容忽视的重要环节。     

用PCVD法制备抗高温氧化涂层的研究

研究了用ＰＣＶＤ法所制备的ＴｉＮ,ＴｉＡ１Ｎ及ＴｉＳｉＮ硬质涂层的抗高温氧化性及ＴｉＮ涂层在双氧水介质中的抗氧化性。结果表明,ＴｉＡ１Ｎ,ＴｉＳｉＮ涂层在空气中的抗高温氧化性可达７００℃以上, ＴｉＮ涂层可达６００℃。在双氧水介质中, ＰＣＶＤ－ＴｉＮ涂层仍具有较强的抗氧化能力, 且优于ＰＶＤ－ＴｉＮ 涂层     

直流PCVD TiN膜针孔率的研究

用铁氰化钾贴纸法研究了PCVD(Plasma CVD)TiN膜中针孔率与沉积温度、样品表面粗糙度和膜厚度的关系。发现TiN膜薄时,针孔率高,针孔直径多数在1～3μm;TiN膜厚时,针孔急剧减少,针孔直径均在3.5～6μm,表明小直径的针孔在TiN生长中逐渐消失。TiN膜厚达到8～10μm时,仍有针孔存在。扫描电镜观察表明:形成针孔的主要原因是表面存在杂质(或污物)和孔洞缺陷。     

等离子体增强化学气相沉积Ti－Si－N膜

报导了用等离子体增强化学气相沉积法于５６０℃在高速钢基材上沉积Ｔｉ－Ｓｉ－Ｎ膜。反应气为ＴｉＣｌ４，ＳｉＣｌ４，Ｎ２和Ｈ２。实验结果表明：调整两种氯化物在进气中的比例可以很好地控制膜的成分。膜中Ｓｉ含量变化范围为０到４０％（原子）。在ＴｉＮ膜中加入少量Ｓｉ就可以显著改善膜的形貌，得到致密的类似玻璃的结构。同样，膜和基材之问的界面显得更加平滑和均匀。含Ｓｉ量１０％～２５％（原子）的Ｔｉ－Ｓｉ－Ｎ膜具有最高的硬度，约达到６３５０ｋｇｆ／ｍｍ２，比ＴｉＮ膜高得多。     

直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的制备工艺探讨

介绍了直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的沉积原理,探讨了在实际生产过程中获得高质量CVD金刚石膜的工艺条件.     

等离子体化学镀膜技术在粉末冶金行业的应用

介绍了等离子体化学工艺,特别着重介绍了溅射镀膜与等离子体化学气相沉积在粉末冶金中的应用.     

残余氯在等离子体增强化学气相沉积TiN膜中的偏聚过程研究

通过分析等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的特点，对残余氯的存在机制、等离子体场中离子轰击对氯在TiN膜内分布的影响作了进一步的讨论。运用经典偏聚理论，根据空位、位错特点．建立了PECVD过程中离子轰击促进氯向晶界、微孔表面等界面处偏聚的模型，从而完满地解释了文献中的有关实验现象。     

少量氩气对等离子体处理涤纶喷墨印花的影响

采用空气混合少量氩气常压等离子体对涤纶织物进行表面改性处理,再用浅蓝色纳米颜料墨水进行喷墨印花．探讨了等离子体处理对涤纶织物喷墨印花的K／S值、防渗效果、纤维表面形貌的影响,并对不同的氩气混合比例和处理层数做了比较．结果表明：经空气氩气混合气体等离子体处理的喷墨印花用涤纶织物,其亲水性和防渗性显著提高,喷墨印花图案清晰,得色量提高。印花色牢度没有降低;最佳氩气混合比例为20％,最佳处理条件为：功率300W,时间150s,极板间距3mm．     

等离子气相沉积金刚石的试验研究

利用直流等离子体化学气相沉积方法，以较高的沉积速率（＞１００μｍ／ｈ）生成了金刚石。所用原料气体为酒精或石油液化气、氢气以及氩气，沉积基片为钼片。整个沉积过程在３００Ｔｏｒｒ左右压力下进行。利用ｘ射线衍射及喇曼散射谱检测证明所获得的金刚石具有高的质量。利用该方法强化刀具表面在采矿等行业有良好的应用前景。     

辅助加热PCVD-TiN薄膜的制备及影响因素

研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤ ＴｉＮ薄膜制备的影响。结果表明,提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量可以提高薄膜的沉积速率,而且对薄膜内的氯含量没有影响。提高反应气体中的Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）可以略降低薄膜内的氯含量,在Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）＝２,ＴｉＣｌ４的体积分数为１０％左右时ＴｉＮ薄膜的硬度最高。随着反应气压的升高,沉积速率呈正比上升而显微硬度却下降。     

PCVD-Ti(CNO)薄膜的性能及结构分析

研究了Ｔｉ（ＣＮ）薄膜内氧的作用,研究结果表明,Ｔｉ（ＣＮ）薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构,薄膜的断面呈致密的纤维状组织。随着反应气体中空气或ＣＯ２气体流量的增加,Ｔｉ（ＣＮＯ）薄膜的硬度呈上升趋势,并在空气的流量为４０ｍＬ·ｍｉｎ－１或ＣＯ２的流量为１５ｍＬ·ｍｉｎ－１时（分别约占气体总量的１５％和６％）,薄膜的硬度达到最大值。     

LF炉吹氩最佳混合效果研究

以攀钢165 t LF炉为原型,根据相似原理,用冷态模拟的方法对影响LF炉吹氩混合效果的各种工艺参数进行了研究.应用多因子多水平正交表安排试验,单底吹选用L18(61×36)表,双底吹选用L32(81×48)表.通过考察各因素对指标混合均匀时间τm(s)影响的显著程度,得出了165 t LF炉吹氩的最佳工艺条件为:(1)单底吹:Qm=3.37 L／min;Sm=1.7 mm3;Hm=506 mm;rm=124.8 mm;(2)双底吹:Qm=3.61 L／min;Sm=:1.7 mm2;Hm=500 mm;rm=142.4 mm或98.6 mm.     

一种适合硬膜抗磨粒磨损性能试验方法的研究

提出了一种适合评估硬膜材料抗磨粒磨损性能试验的新方法 ,并研究了各种因素对硬膜抗磨粒磨损试验结果的影响。试验发现 ,硬膜的磨损量与磨损时间以及试棒转速成正比 ;当磨料粒度在一定的范围内变化时 ,磨损量与磨料的粒度成正比 ;当磨料的粒度超过某一临界尺寸后 ,磨损速度变化不大。在粒度为 1 80目时 ,磨损试验的效果最佳。在有饱和水溶液的磨料中 ,同时存在着磨料磨损和气蚀磨损两种磨损方式。     

用PCVD法制备(TiAl)N膜的研究

本文介绍了在PCVD设备中用固态AlCl_3制备(TiAl)N膜。结果表明,(TiAl)N膜的含Al量与AlCl_3的蒸发温度成正比,但膜内Cl含量却无明显变化。(TiAl)N膜保持了TiN膜的面心立方晶体结构,但其晶格常数变小,织构变弱,组织略有细化。(TiAl)N膜的显微硬度略高于或等于TiN膜的硬度,但抗高温氧化性有较大幅度提高。     

Q235钢表面硬质合金喷涂层的磨损特性研究

用超音速火焰喷涂方法在Q235钢表面进行了WC硬质合金粉末的喷涂.在MRH-5A型滑动磨损试验机上,对涂层进行室温下的干滑动摩擦磨损性能测验,借助于扫描电镜观察磨损试样磨面形貌.通过对摩擦磨损数据进行分析,结果表明：Q235钢表面用WC硬质合金喷涂后,耐磨性大大提高,涂层磨损机理主要表现为磨粒磨损和粘着磨损.