硫氰基丙基三乙氧基硅烷的合成

以硫氰酸盐、γ-氯丙基三乙氧基硅烷[γ-Cl(CH2)3Si(C2H5O)3]为原料，合成了硅烷偶联剂硫氰基丙基三乙氧基硅烷。讨论了硫氰酸盐和溶剂的种类、反应温度，以及硫氰酸盐、γ-氯丙基三乙氧基硅烷、溶剂的配比对反应的影响。结果表明，以硫氰化钾(KSCN)为原料、二甲基甲酰胺(DMF)为溶剂，且KSCN与γ-Cl(CH2)3Si(C2H5O)3、DMF的质量比为1：2．36：2．4--2．5时，在120--130℃回流反应3h，硫氰基丙基三乙氧基硅烷的收率可达82％左右；其应用性能与德国Degussa公司的Si-264相当。     

新型硅烷偶联剂硫氰基丙基三乙氧基硅烷合成

由硫氰化钾与γ-氯丙基三乙氧基硅烷合成硫氰基丙基三乙氧基硅烷，在温度120—130℃回流反应3h，收率82％左右。该硅烷偶联剂应用于多种天然及合成橡胶的补强，偶联效果好。     

多硫硅烷中硫的质量分数对含白炭黑的低滚动阻力胎面胶性能的影响

制造低滚动阻力轮胎的最新方法是在白炭黑填充的胎面胶中使用多硫硅烷偶联剂。这类配方中偶联剂的作用主要由硅烷中硫的质量分数的分布决定。胶料的加工,物理和动态性能均取决于试验配方中不同键合形态硫的分布情况。配方中多硫硅烷分解时释放出硫,成为硫给予体。测定了通过向含有低硫原子数硫键硫的硅烷中添加适量的元素硫来保持配方中总硫量恒定的效果。     

硫氰基丙基三乙氧基硅烷的合成研究

以γ-氯丙基三乙氧基硅烷(CPTES)和硫氰酸盐为原料,通过相转移催化法合成得到标题化合物。研究了不同的相转移催化剂、反应温度、反应时间、原料配比对反应的影响,通过IR和GC确定了产物的结构和纯度,并与德国Degussa公司Si-264的性能进行了比较。     

二氯二甲基硅烷对锂硫电池性能的影响

采用二氯二甲基硅烷对锂片表面进行预处理,以提高电极的界面稳定性。将预处理的锂片与硫电极组装成锂硫电池,并对其进行充放电测试。结果表明,与以未经预处理锂片作负极的锂硫电池相比,经二氯二甲基硅烷预处理5 min的锂片作负极的锂硫电池的循环性能、倍率性能及库伦效率均得到较大的改善,且预处理时间对电池的性能有一定的影响。     

硅烷含硫原子数对NR硫化胶性能的影响

研究了Ｓｉ６９系列的硅烷偶联剂对ＮＲ胶料力学性能和耐磨性能的影响。试验结果表明，硫原子数影响力学性能和耐磨性，但基本上不影响它们随硫化时间下降的趋势。另外，硫原子数对力学性能和耐磨性、以及耐磨性随硫化时间下降趋势的效应填充体系（炭黑、炭黑、／白炭黑）而异。     

硅硫试剂在有机合成中的应用

硫代烃基三甲基硅烷（ＲＳＳｉＭｅ３）是一种化学性质活泼，应用前景十分广阔的有机硅硫试剂。本文介绍近２０年来它们的一些重要化学性质及其在有机合成中的应用。     

硅烷交联聚乙烯

聚乙烯是一种高分子聚合物,它的分子由线性的分子链组成。当温度提高时,线性分子链之间的结合力(范德华力)就减弱,使整个材料发生形变,因而聚乙烯的耐温性差。而交联聚乙烯在分子间架起了化学链桥,使分子不能发生位移。这样不仅提高交联聚乙烯耐温等级(达95℃),而且物理机械性能也大大提高,克服了诸如蠕变、刚性不足等缺点。可以用廉价的原料、简化的工艺、较低的生产成本、一步生产出性能优良的制品,突破了通用材料原有的     

聚二甲基硅烷合成聚碳硅烷的研究

以聚二甲基硅烷为原料,采用正交设计的方法研究了常压高温裂解重排法中反应温度,裂解温度,保温时间对聚碳硅烷结构的影响,结果发现,该合成方法的最佳工艺条件为：反应温度470－475℃,裂解温度560℃,保温时间6h,3个因素对聚碳硅烷的显著性影响顺序为：反应温度＞保温时间＞裂解温度,从聚二甲基硅烷出发合成的先驱体聚碳硅烷的支化度较低,可纺性好。     

聚二甲基硅烷的合成及光谱分析

以二甲基二氯硅烷（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２）为原料，通过Ｗｕｅｒｔｚ还原反应合成出聚二甲基硅烷。实验表明：纯度高的原料使产物产率大幅提高，用ＵＶ和ＦＴ－ＩＲ对聚二甲基硅烷的结构进行表征。     

硅烷类电子化学品研究进展

硅烷类电子化学品是芯片制造、芯片封装及大规模集成电路等高端元器件和设备制造的关键原材料.综述了氯硅烷、硅烷、含N的硅烷及乙烯基硅烷等电子化学品的研究进展,并对硅烷类电子化学品未来发展趋势进行了展望.     

环己基甲基二甲氧基硅烷的合成

将环己醇氯化,生成的氯人环己烷制成格氏试剂,使之与在甲基三甲氧基硅烷反应。反应产物经精制即为高纯度产品。     

二氯硅烷的生产与开发

二氯硅烷(H2SiCl2 )是一种高价值的电子工业用原料,广泛用于外延硅晶体的化学气相沉积(CVD)和高性能太阳能电池等领域。H2SiCl2的工业化合成方法主要有歧化法、氯化法和氢化法3种,重点介绍了歧化法中所使用的催化剂及工艺。结合使用先进的精制工艺,可满足高端电子产品的需求。同时介绍了H2SiCl2的性质、国外规范及国内外经济概况。     

合成甲基三乙酰氧基硅烷的研究

本文提出了由甲基三氯硅烷和醋酐反应制备一种硅烷偶联剂－甲基三乙酰氧基硅烷。本文论述了对合成工艺的研究及对合成中有重要影响因素的研究过程。     

硅烷工艺探讨

硅烷作为一种全新的环保型前处理产品,在日益增长的环保、健康及资源节约的要求下,成为全面取代传统磷化工艺的希望,本文从硅烷的应用机理、常规工艺及应用要点等方面重点对其进行探讨。     

甲基巯丙基二甲氧基硅烷的制备

本文概述了甲基巯丙基二甲氧基硅烷的制备及市场前景。