真空溅射沉积碳化钛

溅射沉积碳化钛强化金属表面,工件温升低,膜的纯度高,致密性好,硬度高。本文介绍了自行设计的JS3-450T型装置以及工艺研究结果。对沉积的碳化钛层进行了金相、显微梗度及扫描电镜分析。其结果表明,沉积碳化钛层的工件,其表面耐磨性比高速钢高30～50倍,耐蚀性优于不锈钢,刃具、模井的使用寿命提高1～5倍。     

真空溅射沉积碳化钛的工艺参数和应用

本文就真空溅射沉积碳化钛的工艺和应用简要地作了介绍。结果表明沉积温度可以在600℃以下,每小时沉积1微米,碳化钛沉积层表面显微硬度可达3000kg/mm~2。试样经 x衍射结构分析确为碳化钛相;经金相和电镜分析,TiC 层和基体结合情况良好;经电子探针分析,在 TiC 层和基体间 Ti 和 W 元素、Ti 和 Cr 元素确有共同分布的区域存在。在硬质合金刀具,焊接硬质合金刀具,高速钢刀具和用二次硬化处理的冷冲模的生产应用上均取得显著效果。文内还比较了二极溅射和三极溅射的工艺特点,讨论了三极溅射工艺参数间的关系。     

直流三极偏压溅射沉积碳化钛膜

本文利用直流三极偏压溅射法在刀具上沉积了碳化钛膜，用球坑仪测量了膜厚，并用ＨＸ－１０００显微硬度计测量了膜的维氏硬度：实际试验表明，刀具的使用寿命提高了３～５倍。     

正交电磁场真空溅射沉积TiC

本文介绍了一种提高刃、模具及其它易磨损机件使用寿命的最新表面处理方法──正交电磁场真空溅射沉积ＴｉＣ。 文中阐述了工作原理、设备的特有结构及其特性曲线。还介绍了几种典型材料的工艺规范。　　该方法已使ＴｉＣ的沉积速率提高到２～３微米／小时。某些刃、模具的寿命提高３～５倍。有的高达３０倍左右。     

真空沉积碳化钛镀层技术在机械热处理中的应用

一、前言 为了进一步提高工模具和某些机械零件的使用寿命,目前发展了一种在金属表面上沉积一层碳化钛、氮化钛、氧化铝等镀层的新工艺。这种新工艺具有很多特点。例如Tic有较高的硬度(HV达2400kg/mm2以上),较好的耐磨性,较低的磨擦系数(对钢为0.25),较强的耐腐蚀性和较好的热传导性能等。在实际的切削过程中,镀层形成了氧化膜,可减少切屑与切削工具之间的磨擦力,同时还产生润滑作用,使切削力和温升大大减小,提高了加工零件的表面光洁度。这些镀层应用于工模具上,可提高其使用寿命达十倍以上。因此,它在热处理工艺中很有发展前途,引起了国…     

真空舱几何结构对离子推力器背溅射沉积影响的计算研究

有效降低溅射沉积影响是离子推力器地面寿命试验需要解决的关键技术问题。本文建立了真空舱壁上溅射物沉积到离子推力器表面的计算模型。结合LIPS-200推力器束流特性和石墨材料内衬,应用该模型分别计算和分析了平面靶圆柱型、平面靶圆锥台型、球面靶圆柱型、凸锥靶圆柱型、凹锥靶圆柱型五种真空舱几何形状与尺寸对离子推力器背溅射沉积的影响关系规律,得到了对具体设计LIPS-200推力器寿命试验真空舱具有指导作用的重要结论。     

化学气相沉积碳化钛的热力学和动力学研究

对采用ＴｉＣｌ４－ＣＨ４－Ｈ２反应体系化学气相沉积碳化钛的反应热力学和成核热力学因素进行了分析，并在实验的基础上研究了不同沉积温度下化学气相沉积ＴｉＣ过程的动力学特征，以及在不同的动力学控制机制下气相过饱和度的成核过程对ＴｉＣ涂层的析出形态的影响。在沉积过程中，气相过饱和度和动力学控制机制是控制沉积物的成核过程和析出形态的决定因素。     

真空电弧镀沉积NiCrAlY涂层工艺

研究了真空电弧镀沉积ＮｉＣｒＡｌＹ涂怪工艺,对涂层成分的离析现象进行了分析,并且探讨了沉积工艺参数对涂层微观组织结构的影响,最后讨论了真空热处理对涂层与基体之间互扩散的影响     

真空溅射镀膜专用直流电源

本文在论述真空溅射镀膜的工艺基本环境——异常辉光放电的基础上，阐述了电源的几点要求；提出当前在技术上解决适应真空溅射镀膜的直流电源的几个方案；本文论述了其中第二代采用晶阐管的解决方案，给出了“特性曲线”，该电源具有“陡降”特性，电流稳定度可达±１％。     

溅射工艺对SiCN薄膜沉积及光性能的影响

本文利用射频磁控溅射工艺制备了ＳｉＣＮ薄膜,研究了基本工艺参数如溅射功率、Ｎ分压对薄膜沉积和光学性能的影响．研究结果表明：溅射制备的薄膜中形成了复杂的网络结构,膜中三元素Ｓｉ、Ｃ和Ｎ两两之间形成了共价键．Ｎ分压的提高降低了薄膜的沉积速率．Ｎ流量的提高使光学带隙增大．溅射功率的提高使薄膜的沉积速率提高,但使得光学带隙减小．     

ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究

用Ａｒ^＋束溅射沉积技术在ＨｇＣｄＴｅ表面实现了ＺｎＳ的低温沉积．用Ｘ射线光电子能借（ＸＰＳ）对上述ＺｎＳ薄膜以及热蒸发ＺｎＳ薄膜中的Ｚｎ、Ｓ元素的化学环境进行了对比实验研究．实验表明：离子束溅射沉积ＺｎＳ薄膜具有很好的组份均匀性,未探测到元素Ｚｎ、Ｓ的沉积．     

ECR微波等离子体溅射沉积氮化铝的研究

利用自制的ＥＣＲ（电子回旋共振）微波等离子体溅射沉积装置，在氮气分压很低的条件下（２．６× １０－３～２．９ × １０－２Ｐａ）成功地获得了透明绝缘的纯氨化铝膜。电阻率达１０１１ ·ｃｍ，折射率约为 ２．０５，膜的其他各项物理性能均达到了较好的指标．     

脉冲激光感应溅射沉积

脉冲激光感应溅射沉积是一种新型溅射镀膜技术。已不再用传统溅射镀膜工艺中的辉光放电现象。采用脉冲激光器和导电电极板产生离子。介绍了特点和潜在的优势。能在高真空条件下进行溅射沉积。给出了实验结果,说明了新技术实用的可行性。     

溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的研究进展

以Ni-Mn-Ga为主要代表的铁磁形状记忆合金(FSMAs)不但具有传统形状记忆合金受温度控制的热弹性形状记忆效应,而且具有受磁场控制的铁磁形状记忆效应.微机电系统(MEMS)的应用要求Ni-Mn-Ga合金必须制备成薄膜的形式.对溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的制备工艺进行了回顾与总结,对薄膜的各种性能特征和影响因素进行了详细的叙述,最后介绍了溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的应用状况和应用趋势.     

第十九讲 真空溅射镀膜

<正>(接2015年第5期第80页)综合分析图28和图29可以看出,在高速磁控溅射中,靶上施加的产生放电的溅射电压,使离子获得的能量,能产生最大的功率密度,而且在这一电压范围内,便于输入较大的功率。靶发热、辐射和二次电子发射等"无用"功在总输入功率中所占比例很小。3低能溅射由于靶上施加的阴极电压低,等离子体被磁场束缚在阴极附近的空间中,从而抑制了高能带电粒子向基片一侧入射。因此,由带电粒子轰击     

第十九讲 真空溅射镀膜

<正>近年来,随着溅射设备及工艺方法的不断创新,无论是金属,还是其他材料均可用溅射技术制备薄膜,满足各行各业的需求。5.2直流二级溅射普通直流二极溅射是在溅射靶材上施加直流负电位(称阴极靶),阳极为放置被镀工件的基片架。直流二极溅射装置如图20所示,在真空镀     

第十九讲 真空溅射镀膜

<正>(接2016年第3期第80页)由于工作时是匀速旋转的,因而不但溅射更加均匀,靶材利用率也大大提高,一般的平面磁控溅射靶的靶材利用率极低(不足20%),而这种结构靶材利用率超过70%。     

溅射设备真空系统故障与诊断

本文介绍了应用真空溅射方法形成膜层，设备真空系统常见故障诊断及排除。