荷能粒子在类金刚石膜形成中的作用

类金刚石膜由于其优异性能和广泛应用已引起越来越多的研究兴趣。尽管各种化学和等离子体辅助ＣＶＤ和ＰＶＤ技术已用来沉积类金刚石膜（ＤＬＣ膜）,但其形成机理仍不清楚。本文通过分析荷能离子的作用,应用热峰效应和离子刻蚀效应来解释ＤＬＣ膜的形成     

DLC膜化工设备防腐材料的研究

本文介绍了一种可用于化工设备表面防腐的新材料－－类金刚石薄膜（ＤＬＣ膜）。文咄了ＤＬＣ膜的制备方法及主要工艺参数,我们做了有ＤＬＣ膜保护的防腐试验,结果表明：ＤＬＣ膜对酸碱的防护能力强,具有很大应用潜力。     

热丝CVD法高速生长金刚石膜研究

使用热丝ＣＶＤ研究了碳源种类，氧气含量，灯丝温度，基底与灯丝间距离及异常辉光放电等对金刚石膜生长速度的影响，在此研究的基础上，优化工艺参数，使热丝ＣＶＤ法生长金刚石膜的速度提高到２０μｍ／ｈ。     

热丝CVD法金刚石膜生长速度研究

本文使用热丝ＣＶＤ法着重研究了基底表面的处理、工作气压、碳化物的含量、基底温度、灯丝温度以及基底与灯丝间距离等对金刚石膜生长速度所产生的影响，并在以上研究的基础上采取措施，使热丝ＣＶＤ法生长金刚石膜的速度提高了４倍。     

类金刚石膜的结构与性能研究

用激光Ｒａｍａｎ谱和ＸＲＤ谱对用直流－射频等离子体化学气相沉积法制备的类金刚石膜的结构进行了分析，并研究了工艺参数对膜的沉积速率，内应力和直流电阻率的影响，结果表明，类金刚石膜是由ｓｐ＾２和ｓｐ＾３键组成的非晶态碳膜，当负偏压高于３００Ｖ时，膜中ｓｐ＾３／ｓｐ＾２键的比值随负偏压的升高而降低，类金刚膜的沉积速率与负偏压Ｖｂ的成正比，膜内存在１～４．７ＧＰａ的压应力，随负偏压的升高而降低，膜的电阻率     

类金刚石膜结构的红外分析

采用直流－射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Ｆｏｕｒｉｅｒ秀昨吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究,类金刚石膜中大部分碳原子以ｓｐ＾３组态存在,结合在膜中的氮原子与碳原子之间可形成ｓｐ＾３Ｃ－ＣＨ２,ｓｐ＾３Ｃ－ＣＨ３和ｓｐ＾２Ｃ－ＣＨ２基,其含量以ｓｐ＾３Ｃ－ＣＨ２,增加Ａｒ气分压与提高极板负偏压对类金刚石膜结构产生的影响,是相似的,增大极板负偏压或Ａｒ气的含量将减小类金刚石膜中ｓｐ     

影响金刚石膜刀具涂层形貌的因素分析

采用高分辨金相显微镜对硬质合金刀生上沉各的ＣＶＤ金刚石薄膜进行了表面形貌和膜／基横截面组织形貌的观察;并利用该显微镜配备的功能测量了金刚石颗粒大小,膜厚;利用显微镜正焦／过焦观察判断了金刚石薄膜的成膜状况。初步观察结果表明：甲烷浓度和基体钴含量对金刚石薄膜的表面形貌和膜／基横截面组织形貌有显著的影响。     

CVD法生长金刚石晶粒的形态

用ＳＥＭ研究了ＣＶＤ法生长金刚石晶体形态，观察到了单晶立方八面体、双晶立方八面体和两种不同形态的二十面体。晶粒上的三角形晶面多为凹坑，电有晶面上分层发育的晶层。在二十面体中，还直接地发现了倾角间隙，对于ＣＶＤ法生长的金刚石晶粒这些都是首次观察到，此外还首次观察到其它几种立方多面体晶形。     

ClInPc－（TPD－PVK）光电导体性能的研究

本文以氯化酞菁铟（ＣｌＩｎＰｃ）为载流子发生层（ＣＧＬ），四苯基联苯胺（ＴＰＤ）与聚乙烯咔唑（ＰＶＫ）复合为载流子传输层（ＣＴＬ），形成双层结构的功能分离型有机光电导体（Ｐ／Ｒ），研究了它的静电感光性能．结果表明，ＣｌＩｎＰｃ／ＰＭＭＡ（３０％）与ＴＰＤ／ＰＶＫ（１∶１）两者匹配时的Ｐ／Ｒ具有良好的光电导性能，其电荷接受能力Ｖ＿（ｍａｘ）≈８００Ｖ，光电导率△Ｖ＿ｔ（１ｓ）＞７０％，暗衰小（＜５０Ｖ／ｓ），残余电位低（３０Ｖ／ｓ）．由真空蒸镀成膜（ＣＧＬ）所研制的Ｐ／Ｒ的光电导性能更为优异．     

类金刚石膜的制备及应用

类金刚石膜(DLC)由于其良好的特性被广泛应用于各个领域,文章介绍了类金刚石膜的制备方法及特点,并说明了利用类金刚石膜耐磨损高硬度等特点,将类金刚石薄膜经过特殊的方法形成类金刚石纤维的过程,探讨了其在纤维砂轮中,代替Al2O3纤维作为磨料的应用.     

文摘

20 0 10 30大面积ＣＶＤ金刚石膜的热铁板抛光 [刊 ,中 ]/刘敬明 ,蒋政 ,等∥北京科技大学学报 ,2 0 0 1,2 3(1) :43～ 45研制成功国内第 1台大面积ＣＶＤ金刚石膜热铁板抛光机。它可以在 10 -3 Ｐａ真空条件下 ,加热到 110 0℃ ;抛光台可以在 0～ 10ｒ/ｍｉｎ间实现无线调速 ,一次完成 3片Φ110ｍｍ的金刚石膜的抛光。金刚石膜在 980℃ ,2ｈ抛光的结果表明 ,该装置有良好的抛光效果。金刚石膜在 980℃抛光不同时间的Ｒａｍａｎ谱表明 ,金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和Ｃ原子不断扩散的过程。图 6参 62 0 0 10 31色谱法分离纯化富勒烯的研…     

热丝CVD系统的温度场及其度表面的温度分布

基于一简单模型和叠加原理，分别研究了单丝和多丝化学气相沉积（ＣＶＤ）系统的温度场及基底表面的温度分布。由此得到沉积区域基底表面的温度分布以及金刚石薄膜的生长率与基底的关系风线而得到基底表面的生长率分布，其结果与实验结果基本吻合。     

类金刚石薄膜和金刚石薄膜的最新制备技术与各种特性

类金刚石薄膜等硬质碳膜具有许多优异特性,其开发研究已引起人们的极大关注.文章就类金刚石薄膜和金刚石薄膜的最新制备方法与各种特性进行了解说.     

金刚石表面金属气相传递涂层形成时的物理—化学相互作用及其结构组成

本文研究形成于金刚石颗粒表面的Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ、Ｗ涂层的相组成及其厚度。所用涂覆物为在真空中退火处理过的铬粉或Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ和Ｗ氧化粉末混合物。涂层由金属和碳化物相组成。涂层厚度增长过程中，随着涂覆度的上升、时间的延续，碳的扩散作用为铬、钛和钒的碳化提供了条件（它引起涂覆物中金属相成分减少，而碳化物相相应增加），高价碳化物（Ｃｒ３Ｃ２、ＶＣ、ＷＣ）依赖于低价碳化物（Ｃｒ７Ｃ３、Ｖ２Ｃ、Ｗ２Ｃ）     

干法制膜CVD技术

化学气相沉积（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，简称ＣＶＤ）是利用化学反应由气相生长固体物质的方法。一般把反应物是气体而生成物之一是固体的反应称为ＣＶＤ反应。通常ＣＶＤ是在高温下反应制取所需要的薄厚膜。ＣＶＤ法可制成各种薄膜和形成不同薄...     

类金刚石膜的性能、制备及其应用

类金刚石膜是无定形碳中含sp3键的亚稳态结构.由于它的组成、光学透过率、硬度、折射率和在化学腐蚀剂中的惰性以及抗摩擦性能十分相似于金刚石,其应用领域不断被拓宽,因此对类金刚石的研究也日益成为热点.本文介绍了类金刚石的性能、制备类金刚石膜的物理气相沉积和化学气相沉积方法,概括了类金刚石膜在机械、电磁学、光学、医学以及其它领域的应用,最后指出了类金刚石膜的研究现状及其发展趋势.     

金刚石膜与冷阴极场发射显示器

金刚石膜的出现突破了传统人造金刚石尺寸的限制,使得金刚石的电学、热学、光学和电子学等方面的优异性能得到了利用,极有可能为超硬材料行业开拓新的更大的市场.金刚石膜或类金刚石膜用来作为场发射的阴极,是其极具前景的应用之一.文章叙述了冷阴极场发射的概念、金刚石膜的性能和用作冷阴极场发射显示器的相关研究,介绍了国内外相关研究的成果和发展前景,供同行参考.     

ClInPc—（TPD—PVK）光电导体性能的研究

本文以氯化酞菁铟（ＣｌＩｎＰｃ）为载流子发生层（ＣＧＬ），四苯基联苯胺（ＴＰＤ）与聚乙烯咔唑（ＰＶＫ）复合为载流子传输层（ＣＴＬ），形成双层结构的功能分离型有机光电导体（Ｐ／Ｒ），研究了它的静电感光性能。结果表明，ＣｌＩｎＰｃ／ＰＭＭＡ（３０％）与ＴＰＤ／ＰＶＫ（１：１）两者匹配时的Ｐ／Ｒ具有良好的光电导性能，其电荷接受能力Ｖｍａｘ≈８００Ｖ，光电导率△Ｖｔ（ｌｓ）＞７０％，暗衰小（＜５０Ｖ／ｓ）     

特种PVC盐膜的开发与研制

特种ＰＶＣ盐膜是普通ＰＶＣ盐膜的更新换代产品，它是采用高聚合度的ＰＶＣ－Ｐ２５００型树脂为主要原材料，辅以少量ＰＶＣ－ＳＧ２型树脂和主增塑剂ＤＯＰ，及其少量的六磷胺极性溶剂增塑剂，含有加工助剂性能的类苯乙烯Ａ型改性增塑剂等稳定辅助剂，促进了高聚合度的塑化性，流动性，完善了最佳的加工性能和进一步发挥出了特种ＰＶＣ盐膜的高强度和耐候性，耐寒性，耐海水性于一体的新一代的超级型遮盖与铺地用盐膜，这种ＰＶＣ     

国际水会议(IWC)论文摘要

在边远和环境敏感地区用膜技术生产去离子水———ＤＡＶＩＤＴＨＲＥＬＦＡＬＬ ＩＷＣ - 1999- 5 7　　全世界的工业化进程促进了边远地区和环境敏感地区的发展。传统的去离子水生产方法需要大量的再生剂化学品 ,然而 ,一种轻便的现代膜去离子系统———ＤｅｌｔａＦｌｏｗ—已将“无再生剂”去离子水设备投放到工业市场。薄膜复合ＲＯ膜在生物活性水中的性能———ＳＴＥＶＥＮＣＯＫＥＲ ,等 ＩＷＣ - 1999- 6 0　　与常规系统相配合的标准ＲＯ膜组件的预处理和设计 ,当处理生物活性水 ,例如地表水和循环的废水时 ,会产生许多与污垢相…