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对某电子接插件高速连续电镀中的换线过程进行了研究和优化.通过将部分内部换线时间转变为外部换线时间,缩短内部换线时间及改善外部换线时间等步骤,使换线过程中的停机时间由原来的89 min 31 s缩短为17 min 18 s,大大缩短了换线时间,提高了开机率. 相似文献
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在自动电镀线上对铜基引线框架表面电镀铜镀层,并以Sn–Pb合金进行钎焊试验.采用扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)考察了镀层和焊接截面的显微结构及元素分布,研究了拉片速率对镀层微观形貌、Sn–Pb合金的润湿行为以及焊接截面元素分布的影响.结果表明,拉片速率越大,铜的沉积时间越短,电镀层的致密性越差,对Sn–Pb合金的钎焊性也越差.以8 m/min拉片速率形成的铜镀层表面平整、致密,钎焊后的Cu/Sn界面连接完整,具有较好的微观结构和焊料润湿效果. 相似文献
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0前言电子接插件的基材主要是铜及其合金。为了提高基材的导电性、耐蚀性和耐磨性等性能,大多数产品表面要进行电镀处理。在电子接插件的电镀生产工艺中,高速连续电镀具有镀速快、节约贵金属、自动化程度高及产品质量稳定等优点,被大多数电镀厂家广泛采用。本文介绍了电子接插件高速连续电镀的设备、类型、工艺流程及常见故障处理等。 相似文献
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连续离子交换技术在硝酸钾生产中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
传统的离子交换是在固定树脂床上进行。固定床的主要缺点是吸附剂不能有效利用;再生化学品消耗大;占地面积大;以及由于进料浓度低,导致产品浓度低等缺点。而连续离子交换技术是80年代开发的一种全新的分离技术,该技术简称ISEP(离子分离),与传统的固定床离子交换技术相比具有以下优点。 相似文献
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综述了乙二醇在镀锡,镀锌,镀锡锌合金,镀铜锡合金等电镀工艺中的应用,以及在清洗,抛光,活化,腐蚀,黑化 退镀等工艺溶液中的作用,内容涉及23份参考文献。 相似文献
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介绍了用于分立器件的氨基磺酸盐镀镍工艺。探讨了添加剂和工艺条件对镍镀层性能的影响。提出了镀镍液的维护及镀液中杂质的去除。 相似文献
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针对小直径钢管镀铜速度提高后存在镀层不牢、光亮度差等问题,对镀铜设备进行了改进,并采用一种环型喷嘴进行喷射搅拌,提出一种新的高速镀铜的工艺流程方案。该方案使镀铜速度提高到150 m/m in,钢管表面镀层致密,牢固,光洁明亮,完全能满足冰箱冷凝器、蒸发器生产用钢管的要求。该方案取得了显著的经济效益。 相似文献
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概述了高速连铸的技术特点及其对结晶器保护渣的要求,论述了高速连铸结晶器用保护渣必须保证的理化性能,总结了高速结晶器保护渣的研究现状,并提出了今后对高速连铸保护渣研制工作的建议。 相似文献
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无氰镀银清洁生产技术 总被引:4,自引:1,他引:4
氰化镀银有害环境及健康,已被限制使用并逐渐淘汰,本文在硫代硫酸盐镀银工艺的基础上,通过加入辅助剂及光亮剂,获得了较为理想的无氰镀层,从而开发出一种无氰镀银清洁生产技术。介绍了该无氰镀银的基本原理、工艺规范、前后处理以及镀层的保护方法,并指出了该项技术存在的问题、测定了厚度为10~15μm的该无氰镀银层的结合力、焊接性能、电阻、防腐蚀性能及耐高温性能,并与相同厚度的氰化镀银层进行了比较结果表明,该无氰镀银层质量不亚于氰化镀银层。 相似文献
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分析了黑瓷封装IC外引线镀锡中出现的封装玻璃发白、表面粗糙、封装玻璃与外引线连锡造成引线极间短路的原因,提出了解决方法。 相似文献
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研究了一种非自动化控制化学镀镍连续生产工艺。介绍了化学镀镍工艺流程及镀液配方,着重探讨了化学镀镍过程中镍液成分的消耗、分析及补充,介绍了镀槽的阳极保护设计及镀液的维护,确定了化学镀镍连续生产工艺。该工艺所得镀层光滑、致密、耐蚀性好,槽壁无金属镍析出。 相似文献
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介绍了由氧化铅与冰醋酸在一定温度下反应生成碱式醋酸铅,碱式醋酸铅在一定条件下与二氧化碳反应生成碱式碳酸铅,再经沉淀、抽滤,制得结晶产品。探讨了溶液pH、反应温度、二氧化碳流量、水中的杂质、总铅质量分数等对碱式碳酸铅结晶的影响,得出了制备碱式碳酸铅的最佳工艺条件:pH=6.5时停止通入二氧化碳,反应温度25~30℃,二氧化碳流量控制在0.5~3L/min,把河水或自来水经过离子交换处理,溶液中总铅质量分数控制在2%~5%。 相似文献
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双脉冲DMS氰化光亮镀银工艺技术的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了双脉冲氰化光亮镀银的工艺流程和工艺配方。讨论了脉冲电源参数、镀液中的硝酸银、氰化钾和DMS光亮剂的质量浓度以及镀液温度对镀层质量的影响。对镀层缺陷产生的原因进行了分析。实践证明,与直流电镀相比,在20~30℃的镀液中,采用双脉;中DMS氰化光亮镀银工艺,可以获得外观光亮的银镀层,且其抗变色性能增强.同时生产效率提高30%,每年可以节约银20%、铜刷72只、工时1240h。 相似文献