聚焦光斑磁光极克尔磁滞回线的热效应分析

实验设计并组建了一套磁光极克尔磁滞回线测量装置,该装置可以通过改变照射到样品上的激光功率来改变薄膜样品上被聚焦光斑照射的测试点的温度。同时通过计算模拟了激光照射在TbFeCo磁光薄膜上的温度分布情况,得到了薄膜的矫顽力随照射激光功率的变化关系,由此可以确定薄膜的居里温度和补偿温度。为研究磁光薄膜样品在各种温度条件下,磁光性能的变化以及多层磁光薄膜的磁耦合效应提供了有效的手段。     

助剂对水性UV光油性能的影响

改变助剂种类和用量制备水性UV光油,在铜版纸上涂布具有一定厚度的膜层测试其光泽度;在胶印墨膜和水性凹印墨膜上涂布,测试光油与墨膜的润湿接触角大小。探讨助剂种类和用量对水性UV光油流平性和基材润湿性的影响。结果表明,助剂种类和用量均对光油性能有较大的影响,选择适合体系的助剂种类和用量,可以提高光油的流平性和基材润湿性。     

一种基于TN型液晶的自控光阀

对TN(扭曲向列)型液晶的透光率测量实验表明,在外加电压的作用下TN型液晶可以吸收入射光线,并且在外加电压连续改变时,对入射光的透光率将呈现连续非线性变化。根据此特性,利用数字电路来控制加到液晶电极上的电压,就得到了一种空间光调制器──自控光阀。自控光阀能控制通过光阀的光强,使之趋于设定值。     

无级光楔的特性及其使用

可线性地改变曝光量对数值大小用的光调制器(标准光楔)分有级和无级两种。无级光楔上的密度值是逐点连续变化的,在整个有效长度里,距离(距端点长度)是密度值的自变量,密度值随距离而变。受试片上任一点都对应着一个额定的曝光量对数值。如图一所示:     

用作信息显示的光敏变色材料

光敏变色材料,广义地说是这样的一种材料:当它被一种特定波长的激发光曝光以后,能发生颜色或光的吸收特性的动态变化,若取消激发光或改变观察条件,就自然地恢复到原始状态或者在适当时候恢复到“正常”颜色。对光敏变色材料来说,特别重要的是它的可逆性。因此,光敏变色材料能够使除去激发光后的动态图象(在被适当的激发光照射之后形成的幻灯片或屏幕上的点或线)自动衰减。当老的信息自然擦除之后,新的信息可用激发光     

矢量腔光力系统中声子激光的研究

该文在传统的腔光力系统中引入了一组正交偏振基向量构成矢量耦合光力系统,并研究了其中的声子激光现象,发现偏振光的偏振角度可以有效调控声子激光的产生。研究发现,不同的线性偏振光对系统进行泵浦会出现不同强度的光力非线性相互作用,进而产生具有低功耗和易调控双重优点的声子激光现象,尤其是通过改变泵浦光的偏振方向可以连续调节声子激光的强度和阈值。与传统的声子激光方案相比,在不改变系统其他参数的情况下,可以通过调节光偏振有效地控制声子激光的产生。     

Tb-Fe-Co磁光薄膜溅射条件对Kerr转角的影响

在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚示有直接使用合金靶研究这些关系的报道。我们首先研究了用于磁光油射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数,且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的研究。首先确定了各种溅射和N2－Ar气流量下Al、Si以及Tb-Fe-Co(Mo）的溅射速率,在此基础上通过改变溅射功率和调整气汉量改变SiN的成分和厚度,在各种功率和气流量下溅射了Mo膜,并测定了这些磁光膜的Kerr线以获得Kerr转角等性能,从而探讨了溅射工艺条件对Kerr的影响。     

光镊力谱系统双光束串扰因素研究

为了降低和消除光镊力谱系统中双光阱之间的干扰,进一步提高测试精度,本文对双光阱光镊系统中两光束间串扰的成因及其对力谱测量的影响展开了研究.研究发现,高倍物镜组与样品池构成的光学结构会引起光束偏振态的改变,是双光束串扰形成的主要因素;偏振分光棱镜自身的分光特性是串扰产生的另一因素;光阱捕获的微球,虽然改变了光束的形状和传播方向,但在光束串扰方面贡献很小.双光束的串扰信号叠加在探测的光强信号上,影响了光阱刚度和位移灵敏度的标定,最终导致力学测量的偏差.光镊系统中双光束的串扰量在同一次实验的一定时间内基本稳定.根据双光阱光镊系统的这一特点,本文提出了实时测量双光阱光镊系统两光阱独立存在时和同时存在时双光阱的刚度和位移灵敏度的方法,并经多次实验求平均后得到两种情况下双光阱的刚度和位移灵敏度的比值,在后续实验中,将该比值作为修正参数对实测的力谱曲线进行修正.结果表明,该方法有助于减小双光束串扰的影响,优化力谱测量结果,测试精度提高3.4!.     

水中微气泡光散射偏振特性的研究

在Mie散射理论的基础上，建立气泡光散射模型，计算水中微小气泡与固体微粒在不同的粒径参数和散射角条件下的光散射偏振特性，并对两者进行比较．结果表明，水中气泡及微粒对入射光散射后偏振状态的改变十分复杂．总体上气泡的退偏振效应比固体微粒强25％，微小气泡与固体微粒对偏振状态的影响在粒径域和散射角上具有选择性．     

清华剑桥合作制备易加工的液晶弹性体智能材料

正液晶弹性体材料在热、光、电、磁等外界刺激下可发生形状的自发改变,作为致动器及感应器在人工肌肉、柔性机器人、盲人显示器等诸多领域的应用前景十分广阔。这种形状的改变是基于高分子内部的液晶有序性,通过光、热、磁等方式改变这种有序性将产生可逆的宏观形状变化。为了使液晶弹性体发生实际意义的形状改变,必须将液晶高分子链作单畴取向(单畴是指液晶分子链中很窄的或单一取向的区域)。     

ZnO纳米阵列增强大功率蓝光LED出光效率的研究

采用低成本的化学溶液法在大功率GaN基蓝光LED芯片上生长ZnO纳米阵列, 以提高LED芯片的出光效率. 通过改变生长溶液中氨水及锌离子浓度实现对纳米阵列结构形貌的可控性, 进而得到不同形貌的ZnO纳米阵列. 在此基础上, 进一步研究纳米结构形貌对LED芯片出光性能的影响, 探讨纳米结构增强LED芯片发光效率的机理. 结果表明, 较高密度、锥形形貌的ZnO纳米阵列更有利于增强LED芯片的出光效率. 在优化的实验条件下, 表面沉积ZnO纳米阵列的LED芯片比普通LED的出光效率高出60%以上, 并且纳米阵列不影响LED器件的电学性能和发光稳定性.     

颗粒运动对衍射光空间分布的影响

为了研究激光粒度测量颗粒分布时,测量区中处于运动状态的颗粒对衍射光空间分布和粒径测量结果的影响,从理论上分析了颗粒运动对衍射光的影响。结果表明:颗粒运动并不影响衍射光的空间分布,只改变衍射光的时域分布,因此对于颗粒粒径测量结果不产生影响。     

光折变Bi12SiO20晶体中的波耦合性质

研究在光折变Bi12SiO20晶体中二波耦合扩散全息记录的信号光能量增益和偏振态改变。在3种制备可得的晶体切割面上给出任意光栅取向的能量和偏振态耦合量的取值范围,分析了信号光能量增益和偏振态改变量分别达到最大值时各向同性和各向异性耦合的作用,此外研究旋光效应，压电及弹光效应在3种晶体切割面上对矢量波耦合的影响。     

光响应形状记忆聚合物的研究进展

光响应形状记忆聚合物是一类刺激响应智能材料，它可以根据光照变化做出相应的形状改变。相比于传统的热响应形状记忆聚合物，光响应形状记忆聚合物具有远程控制、非接触式操作、局部驱动等优点。通过综述光响应形状记忆聚合物的研究进展，介绍光响应形状记忆聚合物的定义、机理、研究现状，以及光响应形状记忆聚合物在自修复材料、柔性电子器件和传感驱动领域的应用前景。总结了光响应形状记忆聚合物的优点，提出所面临的问题并进行了展望。     

工业X光胶片的研制

改变了胶片的制备工艺，提高了工业Ｘ光胶片的感光度，降低了涂布银量。新研制的Ｘ光胶片能满足一些精细材料和航空工业部门对工业Ｘ光胶片照相性能的要求。     

光二极管研究取得新进展

正近日,美国华盛顿大学的研究人员将理论物理学预测转变为实际应用,成功开发了光二极管,其或可用于制作运行速度更快、能耗更低的新型光子计算机,为在芯片上操控光信号开辟了新方向。这项研究工作受到了美国陆军研究办公室和能源部的资助,相关研究成果已发表在《自然物理学》期刊上。这款光二极管是通过在硅芯片上利用宇称时间(PT)对称性耦合两个分别具有增益和损耗特性的圆环形光学谐振器制作而成的,可在一个方向上完全消除光信号,而在其他的非互易光传输方向上极大地增强光信号。     

矩形孔径上折射率均匀性数据拟合研究

泽尼克圆多项式在圆形光瞳的正交性和能够代表经典像差而被广泛应用到波前分析中,用泽尼克圆多项式作为矩形光瞳基底函数,通过推导得到在矩形光瞳上正交的多项式.这个在矩形光瞳上正交的多项式不仅是唯一的,而且也能够表示经典像差,就像泽尼克圆多项式在表示圆形光瞳时具有这样的特性一样.矩形光瞳上正交多项式像泽尼克圆多项式一样即可以用...     

清华剑桥合作制备易加工的液晶弹性体智能材料

正液晶弹性体材料在热、光、电、磁等外界刺激下可发生形状的自发改变,作为致动器及感应器在人工肌肉、柔性机器人、盲人显示器等诸多领域的应用前景十分广阔。这种形状的改变是基于高分子内部的液晶有序性,通过光、热、磁等方式改变这种有序性将产生可逆的宏观形状变化。为了使液晶弹性体发生实际意义的形状改变,必须将液晶高分子链作单畴取向(单畴是指液晶分子链中很窄的或单一取向的区域)。传统的两步交联法、外场和界面条件交联法等制备单畴液晶弹性体的工艺,或工艺复杂并成功率低,或仅适用于微米级样品。正因如此,长久以来,这种液晶弹性体材料在现实生活中     

5种常见光模块封装标准形式

正随着光通信技术的不断发展,网络链接速率得到了快速提升,流媒体随之迅速崛起,重塑着我们生活的方方面面。作为网络建设的基本构成之一,光模块在整个网络建设中十分关键。随着技术水平的日益精进,光模块的封装形式也在不断进化。体积正朝着越来越小的方向改变,在速率、功耗、距离、成本等方面也在不断向前发展。那么常见的光模块     

KDP晶体光学均匀性检测实验研究

本文阐述了正交偏振干涉测量技术的基本原理和实验方法.Fizeau干涉仪的输出激光束经过线偏振镜后变为线偏振光,调整偏振方向让光束的偏振态分别平行于KDP晶体的o轴和e轴,得到两幅干涉图.通过这两幅干涉图的差值得到晶体的折射率分布不均匀性.该检测技术借助可改变输出激光偏振态的大口径干涉仪精确地测量晶体在切割方向上.光折射率和e光折射率的偏差.本文所采取的方法是在大口径干涉仪的小端口放入可改变偏振方向的线偏光镜.本文通过对一批330mm×330mm的大口径KDP晶体的折射率均匀性测量验证了该方法.