装饰纹模具制造工艺

模具装饰纹的成形原理、工艺流程及具体的工艺规范、阐述了模具装饰纹加工工艺的特点。     

PVD装饰涂层的新挑战

对于高端产品，长期保持其外观精美至关重要。这就对产品表面涂层的耐磨性提出了很高要求。设想一部手机放在口袋里与钥匙串磨擦许多年，却不会留下任何擦痕。这就是高端产品涂层必须面对的挑战。     

椭圆形装饰盖工艺分析及模具设计

针对装饰盖特有的椭圆形结构,在对其特性及成形工艺特点进行充分分析的基础上,制订了合理的工艺方案.设计了落料-冲孔-拉伸复合模及整形修边复合模,优化了工艺,提高了生产效率,生产出了合格零件.     

在注射成形同时进行表面装饰的新工艺

用复映印刷方法对塑件表面进行装饰大致上有两种方法。一种是在塑件成形后,在模具外面用复映印刷法对塑件表面进行装饰。另一种方法是在注射成形同时,在模具中对塑件复映印刷进行表面装饰,后者是近期开发且正在不断发展的方法。 1.注射同时复映印刷法的原理注射同时复映印刷系统由6个部分组成,复映薄膜、薄膜送料机构、模具、取件机械手、注射机及塑料,图1所示是该系统的结构图;图2所示是     

喷丸强化工艺技术简介

强化喷丸概念 在了解喷丸强化技术之前,有必要将抛丸、喷砂、喷丸三个容易混淆的概念解释一下。这三个概念其实就四个字：喷、抛、丸、砂,其中,喷抛是工艺方法,丸砂是使用的材料。喷,是用高压空气将丸、砂吹到工件的表面,抛是用高速旋转的叶片抛射到工件表面,丸用的是钢丸,砂用的是石英砂。     

模内装饰技术应用进展

简要介绍了模内装饰技术的特点及发展过程,重点论述了装饰膜的结构特点、性能要求、制作方法,以及在模具内的几种常用安装定位方法。比较了2种模内装饰工艺流程特点,展望了模内装饰技术的应用前景,并提出了一些发展建议。     

CSP工艺技术在马钢的应用

介绍CSP生产线的发展概况，对马钢引进的CSP生产线及其应用的新技术进行较详细的论述，并与国内其它CSP生产线进行比照，指出了其自身优势和强大的产品生产能力。     

基于神经网络的建筑装饰用铝青铜铸造性能优化研究

以合金成分、加料顺序、浇注温度这3个神经元作为网络输入层参数,并以耐磨损性能为输出项,构建神经网络优化模型,对该模型进行了预测和验证。对ZCuA110Fe3Mn2、ZCuA114Fe4Mn、ZCuAl10Fe合金的磨损性能进行了测试分析。结果表明,铝青铜合金铸造工艺神经网络模型具有较精准的预测能力和精度。应用神经网络模型优化工艺的ZCuA110Fe3Mn2、ZCuA114Fe4Mn、ZCuAl10Fe合金的磨损体积分别较产线现用工艺减小了23.81%、26.92%、18.18%。神经网络优化的建筑装饰用铝青铜铸造工艺参数为:ZCuA110Fe3Mn2、加料顺序-先铝后铜、浇注温度1180℃。     

上海焊接产品精彩亮相第23届国际五金博览会

春光明媚,和风拂面。3月12日,第23届中国国际五金博览会在上海新国际博览中心开幕。     

电场辅助化学溶液工艺技术制备硅酸锂(Li2SiO3)陶瓷薄膜

采用了一种新的电场辅助化学溶液工艺技术制备了硅酸锂(Li2SiO3)陶瓷薄膜.结果表明,这种方法可在较低的温度下获得成分单一的硅酸锂(Li2SiO3)陶瓷薄膜.利用X射线衍射技术(XRD)对薄膜的晶体结构进行了表征;利用扫描电子显微技术(SEM)观察了薄膜的表面形貌;并对硅酸锂(Li2SiO3)陶瓷薄膜的制备过程进行了详细的分析和讨论.     

圆柱形衬底上高质量金刚石薄膜制备工艺研究

本文以丙酮和氢气为气源，采用优化钽丝排列分布的偏压增强热丝CVD装置对钨丝衬底进行了金刚石薄膜沉积研究。采用扫描电镜(SEM)、拉曼(Raman)光谱等方法检测了金刚石薄膜的质量，分析了沉积工艺对金刚石形核和生长的影响。研究结果分析表明，当直径为1mm的钨丝与热丝之间的最佳距离为4—6mm且反应压力为4665．5Pa、碳源浓度为1．8％时可得到涂层厚度均匀又能覆盖整个钨丝外表面的高质量金刚石薄膜，为以后的自支撑的金刚石薄膜管的制备和回转体刀具的外表面金刚石涂层打下基础。     

Si（100）衬底上制备液氮温区超导薄膜

本文报道用离子束溅射法在单晶Si(100)衬底上沉积YBaCuO超导薄膜的实验结果。Y稳定ZrO_2层作为衬底和超导膜的中间层,具有良好的扩散阻止效果。薄膜具有强烈的c轴织构,其化学组成接近123相。薄膜的超导起始转变温度为100K,零电阻温度为78K。     

磁控溅射制备ZnO缓冲层薄膜的微观结构和光学性能

研究了衬底温度、溅射气压对磁控溅射沉积ZnO缓冲层薄膜的微观结构、表面形貌和光学性能的影响。结果表明,衬底温度、溅射气压对ZnO缓冲层薄膜表面形貌、晶粒尺寸、禁带宽度和光学透过率等有较大影响。综合分析得出最佳的制备ZnO缓冲层薄膜的工艺为250℃、0.6 Pa。在此工艺下制备的ZnO缓冲层薄膜具有很好的ZnO(002)面c轴择优取向,结构致密、尺寸均匀,禁带宽度为3.24 eV,可见光平均透过率为86.93%,符合作CIGS太阳能电池缓冲层的要求。     

PREPARATION OF LN_2 TEMPERATURE REGION SUPERCONDUCTOR FILM ON Si(100) SUBSTRATE

Expermental results of the preparation of YBaCuO superconductor thin film on Si(100)substrate by the method of ion beam sputtering deposition is presented.A ZrO_2 buffer layerwas applied to Si(100)substrate,and was found to play an important role in resisting thediffusion of Si toward the film.The thin film is mainly a 123 phase with strong c-axis prefer-red orientation.The onset transition temperature of the film is 100 K and the final transitiontemperature 78 K.     

射频磁控溅射沉积ITO薄膜性能及导电机理

将In2O3和SnO2粉末按质量比1：1热压烧结制成靶材，采用射频磁控溅射制备了高性能的ITO薄膜。实验结果表明：氩气压强对薄膜的电阻率、可见光透射率TVITL有着重要的影响，其最佳值为0．2Pa。ITO膜的方阻、TVIL和颜色与膜厚有着密切的关系。提高基体温度ts可以改善薄膜的性能，在ts为200℃时，ITO薄膜的1k达到90％以上（含玻璃基体），方阻为13．1Ω／□。根据薄膜生长的3个阶段理论，建立了薄膜厚度与电阻率的关系：在ITO薄膜生长过程中，依次出现热发射和隧道效应、逾漏机制以及Cottey模型导电机理。由实验结果求得了临界厚度吐约为48-54nm，AFM表征结果进一步表明ITO薄膜随着厚度增加表现出不同的导电机理和尺寸效应。     

Growth of MgO Thin Film on Silicon Substrate by MOCVD

Highly oriented MgO(111)and MgO(100)thin films have been deposited on Si(111)and Si(100)substratesby using Low Pressure MOCVD(LPMOCVD).Magnesium 2,4-pentanedionate was used as the source ma-terial.The films have a very smooth surface morphology and optical transparency with an index of refractionof 1.71(632.8 nm).Typical growth rate of the films is 1.0 μm/h.The data of X-ray diffraction analysis indi-cate that the films are fully textured with(111)and(100)orientation perpendicular to the substrate surfacerespectively.The main parameters having influence on the deposition are the substrate temperature,the totalpressure in the reaction chamber,the reaction gases and its flowrate.     

柔性基底上直流磁控溅射沉积金属铝膜的研究

采用直流磁控溅射法在棉布、涤纶、芳纶织物上制备金属铝膜,研究了铝膜的沉积速率、组织结构和表面形貌。结果表明:在一定的范围内,沉积速率随溅射功率的增大近似呈线性增加,随溅射气压的增加先升后降;基底材料对铝膜的组织结构有较大影响,在涤纶和棉布上沉积的铝膜才呈现出典型的多晶态面心立方结构,在芳纶和涤纶上获得的铝膜较棉布上的铝膜更为均匀、致密;在一定范围内,溅射功率的增大有助于提高铝膜质量。     

金属间化合物Ni3Al薄膜制备工艺

采用直流磁控共溅射法,通过一步法、两步法工艺在衬底为SiO₂基体上制备了厚度为500 nm的Ni₃Al薄膜,X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)等测试表明,一步法工艺制备的Ni₃Al薄膜为(111)取向的多晶型晶体结构金属间化合物优于两步法工艺。采用光学显微镜观察Ni-Al合金薄膜和金属间化合物Ni₃Al薄膜经高温氧化后的形貌,结果表明,Ni₃Al金属间化合物薄膜的高温抗氧化性能明显优于Ni-Al合金薄膜。     

薄板坯连铸机结晶器的主要特点及其技术进步

介绍了薄板坯和中薄板坯连铸机结晶器的形状和主要特点,对比分析了不同类型结晶器内钢液的表面积、钢液流动、结晶器传热、薄板坯厚度、拉坯速度等对连铸过程和铸坯性能的影响,讨论了鞍钢ASP采用的先进技术,指出近年来新建和改造的薄板坯连铸机结晶器厚度呈现增加的趋势,从而解决了设备运行的一些问题,改善了铸坯的品种质量.