Al2O3／[SiC＋ZrO2（3Y）]纳米复合陶瓷的制备与性能研究

采用高分散、高稳定混合水悬浮液方法制备Ａｌ２Ｏ３／［ＳｉＣ＋ＺｒＯ２（３Ｙ）］纳米复合陶瓷，研究了纳米ＺｒＯ２（３Ｙ）含量对复合陶瓷性能的影响以及断裂相变量与性能的关系，讨论了ＺｒＯ２应力诱导相变增韧机制与纳米粒子强韧化机制迭加的可能性。     

添加ZrO2对Al2O3—TiB2复相陶瓷性能的影响

论述了在Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２复相陶瓷的基础上添加ＺｒＯ２对Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２复相陶瓷性能的影响；初步探讨了添加ＺｒＯ２后对材料强韧化机理和磨损机理的影响。研究表明，在Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２复相陶瓷中加入ＺｒＯ２后，由于两种增韧机制的协同作用，材料强度和韧性明显提高，同时，ＺｒＯ２的相变增韧作用有利于材料抗磨损性能的提高。     

ZrN在Si3N4—ZrO2陶瓷中的形成与控制

研究了在制备Ｓｉ３Ｎ４－ＺｒＯ２复相陶瓷过程中，ＺｒＮ的形成对该复相陶瓷性能的影响；探讨了从工艺上抑制ＺｒＮ形成的措施。     

加入Y2O3的A1N陶瓷

本文叙述了加入Ｙ２Ｏ３对Ａ１Ｎ陶瓷性能的影响，通过实验证实，当矿化剂Ｙ２Ｏ３的加入量在３％－５％时，Ａ１Ｎ瓷可行到较高的导热率。     

氧化锆材料在陶瓷工业中的应用

氧化锆陶瓷已用作窑炉衬里，窑具、分散介质及球磨介质，加热管生氧敏元件，本文讨论了氧化锆陶瓷的市场特点及各种不同的稳定化作用，陶瓷材料发展的一种新趋势是建立在ＺｒＯ２－Ａｌ２Ｏ３系材料的开发与应用上。     

籽晶法制备低电压压敏电阻器

介绍了对ＺｎＯ－Ｂｉ２Ｏ３－Ｓｂ２Ｏ３和ＺｎＯ－Ｂｉ２Ｏ３－ＴｉＯ２系分别进行的掺杂籽晶的试验研究，研究了籽晶加入对两系统各性能的影响规律；制备了性能优良，压敏电压低（１０Ｖ／ｍｍ）的压敏陶瓷。     

激光处理的等离子喷涂Cr2O3涂层的摩擦学特性

通过对等离子喷涂涂层在Ｎｄ－ＹＡＧ激光处理前和处理后的磨损量对比，研究了激光处理对等离子喷涂Ｃｒ２Ｏ３陶瓷薄涂层的影响，为此，用陶瓷／ＳＡＥ４６２０钢以线接触配对进行了环形试样磨损试验，还讨论了磨损机制和因激光处理引起的涂层中有关孔隙率，显微结构和涂层结合情况的变化。     

由CeO2稳定的ZrO2增强增韧Al2O3材料的机械性能和显微结构

本文叙述了ＺｒＯ２增强增韧Ａｌ２Ｏ材料的制备，其中ＺｒＯ２有未被稳定的中入不同量稳定剂Ａｌ２Ｏ３或ＣｅＯ２于ＺｒＯ２中使其以亚稳四方和形式存在于基体ＡｌＯ２中，并测定其机械性能（硬度、抗弯强度、韧性），研究其不同的显微结构对性能的影响，以及探讨了ＺｒＯ２相变和微裂纹增韧机理。     

CdIn_2O_4和Cd_2SnO_4薄膜X－光电子能谱研究

研究了在Ａｒ＋Ｏ２混合气氛中从Ｃｄ－Ｉｎ和Ｏｄ－Ｓｎ合金靶射频反应溅射而成的ＣｄＩｎ２Ｏ４和Ｃｄ２ＳｎＯ４膜的Ｘ－光电子能谱。实验结果表明了粉末Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３和ＣｄＩｎ２Ｏ４、Ｃｄ２ＳｎＯ４膜的Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ３ｄ３／２和３ｄ５／２ＸＰＳ峰值位置和形状的区别，并讨论了Ｏ１ｓＸＰＳ峰随氧浓度的变化。当氧浓度增加时，Ｏ１ｓ分为两个峰。     

残余应力对ZrO2颗粒增强MoSi2材料的影响

本文介绍了采用热压工艺制备的ＺｒＯ２－ＭｏＳｉ２复合材料。研究结果表明，ＺｒＯ２对ＭｏＳｉ２基体有显著的强韧化作用；着重分析了残余应力对材料性能的影响。     

Al2O3—ZrO2（f）复合陶瓷材料的试验研究

在Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２材料基础上添加５％－１５％ＺｒＯ２（ｆ），结果表明，可使新复合材料的抗弯强度提高１２．３％－５５．６％，抗热震临界温差提高１７．８％－４４．６％，其抗热震 具有动态裂纹扩展的特性。     

AZS陶瓷刀具切削低铬钼球铁轧辊的试验研究

以自研制的ＡＺＳ我相复合新材料与硬质合金（ＹＧ８）对比，采用正交回归设计进行试验，结果表明，ＡＺＳ陶瓷刀具的耐用度比ＹＧＢ的耐用度提高５倍以上。     

某些稀土离子对电沉积CdTd薄膜性能影响的研究

ＣｄＴｅ薄膜半导体电极通过电沉积法制备。电沉积溶液组成对ＣｄＴｅ薄膜组成和性能有较大影响，通过在电镀液中添加某些稀土离子，结合ＸＲＤ、ＴＥＭ、ＸＰＳ和光电Ｉ－Ｖ特性曲线进行分析研究，表明电沉积ＣｄＴｅ薄膜存在择优取向，经２５０℃热处理后，晶粒长大，镀液中添加Ｙ＾３＋、Ｌａ＾３＋、Ｃｅ＾３＋和Ｎｄ＾３＋后增大尤为明显，晶粒线性尺寸最大达２．５－３．０×１０＾－７ｍ左右，并伴有孪晶产生，可提高薄膜Ｃｄ     

某些稀土离子对电沉积 CdTe 薄膜性能影响的研究

ＣｄＴｅ薄膜半导体电极通过电沉积法制备。电沉积溶液组成对ＣｄＴｅ薄膜组成和性能有较大影响，通过在电镀液中添加某些稀土离子，结合ＸＲＤ、ＴＥＭ、ＸＰＳ和光电Ｉ－Ｖ特性曲线进行分析研究，表明电沉积ＣｄＴｅ薄膜存在择优取向，经２５０℃热处理后，晶粒长大，镀液中添加Ｙ３＋、Ｌａ３＋、Ｃｅ３＋和Ｎｄ３＋后增大尤为明显，晶粒线性尺寸最大达２．５—３．０×１０－７ｍ左右，并伴有孪晶产生，可提高薄膜Ｃｄ／Ｔｅ比等，有利于提高ＣｄＴｅ光电性能。经测试，其光电转换效率可增大到２．６—３．３％。     

Cdln2O4和Cd2SnO4薄膜X—光电子能谱研究

研究了在Ａｒ－Ｏ２混合气氛中从Ｃｄ－Ｉｎ和Ｃｄ－Ｓｎ合金靶射频反应溅射而的ＣｄＩｎ２Ｏ４和Ｃｄ２ＳｎＯ４膜的Ｘ－光电子能谱。实验结果表明了粉末Ｃｄ，Ｉｎ，Ｓｎ，ＳｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３和ＣｄＩｎ２Ｏ４，Ｃｄ２ＳｎＯ４膜的Ｃｄ，Ｉｎ，Ｓｎ３Ｄ３／２和３ｄ５／２ＸＰＳ峰值位置的形状的区别，并讨论了Ｏ１ｓ。ＸＰＳ峰随氧浓度的变化。当氧浓度增加时，Ｏ１ｓ分为两个峰。     

赛隆陶瓷——氮化硅陶瓷的替代物

氮化硅已作为主要陶瓷材料而得到使用氮化物陶瘊将成为陶瓷发动机部件的主体，同时在非发动机方面也得到应用，这是属于广义的特种陶瓷中的结构陶瓷材料的例子，是在１５００℃以上高温下制备的无机非金属材料。叙述了以Ｓｉ３Ｎ４为基础而开发出来的一种Ｓｉ－Ａｌ－ＯＮ全致密的多晶氮化物陶瓷－－赛隆陶瓷的有关技术问题。     

ZrO2陶瓷—金属接合技术

本文叙述了用ＴｉＨ２方法进行ＺｒＯ２陶瓷和金属的接合技术，对其接合机理进行了较为详细的分析和讨论。     

ZrO2增强MoSi2复合材料

本文叙述了采用热压工艺制备的ＺｒＯ２－ＭｏＳｉ２二相复合材料；研究表明：复合材料随着ＺｒＯ２含量的增加，其硬度和断裂韧性的增大；同时就ＺｒＯ２颗粒对ＭｏＳｉ２基体的强化效果进行了分析。     

组成和工艺对Al2O3—TiB2复相陶瓷性能的影响

研究了ＴｉＢ２含量及烧结工艺对Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２复相陶瓷性能的影响，发现随着ＴｉＢ２加入量的增加，Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２复相陶瓷的致密化困难，Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＢ２复相陶瓷的强度在ＴｉＢ２加入的体积分数为２０％时最高，而材料的断裂韧性则在ＴｉＢ２体积分数为３０％时最高。     

利用涂层提高Si3N4陶瓷材料的抗氧化性能

采用ｓｏｌ－ｇｅｌ的方法在热压Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料的表面涂上一层ＳｉＯ２涂层或３Ａｌ２Ｏ３．２ＳｉＯ２涂层，并用Ｘ光电子能谱的方法检测了涂层后的Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料表面。