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为保证重型车载平台调平过程的稳定性和平台水平精度,研究平台调平过程中支点支撑力引起的平台变形,以及对平台空间位置变化和平台水平倾角检测的影响。分析基于水平倾角检测的平台调平时各支点垂直位移量约束关系,提出平台在最大稳定裕量状态下支点支撑力约束条件。利用ANSYS有限元分析方法对实车平台在稳定状态下因支撑力变化所产生的平台变形进行讨论,分析得到平台平面局部水平倾角变化范围超过3′。提出分布式水平倾角传感器安装和测量方案,并通过实验验证该方法有效。结果表明:车载平台调平精度高于1′,并保证平台快速、稳定和准确的调平要求。 相似文献
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自动调平控制系统,满足所需精度。以SIMATIC S7-300可编程逻辑控制器为主控制器件,设计一种自动调平系统,给出系统的硬件构成,设计系统的控制软件。所述的控制方案可广泛应用于各种调平系统中。 相似文献
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精密回转工作台的倾斜角度对角度测量、工件形貌测量的结果产生系统性误差。为消除该影响,提出一种基于平面矢量分析的转台调平方法。以三点支承转台结构为研究对象,通过对转台工作面倾斜矢量的测量与分析,建立平台的调平方程;通过自准直仪测量倾斜矢量可以计算得到支承柱的高度调整量,从而实现转台调平。实验结果表明:现有实验条件下,转台工作面倾斜角的测量标准差为0.6″,经过2次调平可使转台工作面倾斜角小于2.0″。该调平方法具有数学原理简单、调平精度高等特点,可为转台自动调平的实现提供新的途径和方法。 相似文献
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为了满足科学实验过程中对制作半导体器件和微纳米结构的需要,同时避免受到昂贵的工业级电子束曝光(electron beam lithography,EBL)机的条件制约,构建了一种基于普通扫描电子显微镜(scanning electron microsco-py,SEM)的桌面级小型电子束曝光系统.建立了以浮点DSP为控制核心的高速图形发生器硬件系统.利用线性计算方法实现了电子束曝光场的增益、旋转和位移的校正算法.在本曝光系统中应用了新型压电陶瓷电机驱动的精密位移台来实现纳米级定位.利用此位移台所具有的纳米定位能力,采用标记追逐法实现了电子束曝光场尺寸和形状的校准.电子束曝光实验结果表明,场拼接及套刻精度误差小于100 nm.为了测试曝光分辨率,在PMMA抗蚀剂上完成了宽度为30 nm的密集线条曝光实验.利用此系统,在负胶SU8和双层PMMA胶表面进行了曝光实验;并通过电子束拼接和套刻工艺实现了氮化物相变存储器微电极的电子束曝光工艺. 相似文献
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非真实感绘制(Non-Photorealistic Rendering,简称NPR)技术已成为计算机图形学领域最热门的研究方向之一. NPR建立在人类认知的基础上,利用计算机生成不同艺术风格的图形.云南绝版套刻版画是极具云南本土少数民族特色的绘画代表,考察、分析其实际创作过程,揭示其在线条、纹理、色彩运用和创作技法上的特点和规律,对于探索、研究基于图像的云南绝版套刻版画的数字模拟合成关键技术是至关重要的.论文正是基于以上研究,对云南绝版套刻版画中基于线积分卷积LIC的刻痕模拟合成方法、基于多频率噪声场的LIC纹理的混色方法以及刻痕的纹理合成方法进行了初步的探索和实现. 相似文献
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用水平仪测量平面度,或直线度,一般只用分度值为0.02mm/m的水平仪,将测量面调平.笔者认为,再利用分度值更小的水平仪的零位,做进一步的"精确"调平,则测量精度相应提高. 相似文献
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双边剪设备安装采用静压导轨准直--水平综合调整法技术,同时借助精密仪器对静压导轨进行调平,提高了设备安装的精度,保证了移动侧机架在静压导轨上平稳运行。 相似文献
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为提高大型精密电影经纬仪的垂直轴系精度,采用高刚度底座和可变形调平机构。本文对这些结构的设计计算方法进行了分析,推导了主要的计算公式,并附计算实例。 相似文献
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持久蠕变试验机是苏修50年代的产品,精度差,自动化水平低,加载系人工调节,在试验过程中很不方便,几年来我们对该机加载系统配制了自动调平装置,提高了设备自动化程度。 相似文献
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分步重复投影光刻机精密快速定位工件台研究 总被引:9,自引:0,他引:9
介绍了“1.5-2微米实用型分步重复投影光刻机”用的精密快速定位工台的设计,结构特点,精度分析,检测及使用情况。工件台由大行程X-Y工件台,微动台和调平微转台组成。同时该工件台利用大行程X-6工件台粗动兼微动与调平微转台的组合完成了“10:1分步重复投影光刻机”的研制。 相似文献
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《中国新技术新产品》2014,(2)
天线升降调平机构具有二级升降和调平功能,不仅承担了机动式雷达天线的架设和撤收工作,还能够对天线安装面进行自动调平。本文介绍了天线升降调平机构的适用范围、基本组成、工作原理和设计计算,并论述了天线升降调平机构在设计方面是如何满足国军标环境适应性要求的。 相似文献