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纳米WO3薄膜是一种典型的功能性纳米材料,在电致变色、气敏性、共催化及光致变色等方面有着广阔的应用前景。本文综述了纳米WO3薄膜的几种常用制备方法并进行了比较,最后对纳米WO3薄膜的发展前景作出展望。 相似文献
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纳米WO3薄膜是一种典型的功能性纳米材料,在电致变色、气敏性、共催化及光致变色等方面都有着广阔的应用前景。综述了纳米WO3薄膜的几种常用制备方法并进行了比较,对纳米WO3薄膜的发展前景作出展望。 相似文献
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WO3(三氧化钨)薄膜厚度的选择对电致变色器件性能有至关重要的作用。通过TFCalc软件理论计算WO3薄膜褪色态、着色态透过光谱及其光学调制幅度变化;通过在FTO(氧化锡掺氟)玻璃上制备氧化钨薄膜,研究分析不同厚度氧化钨晶体结构与光学调制幅度相关性。对比研究发现:WO3厚度的选择应根据着色态透过率和实际的光学调制幅度确定,光学理论计算WO3薄膜的调制幅度有一定的局限性,这与晶态WO3薄膜的结构发生变化有关。 相似文献
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WO3是用于电致变色玻璃的阴极电致变色材料之一,采用溶胶凝胶法制备WO3薄膜具有设备简单、成本低、适合大面积制膜等特点,WO3溶胶的稳定性是一个值得深入研究的课题.采用过氧化聚钨酸法制备WO3溶胶,主要考察了钨粉-H2O2反应温度、过氧聚钨酸-乙醇反应温度、钨粉和H2O2配比等因素对溶胶稳定性的影响.研究结果表明:钨粉和H2O2反应在冰水浴中进行时控制温度在8℃以下可避免白色沉淀物过多产生.当钨粉与H2O2摩尔比为1∶7,过氧聚钨酸-乙醇反应温度为45~ 50℃,并再在80℃浓缩后可以得到稳定性和成膜性好的透明的橘黄色溶胶. 相似文献
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WOx:Mo薄膜的结构及电致变色性能研究 总被引:5,自引:0,他引:5
采用反应磁控溅射工艺,以纯钨和纯钼为靶材在ITO玻璃上制备Mo掺杂WOx电致变色薄膜,用薄膜的透射光谱和XRD衍射方法对掺杂后薄膜的电致变色性能和结构进行了分析,研究了Mo掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理。实验结果表明:在一定掺杂范围内,Mo掺杂对薄膜电致变色性能有较大提高;掺杂越均匀,对薄膜电致变色性能的改善越显著。影响薄膜电致变色性能的相应掺杂量由溅射时间表示,相对掺量存在最佳值,即7.7%附近,薄膜的变色性能可得到最大的提高,按实验结果趋势分析掺杂量存在有效范围,超出有效掺杂范围,掺杂便会失效。XRD分析表明,掺杂Mo之后的WOx薄膜仍为非晶态,且非晶态有增强的趋势。 相似文献
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采用直流反应磁控溅射法制备了具有不同电致变色性能的Ni_xO_y薄膜。通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、场发射扫描电子显微镜、电化学工作站、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜物相、价态组成、微观结构和电致变色性能。研究表明:金属镍靶直流反应溅射所制备的薄膜结晶状态与表面微结构对氧流量反应敏感,即在很小的氧流量变化范围内薄膜呈现出不同的晶相与表面形貌;氧化镍薄膜在不同的制备条件下展现出了独特的表面微结构,XRD结果显示薄膜成分为NiO,而通过薄膜元素XPS分析发现其中的Ni并非只有单纯的二价,三价的Ni亦存在,且Ni2+/Ni~(3+)之比约为2:1。最终氧流量、溅射压强、溅射功率分别为1.6 m L/min、2.0 Pa、50 W时获得较优变色性能的Ni_xO_y薄膜,其可见光区最大电致变色幅度达到约55%。 相似文献