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单相驱动旋转型驻波超声电机的运动机理 总被引:1,自引:0,他引:1
尽管单相驱动的旋转型驻波超声电机的原型样机早已研制成功,但对这类电机的运动机理的研究却一直局限在定性研究上。对于单相驱动的旋转型驻波超声电机来说,定子上的齿是运动传递的关键部分。因此对齿的运动特性的研究对进一步研究定、转子的摩擦接触过程有很重要的意义。以单相驱动的旋转型驻波超声电机为研究对象,通过假设定子的振动模态法对单相驱动的旋转型驻波超声电机的定子上的齿的运动特性进行了理论推导,并作了计算机仿真研究,得出了齿的运动轨迹以及速度曲线。 相似文献
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面向超声电机定子的一体化与微型化需求,提出了一种基于钎焊与微电子机械系统(MEMS)工艺的微型超声电机定子。对超声电机的原理和结构进行分析,利用有限元法对定子的模态与谐响应进行了仿真。利用钎焊工艺将锆钛酸铅(PZT)压电陶瓷与金属弹性体进行连接,通过MEMS与机械加工工艺对定子的驱动足、上电极等进行制备。对超声电机定子焊接情况进行表征,对超声电机的振动性能与驱动性能进行测试。测试了PZT压电陶瓷与金属弹性体的结合强度,两者之间的抗剪切强度为33.46 MPa,观察了焊接截面形貌,可看出各焊接层厚度均匀,无裂缝、孔隙。搭建实验平台对定子的振动性能与驱动性能进行了测试,微型超声电机的定子的谐振频率为188.15与266.16 kHz,最大振幅为228 nm,在激励电压为30 V、预压力为350 mN时,微型超声电机的最大速度为38.22 mm/s。实验结果表明,该超声电机定子钎焊情况良好,驱动性能较高,具有广阔的应用前景。 相似文献
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为提升旋转行波超声电机输出性能,研究其在不同负载下的最优预压力,针对TRUM-70H超声电机进行了理论计算和实验验证。建立超声电机动力学模型,分析了预压力对超声电机机械特性的影响;以TRUM-70H超声电机为对象,分析其最优预压力与负载力矩间的关系;搭建超声电机多功能测试平台,验证理论推导结果,并指出误差存在的原因;根据研究结论,提出超声电机装配时应根据负载选用预压力。结果表明,预压力和负载力矩对超声电机转速的影响存在耦合关系;在超声电机有效工作范围内,最优预压力值与负载力矩近似呈线性正相关;装配时根据实际负载需求设定超声电机预压力,可提高其输出效率。 相似文献
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阐述了旋转型行波超声电机(TRUM)寿命试验的原理和试验条件。对本研究所研制的TRUM系列进行了寿命试验,应用线性最小二乘法曲线拟合其试验数据,得到了电机在额定载荷和空载状态下的运行速度-时间曲线。从这些曲线初步揭示了该类超声电机全寿命过程的磨合期、稳定工作期和损耗期的不同工作阶段,并发现超声电机具有二次磨合期和二次稳定工作期。该结果对超声电机的产业化具有重要的参考意义。 相似文献
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压电超声电机及其应用 总被引:12,自引:9,他引:3
近年来,国外研制成功许多新型的压电超声电机,它们具有高性能、大转矩、高效率、小型化和低成本等优点。这些电机包括超声线性电机;采用圆环形结构的弯曲振动的行波电机;利用椭圆振动的压电振动器的旋转电机以及采用三角形压电双晶片元件制作的超声电机等。本文评述上述各种电机的工作原理、结构、材料、性能及其主要应用。 相似文献
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介绍了微电子机械系统中的关键执行部件——超微电机,包括静电型微电机、电磁型微电机、超声波微电机等。分析了原理、分类及各自的特点,概述了超微电机的研制发展过程,综述了微电子机械系统中微电机的发展趋势。 相似文献
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驻波型自校正超声电机的研究 总被引:1,自引:2,他引:1
介绍了自校正超声电机的转动机理,用有限元法分析了该电机定子的振动模态,得到了适合电机运转的工作模态—— B12模态,并且设计和制造了驻波型自校正超声电机。该电机定子直径为40 m m ,高为 1.5 m m ,电机工作频率为 30 k Hz~33 k Hz,能够实现正、反转并具有自校正的能力,设计计算与所做的实验结果基本吻合。 相似文献
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Maxwell's equations and their solutions have been examined from the point of view of the full rotation group. Two mapping theorems have been derived which give the rotational symmetries of the radiated electric and magnetic and Poynting's vector field as a function of the symmetries of the electric current density which acts as the radiating source. 相似文献
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Simulation and analysis for microstructure profile of optical lithography based on SU-8 thick resist
《Microelectronic Engineering》2007,84(5-8):1100-1103
Profile simulation of optical lithography is very useful for micro-fabrication of microstructure with high sidewall quality. In this paper the light wave propagation, exposure and development process were analyzed, and modeling for thick film lithography was developed to accurately and rapidly obtain simulated results. The effect of exposure dose on the profile quality after development were simulated and discussed, which show that these process parameters have a great impact on the profile quality of microstructure. With guidance of the simulation and analysis, the micro-gear and micro-piston of micro-motor fabricated by SU-8 thick resist were presented. 相似文献