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特种气体是具有特殊用途的气体。它是为适应现代电子工业、化学工业、尖端技术、环境保护、医学科学及基础科研、精密检测等需要,于六十年代中期在现代工业气体大规模生产的基础上迅速发展起来的一个新的生产技术体系。特别是大规模集成电路的研制和生产,大型石油化工装置生产过程的自动化等,必需使用电子气体和各种超纯气,以及以超纯气体为基础配制的各种量值可靠的混台气体, 相似文献
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随着全球半导体产业的发展,电子特种气体作为半导体工业重要的基础材料前景光明,充满机遇。主要综述国内外特种气体的市场概况。 相似文献
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综述国外电子特种气体的“超纯”、“超净”技术,一体化供气系统,超微生气体杂质和元素杂质的分析检测技术,电子材种气体市场以及ISO9000系列认证。 相似文献
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1983年以来,世界工业气体的生产规模虽有所扩大,但尚未达到经济危机前的最好水平。由于电子等工业的迅速发展,促使高纯、特种气体的产量在工业气体中增长最快,品种也增加最多,并带动了整个行业的技术进步。近几年所取得的技术进展按品种分述如下:一、氢气1.生产方法(1)以水为原料生产氢,无污染、原料来源不受限制,这一研究领域一直相当活跃。近几年取得的成绩有:①加拿大电解公司建的世界最大的水电解制氢装置,电解熊 相似文献
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论述了工业用标准气,环保气,大规模集成电路、光导纤维、非晶硅太阳电池制造用电子气,MOCVD的源材料—金属有机化合物,以及电子气配套器件国内科研、生产和制造的技术水平及其与国外的差距,指出配套器件技术水平与国外的差距比特种气体技术水平与国外的差距还要大,仅约相当于国外70年代中末期水平,而标准气约相当于国外80年代初中期水平,电子气则相当于国外80年代初期水平。特气生产技术关键是气体纯化技术及高纯或瞄蚀性气体包装技术等。为加速电子气国产化进程,提出了6项政策性措施。 相似文献
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一、工业气体的应用领域目前,工业气体主要用于7个工业部门。1.半导体工业日本半导体制造商不仅制造集成电路芯片,而且还利用这些芯片来制造各种电气设备。1990年,半导体工业用气体中氮气约占70%,主要用于吹扫及作为运载气体。年交付量约11亿 m~3,增长10%。现场装置供气约占氮气供应总量的52%。当集成电路线宽进入亚微米级后,对气体纯度提出更严格要求。1991年8月,NTT 研究与开发中心决定在他们的研究工作中使用7N氮气。对于16MDRAM,IBM 已采用超高纯氮,由帝国氧气公司供应8N 氮气。大阪氧气公司、大同氧气公司均向用户供应8N 氮气。日本氧气公司,Shinyo 氧气公司采用双级精馏设备,向用户提供6~9N 超高纯液氮。采用同样的双 相似文献
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近两年国外特种气体的发展主要有以下几个特点:(1)不断为老品种开拓新的应用市场,为新用途研制配套产品。(2)因需求增加,建立新厂,扩建旧厂。(3)由于能源费用上涨,而使产品大幅度提价。(4)研究新的生产、提纯方法和新工艺。一、为老品种开拓新市场,为新用途研制配套产品由于能源紧张,氢的研究近来非常引人 相似文献
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(1983年下半年一1985年上半年)国家」公产!品及生产_能力投资备空气产品及化学品}氧、氮、氢1,000万关元1953年一。月建成公司液氧气、氮氮、氢35ot/d100t/d佛蒙特州BOuntiful佛罗里达州氏lando不详1984年建,1986年初投产,供电 子、食品等工业用气氮120t/d得克萨斯州Austin数百万美元1984年1月建,6月投产供半 导体工业用氧、氮、氢l,300t/d路易斯安那州4,O。。万美元1984年10月投产高纯氢750,000,ooofts/a加利福尼亚州Sacra- 功en加数百万美元1984年9月建,1956年上半年完 工、占该公司生产能力10务高纯氢路易斯安那州新奥尔良1100。万美元… 相似文献
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(1986~1988年)国家公司产品及生产能力厂址 投资(万美元)备 空气产品和化学品公司 45ot/d 高纯液0:、液N:、液Ar 工业气体研究与开发中心俄亥俄州Middle town1057年建成/英国Brunel大学/1987年动工,实验室面积9 000zn.,办公室面积3e ooom,, 一70万ft./d SN液H:和高纯CO:宾夕法尼亚州 Butler/1986年动工,1987年投产,采用新的PSA工艺2 .st/dH:气纯化厂澳大利亚Linz5e0 1987年建成,与澳大利亚的Chemie Linz公司合作 联合碳化物公司林德分部............1‘..胜.,.︼…...,...‘.eewe. 笑国一人ireo7ot/d高纯0:eN加利弗尼亚州Los Angele… 相似文献
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(1955下半年~卫987上半年),,}。司}产品及生产能力…典国空气产品及化学品公司 液氧、液氮、傲45。t担加利福尼亚州Galt 1986年秋投产,供硅谷地区半导体厂用 高纯氧、氮、盆650t/a 亚利桑那州Cha立dler 1987年春投产,供半导体厂用(扩建) 液氧、抓姐350t/d气氮loot月佛罗里达州Orl明d。 19阳年年中投产,供半导体厂用高纯氧、抓、盆95ot/d 日本钢铁公司八播工厂内1987年下半年投产 高纯氧、氮、笼、450t月 亚利桑那州Cbandler1986年年中建1987年春投产氧、氮、忆30以/d荷兰Rotterd抑2,1 00 1988年初投产供西琢电子、石油、食品、冶金、航天… 相似文献
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公司!型号}长,米!直径,米重量,公斤.容量,升 0。45 0。42J10。3010。44}“·‘3:51磅.9匕J 工al卜J工﹄J工卜口n”﹃日甘nUt)甘nU 0.…O﹄0︸八UO八U,工八J八己一凡︶nUnJ CQ CO CO no ..…︸“︸﹄日八U八“︸n︸B B X BBL L 8 LL英国氧气公司美国联合碳化物公司美国Math。。on气体产品公司美国科学气体产品公司美国空气产品与化学制品公司国外几种小型特种气体容器规格@张方明~~ 相似文献
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传统陶瓷是以粘土为主要原料烧制而成,其成分中含硅酸盐。现在人们研制出了不含硅酸盐的化合物陶瓷,如由氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、硫化物或其它无机非金属材料的陶瓷;此外还有在陶瓷中掺入金属的金属陶瓷和以金属纤维或无机非金属纤维增强的纤维增强陶瓷。这些陶瓷由于化学组成、显微结构及性能不同于普通陶瓷,故称为特种陶瓷或高技术陶瓷,在日本称为精细陶瓷。传统陶瓷成型方法大致有压坯、浇注和旋坯等几种,而特种陶瓷有热压铸、热压、等静压及气相沉积等多种成型方法。特种陶瓷不同的化学组成和组织结构决定了它不同的特殊性质和功能,如高强度、高硬度、高韧性、耐腐蚀、导电、绝缘、磁性、透光、半导体以及压电、铁电、光电、电光、声光、磁光等。由于其性能特殊,这类陶瓷可作为工程结构材料和功能材料应用于机械、电子、化工、冶炼、能源、医学、激光、核反应、宇航等领域,因此,特种陶瓷发展十分迅速,在技术上也有很大突破。 相似文献
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电子工业生存的基础是原材料。世界新技术革命是以微电子技术、生物工程、新型材料、新能源、激光、光导通讯、海洋工程和空间科学等为主要标志,其中以微电子技术为核心。西方主要工业发达国家电子工业已从“新兴工业”发展成国民经济的“基干工业”, 相似文献
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