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用于砷化镓器件的氮化铝薄膜特性 总被引:3,自引:1,他引:2
研究了S-枪磁控反应溅射制备的AlN薄膜的晶体结构、组分以及薄膜的电学特性。用Raman散射方法检测了AlN与GaAs。SiON与GaAs的界面应力,并用AES方法对比研究了AlN/GaAs,SiON/GaAs经800C快速热退火前后两种薄膜对GaAs的掩蔽作用。高温快速热退火后,SiON保护层对GaAs掩蔽失效、界画应力大;而AlN薄膜界面应力小,能有效地防止Ga,As的外扩散。表明AlN对GaAs集成电路技术是一种非常好的绝缘介质、钝化和保护材料。 相似文献
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据报导,美国西屋匹斯堡研究开发中心Kun等人发现一种可将薄膜电致发光(TFEL)器件光输出提高一百倍,以适应某些特需要的新方法。他们实现这一结果是基于一种新的设计,使器件的发光由边缘出射,而不是象通常那样从器件的正面发光。 相似文献
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用于大功率微波器件的新型薄膜衰减材料 总被引:6,自引:3,他引:3
根据大功率微波电真空器件中衰减材料的作用及对衰减材料的要求,介绍了一种新型的FeSiAl薄膜衰减材料,并对这一材料的特点、微观结构及衰减机制进行了分析. 相似文献
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聚对二甲苯类薄膜用于有机电致发光器件的封装 总被引:1,自引:0,他引:1
采用热解化学气相沉积聚合(TCVDP)方法制备了聚对二甲苯(PPX)和聚一氯对二甲苯(PCPX)薄膜材料,利用其对有机电敛发光器件(OLED)进行了封装.利州紫外可见光谱、扫描电镜(SEM)对薄膜的相关性能进行了表征.比较了器件经过两种薄膜封装前后器件的工作寿命.实验结果表明:利用TCVDP方法,可以制备出透明的表面平整、结构致密的聚对二甲苯类薄膜材料;用于OLED)的封装能大幅度地提高器件的工作寿命,经过PPX封装后的寿命为1215 h,经过PCPX封装后的寿命为1 558 h,比未封装的器件寿命(197 h)提高了6~8倍. 相似文献
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本文介绍了光电导,场致发光,和电致变色等光电子功能薄膜及器件,着重于应用于大屏幕显示和可见-红外动态图象转换系统的液晶光阀空间光调制器,电致发光以及场致变色薄膜器的原理,制作及特性等。 相似文献
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本文介绍采用电子束蒸发氧化钇绝缘膜的电特性,并对由这种绝缘膜组成的交流薄膜电致发光器件的发光特性进行了讨论。 相似文献
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PLZT(掺镧锆钛酸铅)陶瓷是一种具有电控光学各向异性性能的光电材料,一直主要应用于显示和光开关器件。目前 PLZT的薄膜研究取得了进展。西德 ITT 标准电气实验室(SET)的研究人员制备了 PLZT 陶瓷薄膜。这种薄膜将有可能用于集成光学元件中。比起陶瓷本身,这种薄膜具有提高其透光率,增大面积,降低成本及工艺简单的优点。此外,它不需要进行光学表面处理,并具有可蚀刻成型的优点。 相似文献
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