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相似文献
 共查询到17条相似文献,搜索用时 78 毫秒
1.
提出了一种采用电化学去除硅片表面有机物的新的清洗方法,用金刚石膜电极作为阳极,电化学氧化硫酸铵溶液生成稳定的强氧化溶液,电解液的氧化性通过间接碘量法测量。通过大量实验,优化初始电解液的浓度以及初始温度等因素,得到氧化强度最佳的电化学清洗液。用自制氧化液进行硅片表面有机物的清洗实验,并与传统的RCA清洗方法进行对比。通过XPS分析可知,采用新的电化学氧化溶液清洗后的硅片表面有机物去除效果明显优于对比实验样品。  相似文献   

2.
采用金刚石膜电极的电化学方式在专用水基清洗剂中不断产生强氧化剂过氧焦磷酸根离子(P2O4-8),并将此方式作为金刚石膜电化学清洗工艺步骤的第一步,用于氧化去除硅片表面的有机沾污.通过与RCA清洗进行对比实验,并应用X射线光电子谱和原子力显微镜进行清洗效果的检测,结果表明,本清洗工艺处理后的硅片表面有机碳含量更少,微粗糙度小,明显优于现有的RCA清洗工艺.  相似文献   

3.
采用金刚石膜电极的电化学方式在专用水基清洗剂中不断产生强氧化剂过氧焦磷酸根离子(P2O4-8),并将此方式作为金刚石膜电化学清洗工艺步骤的第一步,用于氧化去除硅片表面的有机沾污.通过与RCA清洗进行对比实验,并应用X射线光电子谱和原子力显微镜进行清洗效果的检测,结果表明,本清洗工艺处理后的硅片表面有机碳含量更少,微粗糙度小,明显优于现有的RCA清洗工艺.  相似文献   

4.
超声波清洗对LCD性能的影响的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了超声波清洗对液晶器件定向层性能的影响,结果表明:超声波的输出功率、液晶器件的形状与尺寸以及清洗时的放置方式均对定向层的划伤程度产生较大的影响。并在此基础上进行了理论计算,结合实验结果,分析了定向层划伤的原因。  相似文献   

5.
本文针对抛光后晶片的颗粒和有机污染物提出了一种新型清洗方法,它结合了非离子表面活性剂和掺硼金刚石膜(BDD)阳极电化学氧化的优势。非离子表面活性剂可以在抛光后晶片上形成一层保护膜,使晶片表面颗粒易于去除。颗粒去除对比实验结果通过金相显微镜观察得知,体积比为1%的非离子表面活性剂的颗粒去除效果最佳。然而表面活性剂保护膜本身属于有机物,它最终也需要被去除。金刚石膜阳极电化学氧化(BDD-EO)可以用来去除有机物,因为它可以有效降解有机物。三个有机污染物去除对比实验分别为:一是先用非离子表面活性剂再用BDD-EO,二是单纯用BDD-EO去除有机物,第三种是用传统RCA清洗技术。通过XPS检测结果表明,用BDD-EO清洗的晶片表面的有机残留明显少于传统RCA技术,并且晶片表面的非离子表面活性剂也可以有效去除。  相似文献   

6.
紫外光清洗技术是液晶显示器生产过程中的一项重要工艺,同时也是一种有效保障COG制程中良品率的技术手段。本文解释了紫外光清洗的工作原理,从LCD企业的生产实际出发,通过一系列的实验对VUV和E-UV两种紫外光清洗技术的清洗效果进行了对比,并选择出了最佳的E-UV清洗工艺;然后对E-UV清洗的照射时间、照射功率以及照射距离等参数进行了优化,得到了最佳工艺参数;最终企业的量产实验印证了E-UV清洗最佳优化参数的正确性。  相似文献   

7.
在液晶显示器LCD生产过程中,一块玻璃基板上分布很多布线相同的图形,需要按产品尺寸分割,这时要用剪裁设备进行切割加工。这种剪裁设备由两部分组成:一是划线器;二是切割器。现在,已将这种剪裁设备和传送机构以及机械手等组合成自动切割系统投放到市场。本文仅就LCD生产过程中使用的剪裁机,包括其功能和种类等,作简单介绍。  相似文献   

8.
化学机械抛光后,Si片表面残留有机物会影响清洗的综合效果,并会造成器件失效。针对上述问题提出了一种新的清洗方案,用金刚石膜电化学法制备氧化性强的过氧焦磷酸盐溶液,可有效氧化分解表面有机沾污,配合FA/O I型活性剂溶液进行预清洗,去除表面颗粒的同时降低了表面粗糙度。此外,过氧焦磷酸盐被还原成的焦磷酸盐具有很强的络合力,它能与Cu等金属离子络合,达到同时去除金属杂质的目的。研究了氧化液的体积分数对有机物清洗效果的影响,发现氧化液的体积分数为60%~100%时残留有机物去除效果最佳。作为一种新型的清洗方法,清洗效率高且成本低,操作简单可控且环保,符合新时期半导体清洗工艺的要求。  相似文献   

9.
刘承桓 《洗净技术》2004,2(5):35-42
文章首先对液晶显示器的发展历程进行简要回顾,并对各种液晶显示器的工作原理、结构特点作了介绍,其中对薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的基本结构和生产工艺流程做了重点介绍,文章还对液晶显示器的制备过程中采用的洗净技术以及目前国外技术发展的新动向做了较详细的介绍。  相似文献   

10.
液晶显示器的清洗技术   总被引:4,自引:0,他引:4  
刘承桓 《洗净技术》2004,2(3):38-47
文章首先对液晶显示器的发展历程进行简要回顾,并对各种液晶显示器的工作原理、结构特点作了介绍,其中对薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的基本结构和生产工艺流程做了重点介绍,文章还对液晶显示器的制备过程中采用的洗净技术以及目前国外技术发展的新动向做了较详细的介绍。  相似文献   

11.
论述了集成电路制备中Si衬底CMP过程中引入的金属杂质的危害,分析了目前CMP后清洗中金属杂质去除方法的现状和存在问题,通过对金属杂质在Si片表面的吸附进行理论分析,提出了用金刚石膜电化学清洗方法去除.该方法通过阴极对金属离子的吸附并放电还原,达到了去除微量金属杂质的目的,同时使难以去除的重金属杂质也得到了有效去除,减少了环境污染.  相似文献   

12.
电化学清洗在太阳能电池制绒前的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
在太阳能电池制造工业中,为解决硅片制绒前的传统表面处理存在的药剂消耗多以及硅片去除量大的问题,引入电化学清洗的方法。这种方法是利用专用试剂电解后的强氧化性质,通过腐蚀、氧化与清洗的结合,有效清洗硅片表面有机物,且硅片去除量小。从实验中可以看出,去除量减少了1/2。通过应用金刚石膜电极,可高效生产专用试剂电解液。通过XPS显示,电化学清洗能够有效去除有机物污染。对比了电化学清洗与RCA清洗后硅片制绒的效果,证明电化学清洗的制绒效果良好。使用后的电解液经过电极处理后,仍能有效重复使用,说明电化学清洗可有力地控制排放,是大型工业生产中有效去除有机物的方法。  相似文献   

13.
In order to decrease the consumption of reagents and silicon during removal of surface contamination before silicon texturing in solar cell manufacturing industry, a new low-cost surface treatment approach of electrochemical cleaning technique(ECT) is reported. In this technique, a powerful oxidizing electrolyte was obtained from the electrochemical reaction on Boron-doped Diamond(BDD) electrodes, and applied during removal of surface contaminations on silicon wafer surfaces. The slightly polished monocryst...  相似文献   

14.
晶片CMP后表面纳米颗粒的去除研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
对晶片化学机械抛光(CMP)后表面吸附的纳米颗粒去除进行了研究,分析了晶片表面吸附物的种类及吸附机理。由于晶片表面吸附的有机物多为大分子物质,它在晶片表面的吸附除了容易处理的物理吸附外,还会和晶片表面构成化学键,形成难以处理的化学吸附。对清洗过程中颗粒的去除有严重的影响,提出利用电化学清洗,结合表面活性剂和兆声波清洗的方法去除晶片表面的纳米颗粒。经金相显微镜观察和原子力显微镜检测,晶片表面纳米颗粒能得到很好地去除,效果明显优于单纯的兆声波清洗方法。  相似文献   

15.
Organic electrochemical transistors (OECTs) have gained enormous attention due to their potential for bioelectronics and neuromorphic computing. However, their implementation into real-world applications is still impeded by a lack of understanding of the complex operation of integrated OECTs. This study, for the first time, elaborates on a peculiar behavior that integrated OECTs exhibit due to their electrolytic environment—the electrochemical electrode coupling (EEC), which has severe implications on the device and circuit performance, causing a loss of output saturation and a threshold voltage roll-off. After developing a physical model to describe this effect, it is substantiated with experimental data, and the crucial role of the gate electrode is discussed. Furthermore, the impact of the electrode/channel overlap on the saturation in the output curve is evaluated. It is then investigated how its detrimental effect on circuit performance can be minimized, and the optimization of a simple logic gate is demonstrated. This study has fundamental implications for researchers exploring materials and device architectures for OECTs and for engineers designing integrated OECT-based circuits.  相似文献   

16.
Nanodiamonds exhibit great potential as green catalysts for remediation of organic contaminants. However, the specific active site and corresponding oxidative mechanism are unclear, which retard further developments of high‐performance catalysts. Here, an annealing strategy is developed to accurately regulate the content of ketonic carbonyl groups on nanodiamonds; meanwhile other structural characteristics of nanodiamonds remain almost unchanged. The well‐defined nanodiamonds with well‐controlled ketonic carbonyl groups exhibit excellent catalytic activity in activation of peroxymonosulfate for oxidation of organic pollutants. Based on the semi‐quantitative and quantitative correlations of ketonic carbonyl groups and the reaction rate constants, it is conclusively determined that ketonic carbonyl groups are the catalytically active sites. Different from conventional oxidative systems, reactive oxygen species in nanodiamonds@peroxymonosulfate system are revealed to be singlet oxygen with high selectivity, which can effectively oxidize and mineralize the target contaminants. Impressively, the singlet‐oxygen‐mediated oxidation system significantly outperforms the classical radicals‐based oxidation system in remediation of actual wastewater. This work not only provides a valuable insight for the design of new nanocarbon catalysts with abundant active sites but also establishes a very promising catalytic oxidation system for the green remediation of actual contaminated water.  相似文献   

17.
周芳  田萦  姚英 《红外技术》2001,23(4):18-21
对HgCdTe晶片的研磨和抛光,不可避免的要在其表面造成可见的机械划痕和不可见的损伤区.表面损伤对探测器的影响很大,控制好HgCdTe晶片的表面损伤是制备高性能多元探测器一个重要的工艺环节.在本文中,用电化学腐蚀的方法观察到这种不可见损伤区的存在,用电子探针成分分析法验证了实验结果,对电化学腐蚀机理进行了讨论.实验结果表明:通过电化学腐蚀方法可以直接观察HgCdTe表面不可见损伤区;即使是在显微镜下看到HgCdTe晶片有一个光亮和无划痕的表面,也可能存在不可见的损伤区.  相似文献   

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