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研究了不同气氛(N2、O2、Ar)下高温快速热处理(RTP)对热施主形成和消除特性的影响.研究发现无论在何种气氛下进行高温RTP,对热施主的形成均无影响.扩展电阻的分析结果表明,热施主在硅片纵向的分布是均匀的.根据高温RTP后硅片的空位特征,认为点缺陷对热施主的形成特性无影响.同时研究了高温RTP预处理对热施主消除特性的影响,发现氧气和氩气高温RTP的样品其生成的热施主经过650℃退火即可消除,和普通的热施主消除特性相同.而N2气氛下高温RTP的样品,650℃退火后仍有部分施主存在,经950℃退火才能彻底消除,这可能是由于RTP处理中发生氮的内扩散,在后续热处理中形成氮氧复合体浅施主中心所致. 相似文献
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硅器件要求硅片具有一定的机械强度,而硅片强度与表面有关.本文采用Cr_2O_3化学-机械抛光和HNO_3-HF不同配比的化学抛光,用金相显微镜和扫描电镜观测硅片表面,用三点弯法测抗弯强度,研究了硅片表面状况、裂纹与强度的关系 相似文献
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研究了不同气氛(N2 、O2 、Ar)下高温快速热处理(RTP)对热施主形成和消除特性的影响.研究发现无论在何种气氛下进行高温RTP ,对热施主的形成均无影响.扩展电阻的分析结果表明,热施主在硅片纵向的分布是均匀的.根据高温RTP后硅片的空位特征,认为点缺陷对热施主的形成特性无影响.同时研究了高温RTP预处理对热施主消除特性的影响,发现氧气和氩气高温RTP的样品其生成的热施主经过6 5 0℃退火即可消除,和普通的热施主消除特性相同.而N2 气氛下高温RTP的样品,6 5 0℃退火后仍有部分施主存在,经95 0℃退火才能彻底消除,这可能是由于RTP处理中发生氮的内扩散 相似文献
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硅中Ge对硅片机械强度的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
硅中掺入等价元素Ge,可以提高硅单晶的机械强度。本文报道了用三点弯曲法,冲击法对不同Ge增加硅片机械强度的研究结果及影响CZSi机械强度的掺Ge最小量,探讨了Ge增加硅片机械强度的机理。 相似文献
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线切割机加工半导体晶片质量控制的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
根据线切割机的工作原理,切片过程中硅片因机械作用造成的刀痕、损伤、破损产生包括机械应力和热应力在内的应力,进而产生滑移位错.当机械应力和热应力在高温处理过程中的作用超过晶体滑移临界应力时,会产生硅片的破碎.对于翘曲度、弯曲度、总厚度误差、中心厚度误差等方面的质量控制,通过调整线张力、进给速度、冷却剂流量等一系列工艺措施可达到目的及要求,大大降低了生产成本,提高了生产效率.实验证明,线切割机切出的硅片的厚度和质量都很好地满足了下一道工序的要求. 相似文献
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采用电阻率为4.8.cm的p型硅片和10.cm的n型硅片,通过高温扩散法制备出了Fe掺杂的补偿硅材料。在室温避光条件下,测量样品电阻率ρ,并用XRD对扩散后的样品进行分析,研究了Fe掺杂对不同导电类型硅材料电阻率的影响。结果表明:相对于n型硅材料,深能级杂质Fe掺杂对p型硅材料电阻率的影响更大,其Fe掺杂p型硅材料电阻率远大于Fe掺杂n型硅材料;当p型硅表面Fe扩散源浓度为1.74×10–5mol/cm2时,在1 200℃下扩散1 h后,材料具有最大电阻率7 246.cm。 相似文献
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单晶硅片是集成电路制造过程中最常用的衬底材料。硅片的表面质量及机械性能直接影响着器件的性能,成品率及寿命。不同加工工艺生产硅片高温弯曲强度的实验结果表明,众多因素对抗弯强度和高温弯曲度的影响规律是一致的。高温翘曲度与抗弯强度有着内在联系。抗弯强度不仅表示硅片在常温下的抗破碎能力,而且也反应了高温抗翘曲和弯曲能力。 相似文献
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大直径直拉硅中氮对原生氧沉淀的影响 总被引:5,自引:2,他引:3
研究了在大直径直拉硅单晶中掺氮 (N )对原生氧沉淀的影响 .通过高温一步退火 (10 5 0℃ )和低 -高温两步退火 (80 0℃ +10 5 0℃ )发现在掺 N直拉 (NCZ)硅中氧沉淀的行为与一般直拉 (CZ)硅是大不相同的 ,经过高温一步退火后 ,在氧化诱生层错环 (OSF- ring)区氧沉淀的量要小于空洞型缺陷 (voids)区 ,而经过低 -高温两步退火后 ,OSF-ring区的氧沉淀量要远远大于 voids区 .由此可得 ,在晶体生长过程中 ,N通过改变硅晶体中空位的浓度及其分布从而改变原生氧沉淀的尺寸和分布 .并在此基础上讨论了在大直径 NCZ硅中掺 N影响原生氧沉淀的机理 . 相似文献
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氮对重掺锑直拉硅中氧沉淀的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
通过在不同条件下退火,研究氮杂质对重掺锑硅(HSb- Si)中氧沉淀的影响.实验结果表明,在高温单步退火(10 0 0~115 0℃)和低高两步退火(6 5 0℃+10 5 0℃)后,掺氮HSb- Si中与氧沉淀相关的体微缺陷的密度都要远远高于一般的HSb- Si.这说明在HSb- Si中,氮能分别在高温和低温下促进氧沉淀的生成.因此,可以认为与轻掺直拉硅一样,在HSb- Si中,氮氧复合体同样能够生成,因而促进了氧沉淀的形核.实验结果还表明氮的掺入不影响HSb硅中氧沉淀的延迟行为. 相似文献
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Mohammed Nurul Afsar Hua Chi 《Journal of Infrared, Millimeter and Terahertz Waves》1994,15(7):1161-1179
The room temperature application of sapphire as window material at higher frequencies is not feasible since its absorption coefficient increases almost linearly with increasing frequency in the millimeter wavelength region. At cryogenic temperature the absorption coefficient value decreases only by a few factors (factor of 2 to 3) in the 90 – 200 GHz region. The earlier reported temperature squared dependence (decrease) in the absorption coefficient or the loss tangent value is totally absent in our broad band continuous wave data we are reporting here (at 6.5 K, 35K, 77K and 300K) and one we reported at conferences earlier. Our results are verified by another technique. We utilize our precision millimeter wave dispersive Fourier transform spectroscopic techniques at room temperature and at cryogenic temperatures The extra high resistivity single crystal compensated silicon is no doubt the lowest loss material available at room temperature in the entire millimeter wavelength region At higher millimeter wave frequencies an extra high resistivity silicon window or an window made with extra high resistivity silicon coated with diamond film would certainly make a better candidate in the future. A single free standing synthetic diamond window seems to have higher absorption coefficient values at millimeter wavelength region at this time although it is claimed that it possesses good mechanical strength and higher thermal conductivity characteristics. It certainly does not rule out the use of diamond film on a single crystal high resistivity silicon to improve its mechanical strength and thermal conductivity 相似文献
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M. Shimozuma K. Kitamori H. Ohno H. Hasegawa H. Tagashira 《Journal of Electronic Materials》1985,14(5):573-586
Silicon nitride films have been deposited by low frequency 50Hz plasma CVD using a nitrogen and silane mixture at room temperature.
To deposit high quality silicon nitride, the silane fraction in the nitrogen and silane mixture has to be less than 5 %. The
refractive index, breakdown field strength and resistivity of the obtained silicon nitride film were 2.0, 1.2x107 V/cm and 6x1015 Ωcm, respectively. Mechanism of the deposition of high quality silicon nitride is discussed on the basis of the experimentally
observed light emission spectrum from the plasma and of the electron energy distribution function in the plasma theoretically
calculated by the Boltzmann equation method. 相似文献
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对不同条件下含氮和不含氮的硅单晶,在300K和8K下进行红外吸收研究.实验结果表明:含氮硅单晶和氮一氧复合体相关的红外吸收峰为1030cm-1,1000cm-1和806cm-1. 相似文献
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《Electron Devices, IEEE Transactions on》1979,26(3):245-246
The Ar+ion implant damage gettering of silicon has been investigated using non-steady-state linear voltage ramp technique on MOS devices. Generation lifetimes were measured on devices that have been ion implant damaged and annealed in nitrogen at high temperature. The results were compared with control devices. It was found that a gettering treatment consisting of a high-temperature nitrogen anneal following "room temperature" implant increased the generation lifetime of minority carriers in the device by an order of magnitude. 相似文献
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