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八十年代,国外Canon,IBM,HP,Ricoh,Xerox等公司开发出由计算机控制、数字扫描、激光成像的高分辨激光打印机,并逐渐占领市场.这种激光打印机具有印刷质量高、寿命长、印刷速度快、版面可任意调制、噪音小等特点.激光打印机的核心器件是有机光... 相似文献
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一种双组分单层结构有机光导体的制备及性能考查蒲嘉陵,焦文化(北京印刷学院技术系信息记录材料实验室,北京102600)关键词单层结构,有机光导体,注入效率目前,有机光导体(organicphotoconductor)大部分采用双层结构,即拥有电荷产生层... 相似文献
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用Y-TiOPc/ETM/HTM三组分掺杂的单层结构有机光导体 总被引:2,自引:2,他引:0
功能分离型多层结构有机光导体的优良静电照相性能以及其在材料开发上的优点是静电照相技术飞速发展并得到巨大产业成功的一个重要因素.另一方面这种光导体需要进行多次精密涂布,制作工艺复杂、控制难度大,是有机光导体成本居高不下的一个重要原因.与此相比,单层结构... 相似文献
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机能分离型有机光导体即复合式有机光导体,它由导电底基(CL)、电荷发生层(CGL)和电荷传导层(CTL)组成,其基础结构为: 相似文献
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本研究将ε-酞菁酮按不同浓度分散在一种聚酯树脂中,并涂布在铝板基上的构成光导体,测试结果表明,这种光导体可用作正充电或负充电光导体,但在相同的有效充电电位下,即,在V-VT(其中VT为临界充电电位)相同的条件下,负充电的表面饱和电压高于正充电的表面饱和电压,当ε-CuPc的质量分数超过40%时,光导体的暗衰减速度过快;当ε-CuPc的质量分数低于20%时,暗衰减速度虽然得到控制,但光衰减速度太低, 相似文献
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系统地研究了在由1-(2,4,7-三硝基)芴基-2,6-二甲基苯胺(DMT-NF),4-(二乙氨基)-苯甲醛-1,1-二苯基腙(DEH)和Y晶型氧肽酞菁(Y-TiOPc)或非金属酞菁(H2Pc)构成的单层结构有机光导体的性能,考查了电荷产生材料(CGM)浓度、电场强度和CGM的种类对光导体静电照相性能的影响。研究结果表明,光导体的量子收率和感光度与CGM浓度有很大关系,正充电时随CGM的浓度的增加而增加,负充电时随CGM的浓度增加而降低。两种光导体在近红外光谱区表现出良好的光敏性,适合LD扫描成像。Y-TiOPc光导体的最高峰在780nm处,半衰曝光量为0.588μJ/cm^2(正充电),0.828μJ/cm^2(负充电);H2Pc光导体正充电最高峰在800nm处,半衰曝光量为1.50μJ/cm^2,负充电最高峰在820nm处,半衰曝光量为1.97μJ/cm^2。 相似文献
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谷恒勤 《精细与专用化学品》1986,(1)
现在,日本激光印刷机用OPC(有机光导体)的开发正处于盛期,纵观有机金属络合物体系的OPC及高分子体系的OPC可知下述三点已成为开发关键:(1)耐印刷力;(2)高速处理性;(3)加工成本的降低。现在,日本的颜料、染料、树脂各生产公司正在展开激烈的开发竞争。产品也开始逐渐上市。预计今后在此领域的角逐将愈来愈激烈。激光印刷机(LP)由于无噪音、印字鲜明,且可进行高速处理,作为可替代过去的 相似文献
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聚N—乙烯咔唑(简称PVC_Z)作为一种新型的有机光导体,已在静电复印、光导热塑全息录相等方面实际应用。由于它具有透明性、柔韧性、成膜性及加工工艺简单,成本低廉等优点,因此,近年来被广泛研究。 相似文献
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本研究采用三硝基芴酮(TNF)高浓度掺杂的高分子树脂作为电荷传输层(CTL),ε-CuPc的高分子分散体系作为电荷产生层(CGL)制作了电子传输型正充电有机光导体,TNF质量分数为10~50%的高分子树脂薄膜在80℃下干燥8h再在常温下保存近半年队然处于完全透明状态,表明该掺杂体系比较好地解决了通常TNF与高分子之间相容性差异,难以实现高浓度掺杂的问题,实验结果表明这种光导体具有良好的表面电荷保持 相似文献
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制备了以酞菁颜料作为电荷产生材料的双组分单层结构光导体,研究了ε-CuPc及Y-TiOPc的浓度与光导体电照相性能的关系,并测定了其分光感光度,结果表明,此类光导体具备感光度和较宽度感色范围,这可由酞菁颜料对ZnO的增感得到解释。 相似文献
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上海玻搪研究所光学纤维小组 《玻璃与搪瓷》1974,(2)
聚焦性光导体自六十年代末问世以来,由于它具有许多优越性,作为一种新型光学纤维材料,引起了人们极大的重视。聚焦性光导体有广泛的用途,在激光通讯上可作为光导体,具有传输容量大的特点;可以作成新型的光学元件,能实现透镜的小孔径化和超短焦距化;信息处理,传送光像和振荡放大器等。 我们知道,聚焦性光导体的最大特点是:垂直中心轴的截面的折射率分布是呈抛物线型 相似文献
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近红外敏感的功能分离型有机光接受体系的光导性能研究Ⅰ.酞菁氧钒晶粒尺寸对其体系光导性能的影响刘广宁,王艳乔,任德源,邱家白(中国科学院化学研究所,北京100080)关键词酞菁氧钒,电照相,光接受器件激光打印和静电复印技术是当今信息处理、加工与传递的重... 相似文献
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聚3—甲基噻吩的光电化学研究 总被引:6,自引:0,他引:6
利用光电化学方法研究了聚3—甲基噻吩的光电化学性质,其禁带宽度为1.93eV.同时确定了它的价带、导带位置.研究还发现聚3—甲基噻吩属于直接跃迁半导体,具有很好的光电流稳定性.得到的最高IPCE值近1.0%。 相似文献
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2—甲基—1,4—萘醌对DNA光敏损伤的诱导作用 总被引:3,自引:0,他引:3
选择波长337nm的激光作为激励光源,借助凝胶电泳研究了2-甲基-1,4-萘醌诱导的DNA光敏损伤。结果表明:在氧气饱和、脱氧条件下光敏损伤显著,DNA损伤主要与光子剂量、核酸与萘醌浓度比及DNA存在形式有关。 相似文献