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用在磷酸、丙二醇和水组成的抛光液中的失重率和磷化膜的盐水腐蚀实验以及电化学方法,研究了抛光工艺对AM60镁合金抛光效果、磷化膜耐蚀性的影响及AM60镁合金在磷酸系抛光液中的抛光机理.结果表明,用磷酸体积分数为60%~70%的抛光液,在温度40~50℃下抛光3~5 min,得到了较好的抛光效果,同时提高了磷化膜的耐蚀性. 相似文献
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抛光垫是影响抛光加工效率和表面质量的关键因素之一,但影响规律和作用机理尚不清晰。为研究抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响规律,制作有、无固结磨料的表面六边形微细结构抛光垫,分别对YG15硬质合金、单晶Si和单晶4H-SiC三种硬度差异较大的工件进行抛光试验。结果表明:各抛光垫对不同硬度工件抛光效果的影响规律一致,随着抛光工件的硬度增大,各抛光垫的材料去除率(MRR)减小,表面粗糙度Ra增大。抛光垫内的固结磨料能将MRR提高5~10倍,但也会导致Ra增大5~20倍。抛光垫表面微细结构会使得抛光过程中有效接触面积Ap和有效磨粒数Ns减小而导致MRR下降,而抛光垫硬度的增加能够部分弥补抛光垫表面微细结构造成的影响,抛光工件硬度越大,弥补效果越好。增加游离磨料能够有效降低抛光后Ra并提高硬度较大工件的MRR(上升约8%),但对硬度较小工件的MRR有抑制作用(下降约27%)。根据抛光试验结果,建立工件-磨料-抛光垫接触模型,深入分析抛光垫表面微细结构、表面硬度对不同硬度工件抛光MRR和表面质量的作用机理,为不同工件抛光时抛光垫的选择提供了理论基础。 相似文献
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碱性无污染铝合金电化学抛光 总被引:1,自引:0,他引:1
分析了铝的电化学抛光研究现状,通过在碱性溶液中加入添加剂来抛光铝材,获得了一种抛光效果好、使用周期长、工作环境优的环保型抛光工艺。其工作温度45—50℃、抛光时间15~18min。 相似文献
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目的基于磁流变技术研制适用于微孔内壁抛光的装置。方法利用磁流变抛光液的性质,借鉴传统的抛光原理,设计并研制了适用于微孔内壁抛光的抛光装置,并对该装置进行了一系列的性能研究。基于该微孔内壁抛光装置对多孔镍样品及平片硅样品进行了不同条件下的抛光研究,并对抛光结果进行了分析。结果此抛光装置的性能研究结果表明,该装置产生的交变磁场均匀、稳定,符合模拟预期,可用于进一步的样品抛光研究。利用此抛光装置,虽然在多孔镍样品的抛光上没有较为明显的效果,但平片硅样品的粗糙度却由1.24 nm下降至0.56 nm,具有较大改善。在平片硅样品的抛光研究中,进一步发现随着时间的增加,其粗糙度不断下降。结论自行搭建的基于磁流变技术的微孔内壁抛光装置可对平片硅进行抛光。 相似文献
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介绍一种适用于不锈钢抛光用的 ZH-1抛光乳化液,该液具有抛光、润滑、防锈和冷却等多种功能;讨论抛光工艺的操作条件,采用本技术用SUS321板抛制镜面板时,抛光速度可提高24倍,抛光质量可达 R_n<0.04μm。 相似文献
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钆镓石榴石(gadolinium gallium garnet,GGG)晶片是一种性能优良的激光材料,但其在抛光后易产生划痕、效率低。为保证GGG晶片的平面度、提高抛光效率,同时控制划痕现象,使用聚氨酯抛光垫进行机械抛光,研究抛光压力、抛光盘转速对平面度和表面粗糙度的影响。研究表明:使用聚氨酯抛光垫可以有效避免加工过程中产生划痕。在载荷127g/cm2,转速70r/min的条件下,抛光30min后的平面度可达到226nm,表面粗糙度RMS可达到36.3nm;表面缺陷较小,可被后续化学机械抛光很快去除。 相似文献
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<正> 三月初,在广州召开的‘中国模具工业协会模具抛光技术交流会’上,本刊编辑访问了广东省机械研究所副总工程师陈庭柱同志,请他谈谈我国模具抛光技术的现状及今后发展设想。陈总认为:模具的抛光,通常占整个模具制造周期的1/3~1/2,直接影响模具的交货期,抛光的好坏还影响制品的质量和模具的使用寿命,是模具制造中非常重要的一环。目前,我国模具抛光工作,仍以手工抛光为主,辅以机动抛光相结合。工艺方面,从电动抛光 相似文献
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选用两种PVA砂轮,在MM7125精密卧轴矩台平面磨床上对1Cr18Ni9不锈钢进行机械抛光,采用单因素与多因素实验法相结合进行了大量的磨削试验.对抛光机理进行了详尽的分析研究,并解释了用碳化硅砂轮抛光时产生烧伤的原因,获得了较优的抛光工艺参数.认为采用W20 WA PVA砂轮,选取15 m/min的工件速度、0.015 mm~0.02 mm的径向进给量和36m/s的砂轮速度时抛光效果最好,不会产生烧伤,并且抛光效率较高.制定出了较为合理、可用于生产实际的行之有效的抛光工艺参数. 相似文献
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《组合机床与自动化加工技术》2019,(1)
为了探究曲轴抛光中磨料振动对抛光精度及抛光效率的影响,对磨粒振动进行了力学分析,确定了磨料的径向运动与抛光精度及抛光效率的关系。通过UG后处理模块进行了模拟仿真及干涉实验,并改进了一台传统的曲轴抛光机使其能够完成磨料抛光实验。UG运动仿真及抛光实验结果表明,在改进后的曲轴抛光机中增加磨粒径向运动不会产生运动干涉,同时能够大幅度提高曲轴抛光效率及抛光精度。添加磨料振动后的曲轴抛光表面粗糙度可降至0.5μm,抛光效率是未添加磨料振动抛光的三倍以上。 相似文献
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目的 实现微小光学器件高效、高质量、绿色的可溶固着软质磨粒薄膜抛光,对可溶固着软质磨粒抛光薄膜的制备工艺及抛光性能进行研究。方法 研究可溶树脂、不可溶树脂、磨粒和薄膜基底等原料对成膜及抛光性能的影响,探索可溶固着软质磨粒抛光薄膜制备工艺,以光纤连接器作为加工对象验证抛光薄膜的抛光特性。结果 选用双峰SiO2作为磨粒,采用环氧树脂(质量分数为95%)和聚丙烯酸树脂(质量分数为5%)组成的“可溶”混合树脂为结合剂,可实现磨粒层逐步溶解。在磨粒涂覆层中添加5%(质量分数)的硅橡胶可调节磨粒涂覆层成膜后的弹性模量和硬度,使薄膜兼顾抛光性能和耐用性。对PET薄膜基底进行电晕处理可增强其表面附着力。选用含1%(质量分数为)有机硅烷偶联剂的聚氨酯树脂作为PET基底和磨粒涂覆层连接剂,结合强度好,成膜后表面无裂纹。通过光纤端面抛光对比实验发现,可溶固着软质磨粒抛光薄膜的抛光性能和耐用性均优于日本NTTAT抛光片的相关性能。可溶固着软质磨粒抛光薄膜使用25次后,光纤端面仍可保持表面光滑,曲面面形完整,表面粗糙度Ra小于5 nm,回波损耗大于45 dB,连接损耗小于0.1 dB。结论 抛光实验表明,可溶固着软质磨粒抛光薄膜能实现光纤端面的高效精密加工。 相似文献
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湖南城市学院化学系在NaOH溶液中加入EDTA作光亮剂来抛光铝材,可获镜面光亮效果。最佳抛光工艺条件为:光亮剂25~40g/L,操作电压7V,电流密度20A/dm^2,温度45~50℃。在此条件下抛光20min,铝材表面反射率为90%,铝溶解损耗仅18.2mg/cm^2。此工艺在生产成本、操作环境和抛光效果等方面优于传统碱性电化学抛光。 相似文献
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采用浸蚀剂与金刚石抛光膏混合抛光样品,可同时显现其组织。该法对银金钯及其合金进行化学研磨抛光和浸蚀,可去除机械抛光时残留的划痕和形变层,并去除其浸蚀膜而得到良好的金相表面。 相似文献
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为了解决汽车车身抛光技术对于人工抛光工艺的依赖,提出一种用于自适应调节抛光盘位姿和抛光力的串并联抛光机构。该机构能够根据未知曲面的面型特征对x-y平面的位移、偏转和俯仰模态下的角位移以及法向抛光力进行自动调整,实现未知曲面法线方向上的抛光盘位姿和抛光力的准确控制。首先,对应用于自动抛光未知曲面的串并联抛光机构的具体结构和相关参数进行介绍;然后,分别介绍了抛光盘位姿控制和曲面法线方向上抛光力控制原理,基于模态解耦法提出并联机构控制原理;随后,分别描述了抛光盘位姿、抛光盘与曲面接触点之间的相对位置以及抛光力的具体实现方法;最后,提出抛光盘位姿和抛光力自适应协同控制框图,为未知曲面自动抛光的实现提供了一种可借鉴的控制方法。 相似文献
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