塑料的磁控溅射镀膜

本文介绍了塑料的磁控溅射镀膜设备和工艺。对影响底涂层、镀膜和外涂层的工艺因素进行了讨论。     

塑料真空镀膜的底漆和面漆

一、前言目前,塑料制品表面真空镀膜有蒸发法和磁控溅射法。蒸发法是在10~(-4)～10~(-4)托的真空中加热镀膜材料,使之瞬间蒸发,沉积到塑料制品表面。通常蒸发材料是采用象铝那样的低熔点金属。磁控溅射法则是在5×10~(-3)～5×10~(-4)托的压力和氩气气氛下,利用高效磁控管溅射源进行真空溅射,使溅射材料凝结到被镀件的表面而形成镀膜。磁控溅射法能镀铝和黄铜,也能镀紫铜,不锈钢等。塑料真空镀膜为玩具、灯具、工艺美术品、     

磁控溅射Cu／Ni薄膜的电磁屏蔽作用

介绍了一种新型的塑料表面金属化方法－磁控溅射法在电磁屏蔽上的应用，研究了工艺过程和工艺条件对镀层厚度、附着力和屏蔽性能的影响。结果表明，工作电压，放电电流、充氩气前后的真空度和基片温度影响镀层质量。在真空度达到２Ｐａ时，通入氩气直到压力达到４０－２０Ｐａ，在阴极工作电压－５００Ｖ，阳极放电电流０．７Ａ时，可提高膜层的附着强度。     

磁控溅射镀膜技术的研究及发展趋势

综述了磁控溅射镀膜技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的发展,利用新型的磁控溅射镀膜技术可以实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备以及提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。并阐述磁控溅射镀膜技术在电子、光学、表面功能薄膜等许多方面的应用。     

基于磁控溅射技术的碳基电磁屏蔽材料

利用磁控溅射技术在碳纤维表面沉积铜膜制备了高效的电磁屏蔽材料,并通过调整磁控溅射时间和碳纤维单向布铺层层数,分析了磁控溅射改性方式和铺层层数对碳纤维织物及其复合材料电磁屏蔽性能的影响。结果表明,磁控溅射碳纤维表面铜膜沉积有利于碳纤维电磁屏蔽性能的改善。经磁控溅射改性处理后,碳纤维电磁屏蔽效能最小提高了37.73%,且电磁屏蔽性能随着磁控溅射时间的延长而增强,但碳纤维电磁屏蔽效能增加率则随磁控溅射时间的增加而逐渐减小。增加碳纤维织物铺层层数有利于碳纤维织物集合体电磁屏蔽性能的改善,但织物层间的不连续性对织物集合体电磁屏蔽性能起消极作用。环氧树脂经碳纤维复合后,电磁屏蔽效能显著增强,增加了约30 dB,但由于环氧树脂对碳纤维的包覆性能,影响了复合材料对电磁波的屏蔽效果,不随碳纤维复合材料中碳纤维织物铺层层数的增加和改性碳纤维导电性能的增加而增强。     

化学镀Ni–Sn–P和磁控溅射TiN对Mn–Cu合金耐腐蚀性能和阻尼性能的影响

分别对Mn–Cu阻尼合金表面化学镀1 h和磁控溅射2 h,获得了5.42μm厚的Ni–Sn–P合金层和1.43μm厚的TiN层。对比了Mn–Cu合金及其表面化学镀Ni–Sn–P合金和磁控溅射TiN后的微观形貌、元素组成、结构、耐蚀性和阻尼性能。结果表明,化学镀和磁控溅射都能提高Mn–Cu合金的耐蚀性,Ni–Sn–P合金镀层的耐蚀性最好。化学镀Ni–Sn–P合金能够在一定程度上改善Mn–Cu合金的阻尼性能,而磁控溅射TiN会使基体的阻尼性能轻微下降。     

浅析磁控溅射氧化锡镀膜工艺

通过对磁控溅射氧化锡镀膜工艺的研究,指出在不同溅射功率、不同工艺气体流量下,如何稳定、高效地控制氧化锡磁控溅射镀膜工艺。     

多面体金属效果颜料的制备与应用

通过磁控溅射镀膜工艺,采用铝靶为溅射源,成功实现铝单质在微米级二氧化硅粉体表面的沉积,制备出新型多面体金属效果颜料。重点比较了多面体金属效果颜料与铝颜料在注塑制件中的流痕与熔接痕差异,同时,研究了多面体金属效果颜料对塑料基材物性的影响及加工工艺对多面体颜料所呈现表观效果的影响。最后,采用多面体金属效果颜料共混入塑料基材中成型出“无流痕”免喷涂制件。结果表明,与传统铝颜料相比,多面体金属效果颜料表现出良好的金属质感,流痕几乎完全消除,熔接痕亦大幅度减轻,并进一步从理论角度分析和解释了产生上述流痕和熔接痕差异的原因;与喷涂制件相比,“无流痕”免喷涂制件更环保,成本更低,表观效果更加独特,并得到了消费者认可,成功实现了商业化量产。     

磁控溅射镀铑工艺在首饰表面的应用

分别采用磁控溅射和电镀工艺在18K金表面镀铑,并从膜层性能、生产效率、设备成本、材料投入与利用率等方面进行对比.结果表明,与电镀铑层相比,磁控溅射铑层的颜色与耐蚀性非常接近,晶粒尺寸和硬度略优,可以满足首饰膜层性能要求,且总体生产效率和安全环保方面更优.但是磁控溅射工艺存在设备和靶材一次性投入大,靶材的利用率不高,对首...     

在线CVD技术在低辐射玻璃上的优势

低辐射玻璃根据生产工艺不同分为在线CVD技术与离线真空磁控溅射技术。离线真空磁控溅射工艺,是在玻璃表面镀上具有低辐射作用的金属银功能膜,两侧必须加上多层介质膜作为保护和过渡膜层,膜层与玻璃通过物理键结合。     

对生产大面积建筑镀膜玻璃的真空磁控溅射阴极靶结构的研究

目前,生产大面积建筑镀膜玻璃广泛采用真空磁控溅射镀膜工艺,而这种工艺的核心和关键是磁控溅射阴极靶。因此对靶结构的研究也就成为真空磁控溅射镀膜工艺中的重要课题之一。本文对目前国内外使用的三种阴极靶结构,即同轴圆柱靶、矩形平面靶、旋转式新型柱状靶进行了分析,阐述了三种结构的优缺点,以及靶材刻蚀、膜厚均匀性和靶材利用率等方面的问题,总结出适合于生产大面积建筑镀膜玻璃的阴极靶结构。     

在线CVD技术在低辐射玻璃上的优势

低辐射玻璃根据生产工艺不同，分为在线CVD技术与离线真空磁控溅射技术。离线真空磁控溅射工艺，是在玻璃表面镀上具有低辐射作用的金属银功能膜，两侧必须加上多层介质膜作为保护和过渡膜层，膜层与玻璃通过物理键结合。[第一段]     

磁控溅射法制备AlN薄膜的研究进展

综述了各种沉积条件对磁控溅射技术生长氮化铝薄膜的微观结构,电学以及光学性能的影响。采用磁控溅射技术,可以选用在适当的条件下制备具有特定功能与结构优良的氮化铝薄膜。     

什么是生物塑料

根据欧洲生物塑料协会和日本生物塑料协会的定义,生物塑料是生物基塑料和生物降解塑料的统称。按照欧洲生物塑料协会的定义,生物塑料是:(a)生物基塑料:即来源于可再生资源的塑料;(b)生物降解塑料和可堆肥塑料:满足所有关于     

磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展

综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态.文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面.     

工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响

磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用.本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题.     

建筑玻璃节能贴膜性能分析

建筑节能是降低能源消耗减少废物排放的重要部分,通过对磁控溅射型和纳米涂布型玻璃隔热贴膜的光学性能测试和分析,总结了两类节能产品的优点,磁控溅射型隔热贴膜优点主要体现在对红外线的反射率,纳米涂布型窗膜的优点体现在可见光透过率高方面,希望能为隔热膜的使用提供依据。     

欢迎访问“中塑互联”（WWW．ourplas．cn）——中国塑料工程师的网上家园

“中塑互联”——www．ourplas．cn,系专为中国塑料工业界的塑料工程师而设,其目的是为塑料工程师进行技术交流和探讨,推动技术革新和发展提供一个网络空间。“中塑互联”目前设有5个主体版块：塑料技术专业论坛、塑料专题技术论坛、塑料商业信息发布平台、塑料会展信息发布平台、塑料科技文献检索技术平台,其中以塑料技术专业论坛和塑料专题技术论坛为核心。塑料技术专业论坛下设：塑料工业概况分论坛、合成树脂与塑料分论坛、塑料助剂分论坛、塑料配方设计分论坛、塑料改性技术分     

等离子体增强的磁控溅射TiSiN薄膜结构与耐蚀性

针对磁控溅射固有磁场强度随时间衰减的问题,采用外加磁场增强真空室内等离子密度的方法,在AZ31基体上反应溅射沉积了厚度约2μm的TiSiN薄膜.应用XRD、SEM研究了等离子体增强的磁控溅射方法所制备薄膜的物相组成、结构、表面形貌,利用电化学工作站研究了等离子体增强的磁控溅射薄膜在3.5％NaCl溶液中的腐蚀行为,并与...     

塑料市场

▲农民急需塑料用具农民迫切需要塑料工厂多生产一些价廉物美、轻便耐用的塑料生产工具和生活用具。如养鸡自动食塔和饮水器,塑料桶和粪桶,塑料水缸,塑料鱼船,以及塑料工艺品等。▲塑料太阳能热水器常州塑料包装研究所研制成功