共查询到20条相似文献,搜索用时 0 毫秒
1.
为制成千兆位级DRAM ,人们期望可实现单元电容器微细化的高介电常数膜材料。为此 ,开发了SiO2 ,膜 /氮化膜、Ta2 O5膜等。而且 ,也期待开发高介电常数电容器材料———钛酸钡锶氧化膜 (BST :(BaSr)TiO3)成膜技术。此时 ,NEC便开发了低温成膜和台阶覆盖性良好的ECR—CVD法形成的BST成膜装置。开发的装置特点如下 :( 1)Ba、Sr、Ti各种材料为挥发性金属化合物 ,Ba、Sr采用decatnate系络合物材料 ;Ti采用醇盐系材料。靠着精密原料输送系统的温控可控制原料化合物的蒸气压 ,进而控制原料输… 相似文献
2.
〖JP+1〗CMOS运算放大器是红外探测器系统读出电路的重要模块,其性能直接影响红外读出电路性能。本文设计了一款适用于高速读出电路的输出级运算放大器,在负载电阻100 kΩ,负载电容25 pF的条件下,使读出电路的工作频率大于20 MHz。输出级运算放大器由折叠共源共栅差分运放和甲乙类推挽反相运放级联构成。折叠共源共栅差分运放可以实现电路高增益、大输出电压范围和高输出阻抗,同时可以有效减小放大器输入端的米勒电容效应。甲乙类推挽反相运放具有高电压电流转换效率,可以灵活地从负载得到电流或者向负载提供电流,实现高电流增益,驱动大负载。两级运放之间通过米勒电容实现频率补偿,保证运放的稳定性。本文设计的高速输出级运算放大器基于SMIC 018μm工艺设计,最终实现指标:功耗不大于10mW,运放增益>84dB,相位裕度79°,单位增益带宽>100 MHz,噪声78 μV(1~500 MHz),输出电压范围1~5 V,建立时间<15ns。通过设计高速输出级运算放大器,红外读出电路的读出速率和帧频得到有效提高。 相似文献
3.
4.
随着多媒体、因特网应用等各种信息业务的不断发展,速度更高更快的计算机、服务器等的大量涌现,以及越来越多的入网用户,局域网的业务量急剧增加,对带宽的要求也越来越高。虽然100BASE-T等主干局域网技术目前还具有极大优势,但随着对带宽越来越高的要求,人们同时也在寻求将ATM等革命性的技术引入局域网领域。由于ATM技术的复杂性、昂贵的建网费用以及额外的管理工具、培训和修改设计等因素,尽管它是一个非常优秀的解决方案,但对于大多数网络管理者来说它并不是一个性能价格比最优的方案。幸运的是,现在的以太网用户又多了项千兆位以太网技术可以选择了。 相似文献
5.
在计算机局域网中,以太网属于中、低速率的网络。目前,在构筑大规模LAN时,100Mbit/s的高速以太网已作为主干网得到普及。从用户角度来看,LAN将从单一的数据通信用的专用网扩展成为同时传送数据,话音和图像的多媒体通信网络。因此,网络必须向提供更高的带宽,更高的带宽利用率及更加灵活的扩展与升级能力方向发展,随着交换式以太网,100Mbit/S高速以太网技术的完善与成熟,网络业界对局域网技术进行了更深入的开发与研究,1996年5月成立的千兆位以太网联盟,帮助IEEE将以太网标准向千兆位速度扩展,推出了作为下一代主干网的… 相似文献
6.
7.
8.
盛柏桢 《固体电子学研究与进展》1990,(1)
<正>据日本《电子材料》1989年第1期报导,日本松下电器产业半导体研究中心已开发成功能适用于亚微米器件新的P沟道晶体管结构LATIPS(LArge Tilt angle IMplanted Puch- 相似文献
9.
10.
11.
美国Roger公司开发了一种新型聚四氟乙烯/陶瓷印刷电路基板.这种称为RO-2800的基板不但可提高超高速多层印刷电路板应用的电性能,而且还比常规印刷电路板材料更适合表面安装技术.随着高速电子计算机更多地采用发射极耦 相似文献
12.
13.
本文介绍了工作频率范围为750—1500MHz的厚膜混合电路声表面波振荡器的设计、研制和性能。 相似文献
14.
15.
16.
17.
提出了一种适用于低电源电压的新型高线性度采样开关.与传统低电压采样开关相比,这种新型采样开关不仅消除了MOS开关由于栅源电压随输入信号变化所引入的非线性,而且进一步消除了MOS开关由于阈值电压随输入信号变化引入的非线性.这是通过采用一个与采样MOS开关具有相同阈值电压的"复制"开关得以实现的.基于Chartered 0.35μm标准CMOS工艺,文中设计了一个此类新型MOS采样开关,在输入信号为0.2MHz正弦波,峰峰值为1.2V,采样时钟频率为2MHz时,无杂散动态范围达到111dB,比栅压自举开关提高了18dB;同时导通电阻的变化减小了90%.这种新型采样开关特别适用于低电压,高精度模数转换器. 相似文献
18.
19.
20.
SanSuny电子公司表示在ZopZ年实现0.13pm工艺技术,并达到千兆位芯片的水平,比预期提早3-4年。该技术包括光刻工艺,高效晶体管制造工艺和三层金属布线工艺。在一块只有拇指甲大小面积的单片4GbDRAM芯片上将容纳40亿位信息或相当于32000页标准报纸的信息量。该新技术可望降低较低容量DRAM成本。由于采用超微技术,对于IGbDRAM而言,SanSully公司将能制造出的电路量比采用0.18Urn工艺技术制造出的多刀叽。该公司采用了新的条宽技术,已成功地生产出了0.13pm技术的16MbDRAMo现有的16MbDRAM一般采用035尸m技术,如改用0.13pm… 相似文献