国内外类金刚石膜技术现状专利分析

类金刚石(DLC)膜是由sp3键和sp2键组态的碳混合组成,已广泛应用到电子、光学、机械等领域.采集1975～2007年国内外DLC技术专利,建立专利数据库,从技术和竞争两个方面对其发展脉络和竞争格局进行定量和定性分析,揭示出国内外DLC技术已处于成熟阶段;半导体电子、光电信息、机械加工、耐磨部件以及医疗器材是其重点应用领域;世界上前10位申请人基本上是美国、日本和德国的跨国企业;在申请数量和质量上国外申请人在我国都占很大优势;目前国内DLC市场基本为国外企业垄断;最后提出了一些发展我国DLC技术的专利战略.     

稀土金属抛光金刚石膜技术

研究开发了一种有效地抛光化学气相沉积金刚石厚膜的技术。该技术利用化学活性很强的稀土金属镧的金刚石的化学反应，在一定的工艺条件下可对金刚石膜进行有效的抛光。抛光绵高低与抛光温度有关，在温度大于９００℃时抛光效率较高，可达３４μ／ｈ，表面度可从原来的Ｒａ １２μｍ降至Ｒａ１．６μｍ，如用于后续的精抛光，可大大光的时间和提高抛光效率，使表面十分粗糙的金刚石厚膜的精抛光能得以经济地进行。     

金刚石和类金刚石研究及其电声领域中的应用

金刚石和类金刚石膜是当今材料界的研究热点之一，有着极其诱人的应用前景。本文简要综述了该膜系的发展过程和现在水平。并结合作者自己的研究工作，对膜系应用于扬声器振膜以上提高其高频响应范围的研究和应用工作进行较全面的调研，综述了国内外在该领域的最新进展。     

从专利文献分析化学气相沉积金刚石膜技术进展

化学气相沉积金刚石膜具有优异性能,在高新技术领域有着广泛应用。本文从国内外专利文献方面着重分析化学气相沉积金刚石膜技术研究与应用进展。     

金刚石和类金刚石膜研究及其在电声领域中的应用

金刚石和类金刚石膜是当今材料界的研究热点之一，有着极其诱人的应用前景。本文简要综述了该膜系的发展过程和现在水平。并结合作者自己的研究工作，对膜系应用于扬声器振膜上以提高其高频响应范围的研究和应用工作进行较全面的调研，综述了国内外在该领域的最新进展。     

中国LED驱动技术专利态势分析

选择"七国两组织"中文专利数据库,采集1985年1月1日到2008年12月31日期间的LED驱动技术专利文献,建立专利数据库.再选择广东专利信息服务平台分析系统分别从专利申请总量、重点专利技术和重点专利持有人等方面,对LED驱动技术专利进行了深入分析,并对比分析了国内外LED驱动技术专利现状,提出了发展我国LED驱动技术的专利策略.     

基于专利地图的企业专利布局设计研究

合理的专利布局设计能够使企业全面掌握行业内的技术实力,准确识别竞争对手,抢占技术制高点.专利地图可以将相关专利信息系统化、直观化、图形化,为了解行业动向、指引研发方向,从而进行专利布局提供依据.从专利布局角度出发并结合专利地图知识,将企业专利布局设计流程简化为4种模型,即专利数据采集模型、企业发展状态模型、竞争对手定位模型和技术潜力发展模型,通过对每一种模型的制作和分析,使企业明确自身的发展状态、竞争者的威胁以及行业技术发展潜力,从而有效地进行专利布局设计,提高竞争力.最后以金刚石工具行业中的某企业为例进行验证.     

中国海水淡化专利分析研究

对1989年到2011年期间在我国申请的海水淡化专利进行专利分析研究,揭示国内海水淡化领域创新活动的发展状况、特点、发展规律,并对海水淡化技术的发展提出建议,以期为企业和科研机构的创新活动提供参考和帮助.     

基于专利分析的PCD超硬刀具发展态势研究

聚晶金刚石(PCD)超硬刀具因具备优异的力学、光学、电学、热学、声学和生物学等特性,在超硬刀具领域占据尤为重要的地位.基于德温特专利数据库,利用ITGInsight文献分析工具,依次对全球范围内的PCD超硬刀具相关专利进行了总体态势分析、区域布局分析、主要专利权人实力分析、研究热点分析以及核心专利识别.重点对PCD超硬...     

中国硅晶体专利现状分析

采用国家知识产权局的专利检索与服务系统及中国专利检索系统文摘数据库,并以中国专利文献检索系统为补充,采集在我国申请的硅晶体专利文献。对专利类型、申请量年度分布、地域分布、重点技术领域分布、主要申请人、PCT专利申请以及专利审批结果等情况进行统计分析,以期揭示我国硅晶体专利申请的整体发展趋势。     

SiC在异质衬底生长金刚石膜的作用分析

利用扫描电子显微镜 (SEM)、Raman光谱分析了Si衬底上金刚石膜核化和生长的过程 ,并着重分析了核化过程产生的SiC的性能。利用划痕法测量了在WC衬底上沉积SiC和未沉积SiC时生长金刚石膜的粘附力 ,同时还分析了WC衬底上有和没有SiC沉积层时表面附近金刚石膜的内应力。结果表明 ,SiC层大大地增强了含碳粒子的聚集和金刚石膜与衬底之间的粘附性 ,降低了金刚石膜与衬底之间的内应力     

等离子体法制备类金刚石膜的研究

等离子体法制备超微材料是比较理想的方法之一，采用等离子体法制备类金刚石膜，近年来有了很大的进展，通过比较可知；等离子体法可以在低温下进行化学合成反应，实现了低温化学气相反应过程。     

基片预处理对MWPCVD金刚石薄膜的影响

利用自行研制的石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜装置，研究了硅基片的不同预处理方式对沉积结果的影响。通过扫描电子显微镜形貌观察和喇曼谱分析表明，基片预处理能提高形核密度；用于预处理的金刚石研磨膏的粒度不同，影响金刚石薄膜沉积时的形核密度、晶形和薄膜的质量；表面划痕对沉积金刚石薄膜的影响具有双重性。     

金刚石厚膜的制备及应用研究

用电子增强热灯丝ＣＶＤ（化学汽相沉积）方法制备出膜厚为０．１－２ｍｍ的金刚石厚膜，研究了金刚石厚膜的耐磨性和热导特性，用它制作了金刚石膜焊接刀具和半导体激光器用金刚石膜热沉。     

通过过渡层改善金刚石膜和基底间的结合性能

介绍了在金刚石膜和基底间通过施加过渡层以改善金刚石膜与基底间的结合性能的研究成果。金刚石膜可以通过过渡层沉积于多种基底上,如Ｓｉ、ＳｉＯ２ 、陶瓷（ＳｉＣ,Ａｌ２Ｏ３） 、钢及硬质合金基底等。过渡层有单层（ 如ＤＬＣ、Ｃ６０ 、Ｙ ＺｒＯ２ 、Ｃ Ｎ 膜、ＴｉＣ或ＴｉＮ） 和多层（ 如Ｍｏ／Ｎｉ、Ｍｏ／ＴｉＮ 或Ｂ／ＴｉＢ２／Ｂ 等） 之分,根据金刚石、过渡层及基底的晶格匹配性和热学匹配性,对于不同的基底应选择不同的过渡层。     

硬质合金YG8上金刚石薄膜的成核研究

利用调节基底表面碳流量的方法促进了热丝ＣＶＤ中硬质合金ＹＧ８上金刚石薄膜的成核，使成核期大为缩短，根据扫描电镜和拉曼光谱对沉积结果的分析，研究了ＹＧ８上金刚石薄膜成核的机理。     

Luminescent Properties of Porous Si Passivated by Diamond Film and DLC Film

Surface passivation methods for porous Si (PS) surfaces, i.e., depositing diamond film or diamond-like carbon (DLC) film on PS surfaces, were attempted. Two emission bands, weak blue band and strong red band existed in the PL spectrum of diamond film coated on PS, were discovered by the photoluminescence measurements. The luminescent mechanism and stability were discussed. The results indicated that diamond film may stabilize the PL wavelength and intensity of PS, and therefore could become a promising passivation film of porous Si. The PL properties of PS coated by DLC films, including hydrogenated diamond like carbon (DLC:H) film and nitrogen doped DLC film (DLC:N) were also studied in this paper. The DLC films may stabilize the PL of PS, but the photoluminescent intensity was obviously weaker than that of diamond film coated PS.     

金刚石声表面波器件的研究与进展

高频无线通讯系统的迅速发展推动了对高频声表面波 (SAW)器件需求的不断增大。金刚石具有最高的声速和许多优于其他材料的特性 ,因此金刚石声表面波器件受到了越来越多的关注。本文介绍了金刚石声表面波器件的构成、制备方法 ,讨论了金刚石声表面波器件近年来国际上的研究进展 ,包括理论研究与实验进展的概况 ,并讨论了金刚石声表面波器件的未来发展趋势