牙膏用二氧化硅的研制

论述由硅酸钠和硫酸制备适用于牙膏及透明牙膏的二氧化硅，所得产品含二氧化硅w(SiO2)≥92.0%，结构水w(H2O)为3.5%-4.5%;pH值6.2-7.0。粒径6-12μm。松密度200-300g/L。吸油值90-150ml/100g，辐射牙本质磨损（RDA）值5070，折光率1.400-1.445。     

牙膏摩擦剂二氧化硅的研制

以硅酸钠和硫酸为原料，采用沉淀法工艺，控制釜底液碱浓度0．2～0．3moL／L、反应温度80-95℃、反应时间30-90min、反应pH8-10、熟化时间10-30min,助剂质量浓度15-30g/L，合成透明牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂。着重考察了釜底液碱浓度、助剂质量浓度等对二氧化硅性能的影响。此种二氧化硅摩擦剂的比表面积为30-54m^2／g,邻苯二甲酸二丁酯（DBP）吸收值为0．9-1．4mL／g，平均粒径为6～10μm，辐射牙釉质磨损（RDA）值低于150，pH为6-7，水分质量分数为3％-5％。此种二氧化硅引入到透明牙膏中，体系透光率为40％-85％。     

二氧化硅在牙膏中的应用

简述了二氧化硅的制备方法，着重介绍了其在牙膏中的应用及发展前景.     

二氧化硅在牙膏中的应用

简述了二氧化硅的制备方法，着重介绍了其在牙膏中的应用及发展前景。     

用作牙膏磨擦剂和增稠剂的二氧化硅

综述了沉淀法二氧化硅用于牙膏增稠剂和磨擦剂的作用和技术要求。增稠型二氧化硅引入牙膏配方后提供很好的假塑性和触变性，增稠作用显著，长期贮存稳定性好。二氧化硅作为牙膏磨擦剂具有洁齿能力强、物理性能好、化学性质稳定、与牙膏膏体中其它配料的相容性好的优点。特别指出了低磨蚀、低折光率的二氧化硅用于儿童牙膏和透明牙膏。     

二氧化硅及其牙膏的清洁性能研究

通过采用透射电镜微观观测及建立清洁值测试模型手段，测定不同类型的二氧化硅（Silicon dioxide）粉体的微观状态及使用其作为磨擦剂的牙膏的磨擦清洁性能，以便对配方设计进行正确的指导。     

高纯二氧化硅的研制

硅酸钠溶液与硫酸反应得二氧化硅,再经酸洗、水洗、干燥和煅烧得高纯二氧化硅。研究了各种因素对高纯二氧化硅中杂质含量的影响。     

大颗粒、高浓度硅溶胶的制备新方法

以水玻璃为原料,采用滴加工艺制备一定粒径大小的二氧化硅作为母核;采用在催化剂和分散剂共同作用下水解硅粉的方法使母核二氧化硅颗粒进一步增长,得到了高均匀分布的平均粒径在100nm以上、浓度可达50％的二氧化硅溶胶。并对新方法下pH值、温度以及母核SiO2的浓度、粒径大小对二氧化硅平均粒径及其均匀性的影响进行了分析。研究结果对制备大颗粒、高浓度的硅溶胶具有积极意义。     

硅酸乙酯为原料反相微乳液法制备纳米二氧化硅

采用NP-5/环己烷/去离子水体系制备反相微乳液,绘制了该体系的三元相图,并以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,在碱性条件下受控水解反应制备了纳米SiO2粒子,探讨了[n(水)∶n(表面活性剂)](用R表示)和[n(水)∶n(TEOS)](用H表示)对SiO2纳米粒子粒径的影响。通过扫描电镜(SEM)和激光粒度仪对样品形貌和粒子大小和粒径分布进行了表征。结果显示:扫描电镜下观察到的SiO2粒子为无定型球形颗粒,粒径在200～500 nm的范围,激光粒度仪分析得到的平均粒径随着R和H的增大而增大。     

Hydrothermal Treatment of a Silica Sand Complex with Lime

The feasibility of using relatively low-purity silica as the starting material for hydrothermal solidification was investigated from the consideration of effective utilization of natural resources. Hydrothermal solidification was performed at 140°–180°C for periods ranging from 2 to 40 h using a mixture of 80% silica sand (containing 67% quartz, 22% clay minerals (mica, clinochlore, and kaolinite), and 7% feldspar) and 20% Ca(OH)₂. Within the range of experimental conditions, the flexural strength of the solidified bodies increased with increased treatment temperature and treatment time, reaching values of up to 20 MPa. The flexural strength was proportional to the amount of, but independent of the type of, reaction products. Hydrogarnet and C-S-H were formed in the initial stages of the reaction; the amount of these phases tended to decrease, and 1.1 nm tobermorite formed as the reaction further progressed. These results indicated that hydrogarnet and C-S-H were precursors of 1.1 nm tobermorite.     

硅橡胶用白炭黑的制备

以浓硫酸为原料合成硅橡胶用白炭黑,研究了反应温度和反应时间对白炭黑吸油值、堆积密度、和中位径的影响.研究发现:随着反应时间的延长吸油值先增大后减小,堆积密度先减小后增大,中位径先减小后增大.随着反应温度的提高,吸油值先增大后减小,堆积密度先减小后增大,中位径逐渐减小.通过对这些实验因素进行综合分析优化,确定最佳反应温度为85 ℃,反应时间为25 min,制备了适合硅橡胶补强用的白炭黑.     

陶瓷液pH值对碳化硅陶瓷涂层的影响

用不同pH值下的硅酸钠溶液涂覆碳化硅,得到二氧化硅陶瓷涂覆的碳化硅颗粒,用光学显微镜分析了碳化硅颗粒表面的形貌,测定了不同条件下合成的碳化硅亲水性,并对比了纯碳化硅和改性碳化硅对酚醛树脂的润湿性。结果表明,陶瓷液pH=10时所得的碳化硅颗粒陶瓷涂层最为均匀,陶瓷涂覆的碳化硅颗粒的亲水性最好,碳化硅与酚醛树脂的润湿性不如改性的碳化硅颗粒的好。     

水玻璃为源的超疏水型SiO2气凝胶块体制备与表征

采用廉价的水玻璃为硅源,通过乙醇溶剂替换及六甲基二硅醚和盐酸混合液对湿凝胶的表面基团改性,常压干燥出疏水介孔的SiO2气凝胶块体。制得的SiO2气凝胶块体具有超疏水性,在0～400℃附近,疏水角约155°～130°,其密度为80～200 mg/cm3,比表面积为568 m2/g,孔体积为2.9cm3/g,其室温下的热导率为0.026W/（m K）。     

利用废硅胶生产五水偏硅酸钠的研究

概述了五水偏硅酸钠的市场现状,介绍了以废硅胶为原料生产五水偏硅酸钠的实验方法。通过实验,得出了优化实验条件为:模数采用0.5~0.8,波美度在35~50°,加热废硅胶及浓缩结晶的温度为90~100℃,时间为持续沸腾5min以上,采用自然降温法,时间在10h左右。最终制得良好的晶体,其中氧化钠含量为28.5%,氧化硅含量27.3%,产品质量达到国内同类产品的一级品标准。     

Sodium Coordination Environments in Silica Films

The local structure centered on sodium after diffusion in silica (Na-SiO₂ samples) has been determined by means of extended X-ray absorption fine structure (EXAFS) studies. The Na-SiO₂ samples are of particular interest because (i) their sodium content can be varied over a wide range of concentration and (ii) their local structure is representative of that of soda–silica glass. EXAFS analyses reveal the existence of a well-defined local structure involving oxygen, sodium, and silicon neighbors. The Na-O, Na-Na, and Na-Si bonds lengths, which amount to 0.23, 0.30, and 0.38 nm, respectively, do not depend on sodium concentration. This environment closely resembles that found in soda–silica glass. Moreover, it is compatible with the "target site" and "the site memory effect" suggested by recent theories of the ionic conductivity in oxide glasses.     

高纯硅溶胶制备及在加氢精制催化剂中的应用

以市售硅溶胶为晶种,水玻璃为原料,采用离子交换及络合除杂等方法,制备了粒径为20~24 nm、质量分数为40%的高纯硅溶胶。分析了硅溶胶制备过程中的主要影响因素,即晶种浓度、反应过程pH、除杂过程络合剂选型。通过透射电镜（TEM）、纳米激光粒度仪、比表面积测试（BET）等方法对制备的高纯硅溶胶进行了分析。实验结果证明了该制备工艺的可行性。测试了制备的高纯硅溶胶在加氢精制催化剂中的应用效果。